一种具有烘干效果的硅片清洗装置制造方法及图纸

技术编号:33388766 阅读:25 留言:0更新日期:2022-05-11 23:04
本实用新型专利技术提供一种具有烘干效果的硅片清洗装置,属于硅片清洗技术领域,包括清洗舱,清洗舱内安装有清洗池,清洗池内储存有清洗液,清洗池的上侧设置有下置盒、上置盒和U形架,上置盒的一侧通过铰轴活动连接于下置盒,U形架位于上置盒的上侧,U形架上设置有转动组件,转动组件用于带动下置盒和上置盒旋转,清洗舱上设置有升降组件,升降组件用于带动下置盒和上置盒上下移动;实现快速清洗,提高清洗效率,同时下置盒和上置盒结合呈圆柱形,硅片放置于下置盒和上置盒之间的卡槽,限制硅片的位置,避免硅片堆叠在一起,保证足够的清洗效果,更完全的清洗。更完全的清洗。更完全的清洗。

【技术实现步骤摘要】
一种具有烘干效果的硅片清洗装置


[0001]本技术属于硅片清洗
,具体涉及一种具有烘干效果的硅片清洗装置。

技术介绍

[0002]在米粒大的硅片上,已能集成16万个晶体管,这是科学技术进步的又一个里程碑,地壳中含量达25.8%的硅元素,为单晶硅的生产提供了取之不尽的源泉。由于硅元素是地壳中储量最丰富的元素之一,对太阳能电池这样注定要进入大规模市场的产品而言,储量的优势也是硅成为光伏主要材料的原因之一。
[0003]目前一般采用硅片清洗槽完成对硅片表面的清洗,即将装有硅片的花篮通过抓手放入槽体中通过清洗液将硅片表层的杂质除去,此种方式硅片容易堆叠在一起,从而造成清洗不够完全,清洗效率较差。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种具有烘干效果的硅片清洗装置,旨在解决现有技术中采用硅片清洗槽完成对硅片表面的清洗,即将装有硅片的花篮通过抓手放入槽体中通过清洗液将硅片表层的杂质除去,此种方式硅片容易堆叠在一起,从而造成清洗不够完全,清洗效率较差的问题。
[0005]为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种具有烘干效果的硅片清洗装置,包括清洗舱(1),其特征在于,所述清洗舱(1)内安装有清洗池(2),所述清洗池(2)内储存有清洗液,所述清洗池(2)的上侧设置有下置盒(3)、上置盒(4)和U形架(5),所述上置盒(4)的一侧通过铰轴活动连接于下置盒(3),所述U形架(5)位于上置盒(4)的上侧,所述U形架(5)上设置有转动组件,所述转动组件用于带动下置盒(3)和上置盒(4)旋转,所述清洗舱(1)上设置有升降组件,所述升降组件用于带动下置盒(3)和上置盒(4)上下移动。2.根据权利要求1所述的一种具有烘干效果的硅片清洗装置,其特征在于,所述U形架(5)的两侧均固定连接有轴套(7),所述下置盒(3)的两端转动贯穿两个于轴套(7),所述下置盒(3)和上置盒(4)的另一侧之间设置有锁扣(6)。3.根据权利要求2所述的一种具有烘干效果的硅片清洗装置,其特征在于,所述转动组件包括减速电机(8)、主动轮(9)、从动轮(10)和皮带(11),所述减速电机(8)固定连接于U形架(5)的上端,所述主动轮(9)固定连接...

【专利技术属性】
技术研发人员:魏小刚游贤敏
申请(专利权)人:英乐威环保科技常州有限公司
类型:新型
国别省市:

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