成膜支架、生物芯片、装置、制备方法及其应用制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种成膜支架、生物芯片、装置、制备方法及其应用，本发明专利技术提供的成膜支架包括绝缘基体和绝缘层，绝缘层设置于绝缘基体上，绝缘层包括第一绝缘层和第二绝缘层，绝缘基体、第一绝缘层和第二绝缘层依次叠设，第一绝缘层中设置有储液腔，第二绝缘层中设置有与储液腔连通的成膜腔，成膜腔和储液腔朝向背离绝缘基体的方向开口，沿从绝缘基体至第二绝缘层的方向，成膜腔的开口尺寸逐渐增大。本发明专利技术提供的成膜支架制备的分子膜稳定性好。提供的成膜支架制备的分子膜稳定性好。提供的成膜支架制备的分子膜稳定性好。

【技术实现步骤摘要】
成膜支架、生物芯片、装置、制备方法及其应用


[0001]本专利技术属于生物检测
，尤其涉及一种成膜支架、成膜支架的制备方法、生物芯片、分子膜的制备方法、纳米孔表征生物分子的装置及其应用。

技术介绍

[0002]在纳米孔基因测序
，通常需要在生物芯片上形成分子膜，以在分子膜上嵌入纳米孔结构。当生物分子(例如多核苷酸、多肽、多糖或脂质)通过纳米孔时，由于不同结构的分析物所引起的电流阻断程度不同，从而可以通过测量电信号如电流的变化，分析获取生物分子的序列排布信息或修饰信息等。
[0003]现有分子膜通过具有腔体的支架制备而成，分子膜在腔体中的成膜位置主要依靠极性与非极性介质层界面所在位置控制，但由于介质层界面为中间凸、两侧凹的液面，导致分子膜在腔体中的成膜位置难以精确控制，制备得到的分子膜的稳定性也难以保障。

技术实现思路

[0004]本专利技术实施例提供了一种成膜支架、成膜支架的制备方法、生物芯片、分子膜的制备方法、纳米孔表征生物分子的装置及其应用，以解决现有分子膜制造设备制备得到的分子膜稳定性不佳的问题。...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种成膜支架，用于形成分子膜，其特征在于，所述成膜支架包括：绝缘基体；和绝缘层，设置于所述绝缘基体上，所述绝缘层包括第一绝缘层和第二绝缘层，所述绝缘基体、所述第一绝缘层和所述第二绝缘层依次叠设，所述第一绝缘层中设置有储液腔，所述第二绝缘层中设置有与所述储液腔连通的成膜腔，所述成膜腔和所述储液腔朝向背离所述绝缘基体的方向开口，沿从所述绝缘基体至所述第二绝缘层的方向，所述成膜腔的开口尺寸逐渐增大。2.根据权利要求1所述的成膜支架，其特征在于，第一绝缘层的内表面构成所述储液腔的储液表面，所述第二绝缘层的内表面构成所述成膜腔的成膜表面，所述第二绝缘层背离所述绝缘基体的顶面与形成所述成膜腔的所述成膜表面平滑连接，所述成膜表面与形成所述储液腔的所述储液表面平滑连接。3.根据权利要求2所述的成膜支架，其特征在于，所述成膜表面为倾斜面或弧形面。4.根据权利要求2所述的成膜支架，其特征在于，所述第二绝缘层还包括自所述成膜表面凸出设置的支撑凸起。5.根据权利要求4所述的成膜支架，其特征在于，所述支撑凸起的数量为多个，多个所述支撑凸起沿从所述储液表面到所述顶面的方向依次设置。6.根据权利要求5所述的成膜支架，其特征在于，多个所述支撑凸起中的每个所述支撑凸起包括支撑沿和上升沿，所述上升沿沿从所述绝缘基体至所述第二绝缘层的方向延伸，所述支撑沿沿所述绝缘基体所在水平面延伸，沿从所述储液表面到所述顶面的方向，依次设置的各个所述支撑凸起的所述支撑沿到所述绝缘基体的距离逐渐增加。7.根据权利要求5所述的成膜支架，其特征在于，多个所述支撑凸起中的每个所述支撑凸起包括下降沿和上升沿，所述下降沿设置于所述上升沿远离所述成膜腔的轴线的一侧，沿从所述储液表面到所述顶面的方向，依次设置的各个所述支撑凸起的所述上升沿的顶点到所述绝缘基体的距离逐渐增加。8.根据权利要求5所述的成膜支架，其特征在于，所述支撑凸起包括与所述顶面相连的多个依次连接的第一凸起，以及连接所述第一凸起和所述储液表面的第二凸起；沿从所述储液表面到所述顶面的方向，依次设置的各个所述第一凸起的顶点到所述绝缘基体的距离逐渐增加。9.根据权利要求8所述的成膜支架，其特征在于，所述第二凸起的数量为多个，多个所述第二凸起依次连接；沿从所述成膜腔的轴线至所述成膜腔的边沿方向，各个所述第二凸起的顶点在同一平面上。10.根据权利要求4所述的成膜支架，其特征在于，所述成膜支架还包括多个微凸起，多个所述微凸起至少设于所述成膜表面、所述储液表面和所述支撑凸起中的任一个。11.根据权利要求1至10中任一项所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：张喆，夏晓翔，宋璐，
申请(专利权)人：成都齐碳科技有限公司，
类型：发明
国别省市：