一种电子装置壳体与电子装置制造方法及图纸

本申请适用于显示设备领域，提出一种电子装置壳体，其包括基底和设于基底一侧的颜色膜，所述基底为玻璃，所述颜色膜包括交替层叠的多层五氧化二铌层和多层二氧化硅层交替层叠，颜色膜的厚度为500nm

【技术实现步骤摘要】
一种电子装置壳体与电子装置


[0001]本申请涉及电子设备领域，尤其涉及一种电子装置壳体与电子装置。

技术介绍

[0002]近年来，通讯飞速发展，科学技术新旧交替，手机笔电等电子产品对手机外壳的要求越来越高。金属后壳对信号有屏蔽作用，不满足5G产品的需求。玻璃后盖对信号没有屏蔽和干扰，满足轻量化和5G信号传输的需求。随着光学膜的发展，镀膜搭配油墨的方式迅速涌入市场，占据了3C产品后盖半壁江山。随着人们审美品位的不断提高，单一的颜色膜已经无法满足人们的审美需求。为了迎合人们不断提升的审美，本专利技术旨在制造出一种具有三种色彩渐变的玻璃盖板。

技术实现思路

[0003]本申请提供了一种电子装置壳体及电子装置，旨在使用玻璃与镀制光学膜工艺技术，旨在制造出一种具有三种色彩渐变的玻璃盖板，满足人们日益增长的审美需求。
[0004]本申请提供一种电子装置壳体，其包括基底、颜色膜和黑色油墨层，所述基底为玻璃基底，且所述基底具有第一表面和第二表面，所述基底的第一表面设置有颜色膜，所述颜色膜包括交替层叠的多层五氧化二铌层/五氧化三钛和多层二氧本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种电子装置壳体，其包括基底(10)、颜色膜(20)和黑色油墨层(30)，所述基底(10)具有第一表面和第二表面，所述颜色膜(20)设于所述基底的第一表面，其特征在于，所述颜色膜(20)包括交替层叠的多层五氧化二铌层/五氧化三钛和多层二氧化硅层，颜色膜(20)的厚度为500nm
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800nm。2.如权利要求1所述的电子装置壳体，其特征在于，所述颜色膜(20)为8层结构。3.如权利要求2所述的电子装置壳体，其特征在于，所述颜色膜(20)包括依次设于基底(10)上的第一五氧化二铌层(21)、第一二氧化硅层(22)、第二五氧化二铌层(23)、第二二氧化硅层(24)、第三五氧化二铌层(25)和第三二氧化硅层(26)、第四五氧化二铌层(27)和第四二氧化硅层(28)。4.如权利要求3所述的电子装置壳体，其特征在于，所述颜色膜(20)包括依次设于基底(10)上的第一五氧化三钛层、第一二氧化硅层(22)、第二五氧化三钛层、第二二氧化硅层(24)、第三五氧化三钛层和第三二氧化硅层(26)、第四五氧化三钛层和第四二氧化硅层(28)。5.如权利要求3所述的电子装置壳体，其特征在于，所述第一五氧化二铌层(21)的厚度为100
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150nm，第一二氧化硅层(22)的厚度为100
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150nm、第二五氧化二铌层(23)的厚度为20
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50nm、第二二氧化硅层(24)的厚度为10
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100nm、第三五氧化二铌层(25) 的厚度为100

【专利技术属性】
技术研发人员：胡良云，何云富，邱荣福，王士敏，朱泽力，
申请(专利权)人：深圳莱宝高科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：