超导腔真空密封法兰、射频超导腔及其制备方法技术

本发明专利技术涉及一种超导腔真空密封法兰、射频超导腔及其制备方法，包括如下部件：密封法兰本体，所述密封法兰本体的密封面为刀口密封面；过渡转接，其为管状结构，所述过渡转接的外壁与所述密封法兰本体的环形空腔内壁固定连接，内壁与射频超导腔本体的端部外壁固定连接。该射频超导腔所采用的真空密封法兰，可以显著降低密封结构的制作成本，并提高射频超导腔的真空密封可靠性，提高射频超导腔的装配效率。率。率。

【技术实现步骤摘要】
超导腔真空密封法兰、射频超导腔及其制备方法


[0001]本专利技术涉及一种超导腔真空密封法兰、射频超导腔及其制备方法，属于粒子加速器


技术介绍

[0002]射频超导谐振腔(简称超导腔)是超导带电粒子加速器的核心部件，其主要作用是将其中的射频电磁场储能转化为带电粒子的动能，使加速器获得高品质的带电粒子束流。为了使束流能够保持足够的寿命，并且不断地被积累和加速，到达设计的能量和流强，超导腔必须处于高真空环境(真空度好于10
‑7Pa)。目前研制超导腔的首选材料是RRR值大于300的金属铌，但是该种类型的铌硬度(HV
10
)小于60，无法用来制作真空密封结构。
[0003]由于铌钛合金能与金属铌通过电子束焊进行连接，被国内外实验室选用射频超导腔体真空密封结构的原材料，其法兰密封面主要为平面密封结构，然而该密封结构会导致超导腔经常发生真空泄漏，需要花费大量的人力、物力和财力对超导腔重新进行表面处理和装配，影响大科学工程的进度。另一方面铌钛合金的价格高(约2500元/公斤)，导致射频腔体的造价高。因此，急需一种本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种超导腔真空密封法兰，其特征在于，包括如下部件：密封法兰本体(1)，所述密封法兰本体(1)的密封面为刀口密封面；过渡转接(3)，其为管状结构，所述过渡转接(3)的外壁与所述密封法兰本体(1)的环形空腔内壁固定连接，内壁与射频超导腔本体(2)的端部外壁固定连接。2.根据权利要求1所述的超导腔真空密封法兰，其特征在于，所述密封法兰本体(1)的硬度(HV
10
)为170～200，所述过渡转接(3)的硬度(HV
10
)为100～130。3.根据权利要求1所述的超导腔真空密封法兰，其特征在于，所述过渡转接(3)为铌钛合金过渡转接。4.根据权利要求3所述的超导腔真空密封法兰，其特征在于，所述铌钛合金过渡转接中铌的含量为(20～40)wt％。5.根据权利要求1所述的超导腔真空密封法兰，其特征在于，所述刀口密封面的刀尖圆角半径(4)为0.16～0.2mm。6.根据权利要求1所述的超导腔真空密...

【专利技术属性】
技术研发人员：王若旭，徐孟鑫，何源，刘通，张升学，刘鲁北，蒋天才，黄玉璐，李春龙，王志军，
申请(专利权)人：中国科学院近代物理研究所，
类型：发明
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