表层随机介质模型建立方法、装置、电子设备及介质制造方法及图纸

技术编号:33297684 阅读:9 留言:0更新日期:2022-05-06 12:02
本申请公开了一种表层随机介质模型建立方法、装置、电子设备及介质。该方法可以包括:根据自相关函数,建立随机过程功率谱与二维随机场;根据随机过程功率谱与二维随机场,计算随机功率谱;计算随机功率谱的二维傅里叶逆变换,获得随机扰动,进而计算随机扰动的均值及方差;建立关于自相关函数的随机扰动,进而获得随机介质模型。本发明专利技术利用随机介质建立的表层速度场模拟的地震数据,在地震波走时准确的前提下,保留了地层不均匀性产生的高频扰动,使得模拟数据更接近野外实际。使得模拟数据更接近野外实际。使得模拟数据更接近野外实际。

【技术实现步骤摘要】
表层随机介质模型建立方法、装置、电子设备及介质


[0001]本专利技术涉及油气勘探地球物理的地震物理数值模拟
,更具体地,涉及一种表层随机介质模型建立方法、装置、电子设备及介质。

技术介绍

[0002]在地震勘探过程中,准确的获取地震波在地下介质中的传播速度,一直是地震勘探的核心和难点问题之一,尤其是近地表速度模型的建立。
[0003]近地表速度建模的方法有很多,如折射法、面波法、层析法等。但传统的地震勘探中,是以均匀介质或层状介质假设为基础的,忽略了实际地层中的局部非均质性,建立的表层速度模型只能满足旅行时走时准确,而无法反应地层非均质性的特点。
[0004]随着地震勘探技术的不断发展,复杂油气藏的勘探越来越重要,地层的局部非均质性,特别是表层的非均质性对勘探结果影响较大。用传统介质理论对这些地质异常的描述比较困难,只能用等效模型对地层中的非均质性进行近似。地震波通过等效速度模型时旅行时是正确的,但是缺少异常体的散射现象,相当于剔除掉的地层模型中的高频成分,只模拟了实际地震勘探中地震波的低频成分。
[0005]因此,有必要开发一种表层随机介质模型建立方法、装置、电子设备及介质。
[0006]公开于本专利技术
技术介绍
部分的信息仅仅旨在加深对本专利技术的一般
技术介绍
的理解,而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域技术人员所公知的现有技术。

技术实现思路

[0007]本专利技术提出了一种表层随机介质模型建立方法、装置、电子设备及介质,其能够利用随机介质建立的表层速度场模拟的地震数据,在地震波走时准确的前提下,保留了地层不均匀性产生的高频扰动,使得模拟数据更接近野外实际。
[0008]第一方面,本公开实施例提供了一种表层随机介质模型建立方法,包括:
[0009]根据自相关函数,建立随机过程功率谱与二维随机场;
[0010]根据所述随机过程功率谱与所述二维随机场,计算随机功率谱;
[0011]计算所述随机功率谱的二维傅里叶逆变换,获得随机扰动;
[0012]建立关于所述自相关函数的随机扰动,进而获得随机介质模型。
[0013]优选地,所述随机过程功率谱为:
[0014][0015]其中,为随机过程功率谱,是的原像,k
x
,k
z
为像函数的自变量。
[0016]优选地,通过公式(2)计算所述随机功率谱:
[0017][0018]其中,Ψ(k
x
,k
z
)为随机功率谱,为随机过程功率谱,θ(k
x
,k
z
)为二维随机场。
[0019]优选地,所述随机扰动为:
[0020][0021]其中,ψ(x,z)为随机扰动,Ψ(k
x
,k
z
)为随机功率谱。
[0022]优选地,建立关于所述自相关函数的随机扰动包括:
[0023]计算所述随机扰动的均值及方差;
[0024]根据所述随机扰动的均值及方差,建立关于所述自相关函数的随机扰动。
[0025]优选地,关于所述自相关函数的随机扰动为:
[0026][0027]其中,σ(x,z)为关于自相关函数的随机扰动,ψ(x,z)为随机扰动,d为随机扰动的标准差,μ为随机扰动的均值,ε为关于自相关函数的随机扰动的标准差。
[0028]优选地,所述随机介质模型为:
[0029]υ(x,z)=υ0(1+σ(x,z))
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(5)
[0030]其中,υ(x,z)为随机介质模型,σ(x,z)为关于自相关函数的随机扰动,υ0为随机模型的初始速度。
[0031]作为本公开实施例的一种具体实现方式,
[0032]第二方面,本公开实施例还提供了一种表层随机介质模型建立装置,包括:
[0033]傅里叶变换模块,根据自相关函数,建立随机过程功率谱与二维随机场;
[0034]随机功率谱确定模块,根据所述随机过程功率谱与所述二维随机场,计算随机功率谱;
[0035]傅里叶逆变换模块,计算所述随机功率谱的二维傅里叶逆变换,获得随机扰动,进而计算所述随机扰动的均值及方差;
[0036]随机介质模型建立模块,建立关于所述自相关函数的随机扰动,进而获得随机介质模型。
[0037]优选地,所述随机过程功率谱为:
[0038][0039]其中,为随机过程功率谱,是的原像,k
x
,k
z
为像函数的自变量。
[0040]优选地,通过公式(2)计算所述随机功率谱:
[0041][0042]其中,Ψ(k
x
,k
z
)为随机功率谱,为随机过程功率谱,θ(k
x
,k
z
)为二维随机场。
[0043]优选地,所述随机扰动为:
[0044][0045]其中,ψ(x,z)为随机扰动,Ψ(k
x
,k
z
)为随机功率谱。
[0046]优选地,建立关于所述自相关函数的随机扰动包括:
[0047]计算所述随机扰动的均值及方差;
[0048]根据所述随机扰动的均值及方差,建立关于所述自相关函数的随机扰动。
[0049]优选地,关于所述自相关函数的随机扰动为:
[0050][0051]其中,σ(x,z)为关于自相关函数的随机扰动,ψ(x,z)为随机扰动,d为随机扰动的标准差,μ为随机扰动的均值,ε为关于自相关函数的随机扰动的标准差。
[0052]优选地,所述随机介质模型为:
[0053]υ(x,z)=υ0(1+σ(x,z))
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(5)
[0054]其中,υ(x,z)为随机介质模型,σ(x,z)为关于自相关函数的随机扰动,υ0为随机模型的初始速度。
[0055]第三方面,本公开实施例还提供了一种电子设备,该电子设备包括:
[0056]存储器,存储有可执行指令;
[0057]处理器,所述处理器运行所述存储器中的所述可执行指令,以实现所述的表层随机介质模型建立方法。
[0058]第四方面,本公开实施例还提供了一种计算机可读存储介质,该计算机可读存储介质存储有计算机程序,该计算机程序被处理器执行时实现所述的表层随机介质模型建立方法。
[0059]本专利技术的方法和装置具有其它的特性和优点,这些特性和优点从并入本文中的附图和随后的具体实施方式中将是显而易见的,或者将在并入本文中的附图和随后的具体实施方式中进行详细陈述,这些附图和具体实施方式共同用于解释本专利技术的特定原理。
附图说明
[0060]通过结合附图对本专利技术示例性实施例进行更详细的描述,本专利技术的上述以及其它目的、特征和优势将变得更加明显,其中,在本专利技术示例性实施例中,相同的参考标本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种表层随机介质模型建立方法,其特征在于,包括:根据自相关函数,建立随机过程功率谱与二维随机场;根据所述随机过程功率谱与所述二维随机场,计算随机功率谱;计算所述随机功率谱的二维傅里叶逆变换,获得随机扰动;建立关于所述自相关函数的随机扰动,进而获得随机介质模型。2.根据权利要求1所述的表层随机介质模型建立方法,其中,所述随机过程功率谱为:其中,为随机过程功率谱,是的原像,k
x
,k
z
为像函数的自变量。3.根据权利要求1所述的表层随机介质模型建立方法,其中,通过公式(2)计算所述随机功率谱:其中,Ψ(k
x
,k
z
)为随机功率谱,为随机过程功率谱,θ(k
x
,k
z
)为二维随机场。4.根据权利要求1所述的表层随机介质模型建立方法,其中,所述随机扰动为:其中,ψ(x,z)为随机扰动,Ψ(k
x
,k
z
)为随机功率谱。5.根据权利要求1所述的表层随机介质模型建立方法,其中,建立关于所述自相关函数的随机扰动包括:计算所述随机扰动的均值及方差;根据所述随机扰动的均值及方差,建立关于所述自相关函数的随机扰动。6.根据权利要求5所述的表层随机介质模型建立方法,其中,关于所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:赵磊刘卫华
申请(专利权)人:中国石油化工股份有限公司石油物探技术研究院
类型:发明
国别省市:

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