再生蚀刻机或PECVD设备的衬里的方法技术

本申请涉及再生蚀刻机或PECVD设备的衬里的方法，该方法包括以下连续步骤：（a）用软质擦拭物对所述衬里的表面进行湿式研磨；（b）任选地，在40

【技术实现步骤摘要】
再生蚀刻机或PECVD设备的衬里的方法


[0001]本申请涉及蚀刻机或PECVD设备的衬里的表面处理
，更特别涉及再生蚀刻机或PECVD设备的衬里的方法。

技术介绍

[0002]蚀刻机或PECVD设备的衬里（又称LINER）是用于保护蚀刻机腔体内部免受等离子腐蚀的装置。实际应用中，由于铝合金具备质量轻和含性能良好的氧化膜的优点，通常使用铝合金材质并进行精密的阳极氧化处理（形成氧化膜，又称皮膜）以用作蚀刻机或PECVD设备的衬里。然而，由于蚀刻机腔体内部腐蚀性的气体作用，会导致蚀刻机或PECVD设备的衬里皮膜被持续刻蚀，以致逐渐失去保护作用。
[0003]因此，当蚀刻机或PECVD设备的衬里使用寿命到期后，就需要重新进行表面工程，生成全新的阳极皮膜，此过程称之为蚀刻机或PECVD设备的衬里的再生。现有技术中，该再生过程一般由剥离皮膜、研磨、遮蔽、阳极氧化、烘干等步骤组成，其实际上与新品蚀刻机或PECVD设备的衬里的生产工艺基本相同，仅仅是增加了剥离氧化膜的工序。然而，由于蚀刻机或PECVD设备的衬里对其厚度稳定性以及其所含的孔（一般为数个或数十个）的尺寸稳定性（防止造成装配间隙）有较高的要求，随着上述再生次数的增加，衬里厚度会不断变薄且孔的尺寸会不断扩张，直到不符合安装标准并报废。一般地，使用上述现有技术的再生方法，会逐步导致蚀刻机或PECVD设备的衬里的厚度或孔尺寸的较大幅度的变化，因此再生次数一般最多仅为10次左右且使用成本很高。
[0004]因此，非常需要开发一种新的再生蚀刻机或PECVD设备的衬里的方法和设备，以简化再生工艺、提高再生次数并有效降低生产成本。

技术实现思路

[0005]通过提供一种新的再生蚀刻机或PECVD设备的衬里的方法和设备，其能够实现简化再生工艺、提高再生次数并有效降低生产成本。
[0006]根据本申请的第一方面，其提供再生蚀刻机或PECVD设备的衬里的方法，该方法包括以下连续步骤：（a）用软质擦拭物对所述衬里的表面进行湿式研磨；（b）任选地，在40
‑
60℃下，用中性脱脂剂清洗所述衬里的表面；（c）任选地，在40
‑
60℃下，用浓度为0.05重量%
‑
5重量%的柠檬酸溶液清洗所述衬里的表面；和（d）干燥所述衬里的表面。
[0007]在一个优选实施方案中，所述步骤（a）中的软质擦拭物为目数不小于1000#的多孔织物。
[0008]在一个更优选实施方案中，所述多孔织物为百洁布或羊绒布或海绵砂。
[0009]在一个优选实施方案中，所述步骤（a）中的湿式研磨采用手动和/或机械驱动进
行，优选采用机械驱动进行，更优选采用手持式高速气动研磨机进行。
[0010]在一个更优选实施方案中，所述手持式高速气动研磨机的空载转速为8000
‑
13000转/分钟和/或工作压力为7
‑
8kg，进一步优选为12000转/分钟和/或工作压力为7.5kg。
[0011]在一个优选实施方案中，所述步骤（a）中的湿式研磨使用去离子水进行。
[0012]在一个更优选实施方案中，所述步骤（a）中的湿式研磨使用超纯水进行。
[0013]在一个优选实施方案中，所述步骤（a）进行3
‑
8分钟。
[0014]在一个优选实施方案中，所述步骤（b）在50
‑
55℃下进行。
[0015]在一个优选实施方案中，所述步骤（b）进行3
‑
5分钟。
[0016]在一个优选实施方案中，所述步骤（c）在50
‑
55℃下进行。
[0017]在一个优选实施方案中，所述步骤（c）用浓度为0.1重量%
‑
3重量%的柠檬酸溶液进行，进一步优选地，所述步骤（c）用浓度为1.5重量%
‑
2.5重量%的柠檬酸溶液进行。
[0018]在一个优选实施方案中，所述步骤（c）进行20
‑
40分钟。
[0019]在一个优选实施方案中，所述步骤（d）在40
‑
60℃下进行5
‑
15分钟。
[0020]在一个优选实施方案中，根据本申请的第一方面的方法不包括剥离所述蚀刻机或PECVD设备的衬里的表面的皮膜的步骤。
[0021]根据本申请的第二方面，其提供根据本申请的第一方面所述的方法获得的再生的蚀刻机或PECVD设备的衬里。
[0022]根据本申请的第三方面，其提供再生蚀刻机或PECVD设备的衬里的设备，包括：用于实施本申请的第一方面所述步骤（a）的装置；任选地，用于实施本申请的第一方面所述步骤（b）的装置；任选地，用于实施本申请的第一方面所述步骤（c）的装置；和用于实施本申请的第一方面所述步骤（d）的装置。
[0023]根据本申请的第四方面，其提供目数不小于1000#的多孔织物在再生蚀刻机或PECVD设备的衬里中的用途，所述用途包括用所述目数不小于1000#的多孔织物对所述蚀刻机或PECVD设备的衬里的表面进行湿式研磨。
[0024]根据本申请的第五方面，其提供柠檬酸在再生蚀刻机或PECVD设备的衬里中的用途，所述用途包括用浓度为0.05重量%
‑
5重量%的柠檬酸溶液清洗依次经历湿式研磨、及任选的中性脱脂剂处理的蚀刻机或PECVD设备的衬里的表面。
[0025]应当理解，本部分所描述的内容并非旨在标识本申请的实施例的关键或重要特征，也不用于限制本申请的范围。本申请的其它特征将通过以下的说明书而变得容易理解。
附图说明
[0026]结合附图并参考以下详细说明，本申请各实施例的上述和其他特征、优点及方面将变得更加明显。在附图中，相同或相似的附图标记表示相同或相似的元素，其中：图1示出了本申请实施例3的蚀刻机衬里皮膜再生前后的SEM对比图。
具体实施方式
[0027]下面将参照附图更详细地描述本申请的实施例。虽然附图中显示了本申请的某些实施例，然而应当理解的是，本申请可以通过各种形式来实现，而且不应该被解释为限于这
里阐述的实施例，相反提供这些实施例是为了更加透彻和完整地理解本申请。应当理解的是，本申请的附图及实施例仅用于示例性作用，并非用于限制本申请的保护范围。
[0028]除非另有限定，本文使用的所有技术以及科学术语具有与本申请所属领域普通技术人员通常理解的相同的含义。当存在矛盾时，以本说明书中的定义为准。
[0029]本文中所用的术语“包含”、“包括”、“具有”、“含有”或其任何其它变形，意在覆盖非排它性的包括。
[0030]当量、浓度、或其它值或参数以范围、优选范围、或一系列上限优选值和下限优选值限定的范围表示时，这应当被理解为具体公开了由任何范围上限或优选值与任何范围下限或优选值的任一配对所形成的所有范围，而不论该范围是否单独公开了。例如，当公开了范围“1至5”时，所描述的范围应本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.再生蚀刻机或PECVD设备的衬里的方法，该方法包括以下连续步骤：（a）用软质擦拭物对所述衬里的表面进行湿式研磨；（b）任选地，在40
‑
60℃下，用中性脱脂剂清洗所述衬里的表面；（c）任选地，在40
‑
60℃下，用浓度为0.05重量%
‑
5重量%的柠檬酸溶液清洗所述衬里的表面；和（d）干燥所述衬里的表面。2.根据权利要求1所述的方法，其中所述步骤（a）中的软质擦拭物为目数不小于1000#的多孔织物。3.根据权利要求2所述的方法，其中所述多孔织物为百洁布或羊绒布或海绵砂。4.根据权利要求1
‑
3中任一项所述的方法，其中所述步骤（a）中的湿式研磨采用手动和/或机械驱动进行，优选采用机械驱动进行，更优选采用手持式高速气动研磨机进行。5.根据权利要求4所述的方法，其中所述手持式高速气动研磨机的空载转速为8000
‑
13000转/分钟和/或工作压力为7
‑
8kg。6.根据权利要求5所述的方法，其中所述手持式高速气动研磨机的空载转速为12000转/分钟和/或工作压力为7.5kg。7.根据权利要求1
‑
3中任一项所述的方法，其中所述步骤（a）中的湿式研磨使用去离子水进行。8.根据权利要求1
‑
3中任一项所述的方法，其中所述步骤（a）中的湿式研磨使用超纯水进行。9.根据权利要求1
‑
3中任一项所述的方法，其中所述步骤（a）进行3
‑
8分钟。10.根据权利要求1
‑
3中任一项所述的方法，其中所述步骤（b）在50
‑
55℃下进行。11.根据权利要求1
‑
3中任一项所述的方法，其中所述步...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘晓刚，黄来国，刘超，李仁杰，蔡广云，方斌，
申请(专利权)人：合肥微睿光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：