一种口腔低温等离子体消毒方法、低温等离子体发生装置制造方法及图纸

本发明专利技术属于口腔材料技术领域，公开了一种口腔低温等离子体消毒方法、低温等离子体发生装置，包括：将采用双环型DBD放电结构、介质材料为内径4mm，外径6mm，长100mm的石英管、金属铜导电胶带为电极的DBD低温等离子体发生装置的石英管出口放置于距口腔待消毒位置2cm处；向石英管的顶部通入放电气体，DBD低温等离子体发生装置产生紫色等离子体，并在气流作用下喷出，进行口腔消毒。本发明专利技术的口腔低温等离子体消毒方法能短效控制窝洞控制微生物增殖代谢，降低消毒后耐药菌产生比例，无或极小的对人体软组织损伤，促进口腔脱矿牙体组织再矿化。化。化。

【技术实现步骤摘要】
一种口腔低温等离子体消毒方法、低温等离子体发生装置


[0001]本专利技术属于口腔材料
，尤其涉及一种口腔低温等离子体消毒方法、低温等离子体发生装置。

技术介绍

[0002]目前。龋病是口腔中最常见的疾病之一，对人类是一个重大的健康挑战，全球疾病负担（Global Burden of Disease, GBD）的研究报告显示全球共有约39亿人有龋病相关问题。龋病有发病率高，治疗难度高，复发高的特点。
[0003]控制致龋微生物和诱导天然牙再矿化是提高龋病治疗成功率的关键。口腔是一个富含微生物的环境，存在多达700余种的天然菌群。致龋微生物在牙表面形成牙菌斑生物膜，产酸导致牙体组织发生脱矿，导致牙面矿化
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再矿化循环平衡破坏，形成牙体硬组织崩解，造成龋病。龋病的治疗目前多采用树脂类充填材料，但临床上该类型材料表面活性度高，易黏附口腔微生物，同时又不具备抗菌及再矿化能力，因而会导致龋病治疗后发生继发龋的危险。继发龋的发病依旧是微生物参与的复杂的、多因素的过程，容易导致“现有修复体边缘的龋齿”或“与修复体或密封剂相关的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种口腔低温等离子体消毒方法，其特征在于，所述口腔低温等离子体消毒方法包括：利用DBD 放电结构、介质材料为石英管、金属铜导电胶带为电极组成的DBD 低温等离子体发生装置进行口腔消毒。2.如权利要求1所述口腔低温等离子体消毒方法，其特征在于，所述石英管内径 4mm，外径 6mm，长 100mm。3.如权利要求1所述口腔低温等离子体消毒方法，其特征在于，所述电极宽 8mm。4.如权利要求1所述口腔低温等离子体消毒方法，其特征在于，所述电极包括：低压电极与高压电极。5.如权利要求4所述口腔低温等离子体消毒方法，其特征在于，所述低压电极距石英管出口 8 mm，低压电极与高压电极的中心距离为 15mm。6.如权利要求1所述口腔低温等离子体消毒方法，其特征在于，所述口腔低温等离子体消毒方法包括以下步骤：步骤一，将DBD ...

【专利技术属性】
技术研发人员：韩琪，刘卓，王旭，赵好为，孙小钦，
申请(专利权)人：四川大学，
类型：发明
国别省市：