【技术实现步骤摘要】
一种光响应一氧化氮递送/光热协同材料的制备及其应用
[0001]本专利技术属于一氧化氮供体化合物
,尤其涉及一种光响应一氧化氮递送/光热协同材料的制备及其应用。
技术介绍
[0002]抗生素的滥用导致许多病原体产生了耐药性。近几十年来,多重耐药细菌已成为较为常见的难治性感染的病因。多重耐药菌的耐药性一方面是浮游细菌的结构转化或基因突变造成的;另一方面包括生物膜的保护,细菌细胞包裹在由胞外多糖、蛋白质、酶和细胞外细菌DNA组成的自制胞外聚合物物质(EPS)中。EPS作为一种保护屏障,可以抵御抗生素的渗透和宿主固有免疫细胞的细胞攻击。
[0003]为了解决耐药细菌感染,目前已经提出很多策略,不仅包括使用抗生素,抗菌肽和季铵盐化合物等化学方法,还包括如光动力疗法(PDT)、光热疗法(PTT)等。光热疗法通过物理热破坏生物膜的结构,杀灭细菌,与化学方法相比,光热疗法在治疗生物膜引起的感染方面具有巨大的优势。700~1100nm的近红外光具有良好的组织穿透能力,对健康组织的损伤最小,是光热治疗最有利的波长区域。基于近红外 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种多功能性的一氧化氮给体分子,其特征在于具有下式I所示的结构:式I中,R具有下式II所示结构;R1具有下式III所示结构,R2为氢或甲氧基;R3具有下式IV所示结构,R4为氢或硝基;2.根据权利要求1所述的一氧化氮给体分子,其特征在于:R选自下式1~3所示基团中的任意一种:3.根据权利要求1所述的一氧化氮给体分子,其特征在于:R3选自下式4~6所示基团中的任意一种:4.一种权利要求1所述的一氧化氮给体分子的制备方法,其特征在于:首先对aza
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Bodipy的结构进行修饰,通过在无水乙醇和无水THF混合溶剂中aza
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Bodipy与苯甲醛衍生物中的醛基反应,生成席夫碱;接着在冰浴条件下采用氰基硼氢化钠作为还原剂在无水THF中进行席夫碱还原反应,最后在冰浴条件下于THF/醋酸溶液中加入
亚硝酸钠进行亚硝化反应,得到可在白光照射下释放一氧化氮的基础化合物,即为式I所示的一氧化氮给体分子;所述苯甲醛衍生物的结构见下式7所示:式7中R5基团为氢或硝基。5.一种光响应一氧化...
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