一种新型双离子紫外荧光成像光学系统技术方案

本发明专利技术公开了一种新型双离子紫外荧光成像光学系统，包含铍离子和钙离子两路成像光路；铍离子成像光路包括沿入射光方向依次设置的离子真空隔离窗口、透镜组一、分光镜、透镜组二、反射镜一、合束镜和像面；钙离子成像光路包括沿入射光方向依次设置的离子真空隔离窗口、透镜组一、分光镜、反射镜二、透镜组三、合束镜和像面；透镜组一包括依次设置的正透镜一、负透镜二、正透镜三、正透镜四和正透镜五；透镜组二包括依次设置的负透镜六和正透镜七；透镜组三包括依次设置的正透镜八和负透镜九。上述光学系统，可以实时观测钙离子和铍离子的成像效果，整体的机械结构紧凑合理，便于装调和测试，且成本较低，易于加工。易于加工。易于加工。

【技术实现步骤摘要】
一种新型双离子紫外荧光成像光学系统


[0001]本专利技术涉及一种新型双离子紫外荧光成像光学系统，属于光学成像


技术介绍

[0002]离子成像是近几年来发展的新技术，在分子光解动力学的研究中已成为一种强有力的实验技术手段。双离子紫外荧光成像的难点在于：现有的成像材料，绝大部分材料对紫外光的透过率都很低，而部分透过率高的材料价格昂贵且难于加工。不同离子受激发出的紫外荧光不同，想要实时观测两种离子成像的效果就更加的困难。本专利技术可以实时观测钙离子和铍离子的成像效果，且成本较低，材料易于加工。

技术实现思路

[0003]本专利技术提供一种新型双离子荧光成像光学系统，可以实时观测钙离子和铍离子的成像效果，且成本较低，易于加工。
[0004]为解决上述技术问题，本专利技术所采用的技术方案如下：
[0005]一种新型双离子紫外荧光成像光学系统，包含铍离子和钙离子两路成像光路，其中，铍离子受激发出313nm的荧光，钙离子受激发出397nm的荧光；
[0006]铍离子成像光路包括沿入射光方向依次设置的离子真空本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种新型双离子紫外荧光成像光学系统，其特征在于：包含铍离子和钙离子两路成像光路，其中，铍离子受激发出313nm的荧光，钙离子受激发出397nm的荧光；铍离子成像光路包括沿入射光方向依次设置的离子真空隔离窗口、透镜组一、分光镜、透镜组二、反射镜一、合束镜和像面；钙离子成像光路包括沿入射光方向依次设置的离子真空隔离窗口、透镜组一、分光镜、反射镜二、透镜组三、合束镜和像面；铍离子成像光路和钙离子成像光路共用离子真空隔离窗口、透镜组一、分光镜、合束镜和像面；分光镜使得313nm的光透过，397nm的光反射，合束镜将313nm和397nm两路光合成一束光；透镜组一包括沿入射光方向依次设置的正透镜一、负透镜二、正透镜三、正透镜四和正透镜五；透镜组二包括沿入射光方向依次设置的负透镜六和正透镜七；透镜组三包括沿入射光方向依次设置的正透镜八和负透镜九。2.如权利要求1所述的新型双离子紫外荧光成像光学系统，其特征在于：铍离子成像光路的焦距为17.6mm，钙离子成像光路的焦距为4.2mm。3.如权利要求1或2所述的新型双离子紫外荧光成像光学系统，其特征在于：沿入射光方向，正透镜一的两面依次为第一物侧面和第一像侧面，负透镜二的两面依次为第二物侧面和第二像侧面，正透镜三的两面依次为第三物侧面和第三像侧面，正透镜四的两面依次为第四物侧面和第四像侧面，正透镜五的两面依次为第五物侧面和第五像侧面，负透镜六的两面依次为第六物侧面和第六像侧面，正透镜七的两面依次为第七物侧面和第七像侧面，正透镜八的两面依次为第八物侧面和第八像侧面，负透镜九的两面依次为第九物侧面和第九像侧面；第一物侧面的曲率半径为
‑
43.65
±
0.02mm，第一像侧面的曲率半径为
‑
24.55
±
0.02mm；第二物侧面的曲率半径为
‑
71.44
±
0.02mm，第二像侧面的曲率半径为无穷大；第三物侧面的曲率半径为
‑
155.245
±
0.02mm，第三像侧面的曲率半径为
‑
48.7547
±
0.02mm；第四物侧面的曲率半径为
‑
100.003
±
0.02mm，第四像侧面的曲率半径为
‑
60.14
±
0.02mm；第五物侧面的曲率半径为128.87
±
0.02mm，第五像侧面的曲率半径为
‑
128.87
±
0.02mm；第六物侧面的曲率半径为
‑
14.571
±
0.02mm，第六像侧面的曲率半径为38.08
±
0.02mm；第七物侧面的曲率半径为
‑
143.432
±
0.02mm，第七像侧面的曲率半径为
‑
20.56
±
0.02mm；第八物侧面的曲率半径为69....

【专利技术属性】
技术研发人员：王静，赵科鹏，王坚，高俊，朱敏，
申请(专利权)人：南京波长光电科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：