聚酰亚胺、清漆及薄膜制造技术

一种聚酰亚胺，其具有下述式(1)所示的重复单元。[式中，R1表示4价基团，R2表示2价基团。其中，R1中至少一部分是下述式(2)所表示的基团。另外，R2中，一部分是下述式(3)所表示的基团，另一部分是下述式(4)所表示的基团。]]]]

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】聚酰亚胺、清漆及薄膜


[0001]本专利技术涉及一种聚酰亚胺、以及含有聚酰亚胺的清漆及薄膜。

技术介绍

[0002]近年来，在液晶显示器等各种平板显示器(FPD)中使用有玻璃基板，的FPD的轻量化与薄型化一起成为重要课题，作为玻璃基板的替代材料，透明塑料基板的开发正不断进行。例如专利文献1中记载有一种包含特定结构单元的聚醚砜组合物。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本专利特开2012
‑
197449号公报

技术实现思路

[0006]专利技术现有解决的技术问题
[0007]然而，现有的透明塑料难以兼顾透明性与耐热性。另外，从加工成薄膜等的加工性的观点出发，期望透明塑料具有可溶于溶剂的可溶性，且能够在溶液状态(清漆)下操作，但也存在易溶解于溶剂的塑料常常耐热性较低的问题点。
[0008]本专利技术的目的在于，提供一种具有优异的耐热性、溶剂可溶性优异的聚酰亚胺。另外，本专利技术的目的在于，提供一种含有上述聚酰亚胺的清漆、及包含上述聚酰亚胺的薄膜。
[0009][解决问题的手段][0010]本专利技术人等为了解决上述技术问题而进行了专门研究，结果发现，具有特定重复单元的聚酰亚胺能够兼顾优异的耐热性及尺寸稳定性、和溶液状态下的操作性，从而完成本专利技术。
[0011]即，本专利技术涉及如下所示内容。
[0012][1]一种聚酰亚胺，其具有下述式(1)所表示的重复单元。
[0013][0014][式中，R1表示4价基团，R2表示2价基团；
[0015]其中，R1中至少一部分是下述式(2)所表示的基团；另外，R2中，一部分是下述式(3)所表示的基团，另一部分是下述式(4)所表示的基团。][0016][0017][2]如[1]所记载的聚酰亚胺，其中上述聚酰亚胺中的上述式(3)所表示的基团在R2中所占的比例为20～90摩尔％。
[0018][3]如[1]或[2]所记载的聚酰亚胺，其中上述聚酰亚胺中的R2中上述式(4)所表示的基团所占的比例为10～80摩尔％。
[0019][4]如[1]至[3]中任一项所记载的聚酰亚胺，其中上述聚酰亚胺中的上述式(2)所表示的基团在R1中所占的比例为60摩尔％以上。
[0020][5]一种清漆，其含有如[1]至[4]中任一项所记载的聚酰亚胺及溶剂。
[0021][6]一种薄膜，其含有如[1]至[4]中任一项所记载的聚酰亚胺。
[0022]专利技术的效果
[0023]根据本专利技术，能够提供一种具有优异的耐热性及尺寸稳定性、在溶液状态下的操作性优异的聚酰亚胺。另外，根据本专利技术，能够提供一种含有上述聚酰亚胺的清漆、及包含上述聚酰亚胺的薄膜。
附图说明
[0024]图1为表示实施例1的聚酰亚胺薄膜的红外线吸收光谱的图。
具体实施方式
[0025]以下，对本专利技术的适宜实施方式进行详细说明。
[0026]＜聚酰亚胺＞
[0027]本实施方式的聚酰亚胺为具有下述式(1)所表示的重复单元的聚酰亚胺。
[0028][0029]式中，R1表示4价基团，R2表示2价基团。其中，R1中至少一部分是下述式(2)所表示的基团。另外，R2中，一部分是下述式(3)所表示的基团，另一部分是下述式(4)所表示的基
团。
[0030][0031]本实施方式的聚酰亚胺通过式(1)所表示的重复单元，从而获得优异的透明性、优异的耐热性(高T
g
)、优异的尺寸稳定性(低热膨胀特性)、及溶液状态下的优异操作性。
[0032]能够获得这种效果的理由未必明确，但如下考虑。首先，认为本实施方式的聚酰亚胺通过式(2)所表示的脂环式基团与式(3)所表示的含氟基团所形成的刚直的酰亚胺结构，而表现出优异的透明性、优异的耐热性、优异的尺寸稳定性。另外，认为因本实施方式的聚酰亚胺通过式(4)所示的含醚基团而导入有柔软的弯折结构，因此聚酰亚胺主链弯折，分子间力降低，而获得对于溶剂的高溶解性。另外，预想到通常情况下若将弯折结构导入至聚酰亚胺主链，则加热时的尺寸稳定性会变差。然而，在本实施方式中，通过导入式(4)所表示的特定结构作为弯折结构，而维持优异的透明性、优异的耐热性及优异的尺寸稳定性，并且提高溶解性及膜韧性。
[0033]本实施方式的聚酰亚胺包含构成主链的重复单元和末端部。本实施方式的聚酰亚胺所具有的重复单元的总量中式(1)所表示的重复单元所占的比例例如可为70质量％以上，优选为80质量％以上，更优选为90质量％以上，进而优选为99质量％以上，也可以为100质量％。
[0034]本实施方式的聚酰亚胺中的末端部并无特别限定，可与公知的聚酰亚胺的末端部相同。例如，末端部可为酸酐基、氨基等。存在于聚酰亚胺的主链两端的末端部互相之间可相同也可不同。
[0035]式(1)所表示的重复单元例如可为通过四羧酸二酐与二胺的加聚反应(polyaddition reaction)及其后的亚胺化(imidization)反应所形成的单元。即，式(1)中的R1可以为由四羧酸二酐中除去2个二羧酸酐基后而得到的残基(即，四羧酸二酐残基)，式(1)中的R2可以为由二胺中去除了2个氨基后而成的残基(即，二胺残基)。
[0036]在本实施方式中，多个R1中的至少一部分是式(2)所表示的基团。式(2)所表示的基团也可为双降冰片烷四羧酸二酐(以下，也称为“BNBDA”)的残基。
[0037]本实施方式的聚酰亚胺中的R1中式(2)所表示的基团所占的比例例如可为60摩尔％以上，优选为70摩尔％以上，更优选为80摩尔％以上，也可为100摩尔％。
[0038]在R1为式(2)所表示的基团以外的基团的情况下，R1可为源自BNBDA以外的四羧酸
二酐的基团(来自四羧酸二酐中除去2个二羧酸酐基后而成的残基)。
[0039]作为BNBDA以外的四羧酸二酐，例如可列举脂肪族四羧酸二酐、芳香族四羧酸二酐等。作为脂肪族四羧酸二酐，例如可列举：双环[2.2.2]辛
‑7‑
烯
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2,3,5,6
‑
四羧酸二酐、双环[2.2.2]辛烷
‑
2,3,5,6
‑
四羧酸二酐、四氢呋喃
‑
2,3,4,5
‑
四羧酸二酐、双环
‑
3,3',4,4'
‑
四羧酸二酐、1,2,4,5
‑
环己烷四羧酸二酐、1,2,3,4
‑
环丁烷四羧酸二酐、1,2,3,4
‑
环戊烷四羧酸二酐等。另外，作为芳香族四羧酸二酐，例如可列举：均苯四甲酸二酐、3,3',4,4'
‑
联苯四羧酸二酐、3,3',4,4'
‑
二苯甲酮四羧酸二酐、3,3',4,4'
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二苯醚四羧酸二酐、3,3',4,4'
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种聚酰亚胺，其中，具有下述式(1)所表示的重复单元：式中，R1表示4价基团，R2表示2价基团；其中，R1中至少一部分是下述式(2)所表示的基团；另外，R2中，一部分是下述式(3)所表示的基团，另一部分是下述式(4)所表示的基团，2.如权利要求1所述的聚酰亚胺，其中，所述聚酰亚胺中的所述式(3)所表示的基团在R2中所占的比例为20～90摩尔％。3.如权利要求1或...

【专利技术属性】
技术研发人员：长谷川匡俊，石井淳一，渡部大辅，
申请(专利权)人：引能仕株式会社，
类型：发明
国别省市：