【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种放电反应器，尤其是涉及一种同轴线管结构介质阻挡 电晕放电反应器。技术背景目前，国内外常用的介质阻挡放电(DBD)等离子体在越来越多的场合 得到了应用，但是实现辉光形式的均匀稳定放电十分困难，关键问题在于如何 降低放电场强使得放电处于电子崩阶段，抑制放电向流注阶段的发展。现有的 常规DBD反应器很难实现均匀稳定的放电。
技术实现思路
本技术的目的就在于提供一种降低放电场强的电晕预电离，从而使介 质阻挡放电图像更为均匀稳定的同轴线管结构介质阻挡电晕放电反应器。本技术的目的可通过以下措施来实现本技术其由内到外依次为细线电极、阻挡介质和外电极。本技术中的外电极为由铜导体绕成管状的接地电极。阻挡介质采用玻 璃或树脂或聚四氟乙烯管状电介质。阻挡介质管的外直径为30 40mm，介质 厚度1 5mm。细线电极为固定在构成阻挡介质的玻璃管中心的一根直径为 0.2 1 mm的高压电极。外加交流电压有效值10 20kV。本技术的优点在外加交流高电压作用下，细线电极周围产生的电晕 预电离能够降低气隙放电场强，阻挡介质可以抑制电弧放电的形成，反应器中 出现均匀稳定的介质阻挡电晕放电，从而使介质阻挡放电图像更为均匀稳定。附图说明附图是本技术的横截面结构示意图；具体实施方式本技术结合附图和实施作以下描述如图所示，本技术整体为管状形状，其管状横截面由内到外依次为细线电极3、阻挡介质2和外电极1。外电极为由铜导体绕成管状的接地电极。 阻挡介质采用玻璃或树脂或聚四氟乙烯管状电介质。阻挡介质管的外直径为 30 40mm，根据需要可以取30、 33、 35、 40 mm;介质厚度...
【技术保护点】
一种同轴线管结构介质阻挡电晕放电反应器，其特征在于：所述反应器其由内到外依次为细线电极（３）、阻挡介质（２）和外电极（１）。
【技术特征摘要】
1、一种同轴线管结构介质阻挡电晕放电反应器，其特征在于所述反应器其由内到外依次为细线电极(3)、阻挡介质(2)和外电极(1)。2、 根据权利要求1所述的同轴线管结构介质阻挡电暈放电反应器，其特征在于所述外电极为由铜导体绕成管状的接地电极。3、 根据权利要求1或2所述的同轴线管结构介质阻挡电晕放电反应器，其特征在于所述阻挡介质采用玻...
【专利技术属性】
技术研发人员：孙岩洲，曾咪，聂爱玲，雷乃清，田书，赵来军，
申请(专利权)人：河南理工大学，
类型：实用新型
国别省市：41[中国|河南]
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