激光器反射镜的镀制方法及氦氖激光器反射镜技术

在激光器中为抑制不需要的谱线，使有应用价值的谱线振荡，常采取在腔内加附加元件或用具有一定波长选择功能的反射镜抑制的方法，但都对激光功率有损失。本发明专利技术是设计具有较高波长选择性能的反射镜来满足上述要求，即在确保对振荡波长的全反镜或半反镜反射率不受影响的条件下，通过选择现有镀膜材料，膜层厚度及其位置，使整个膜系对主要抑制波长的反射率趋于零，从而达到高增透的目的。本发明专利技术应用于氦氖激光器反射镜，以红光镜片为例：波＿＿长＿＿＿＿＿＿设计值＿＿＿＿＿＿＿＿测试值６３３ｎｍ＿＿＿＿＿＿Ｒ≥９９．８％＿＿＿＿＿＿Ｒ＝９９．８％３．３９ｕｍ＿＿＿＿＿Ｒ＜２％＿＿＿＿＿＿＿＿＿Ｒ＜２％（*该技术在2008年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种适用于激光器反射镜光学薄膜的镀制方法及利用此方法制成的氦氖激光器反射镜产品。一些激光器中一般都存在几条可形成激光的谱线，其中一些增益较高，另一些增益相对较低。为使那些有应用价值低增益波长形成振荡，应对高增益波长进行有效的抑制。通常采用的抑制方法有用棱镜色散，气体吸收，非均匀磁场等。但这些方法带来了一些不利因素，例对激光损耗加大、加工困难、不易调节、成本增加等，使产品的应用范围受到了限制。以氦氖激光器为例，在氦氖激光器中有许多可形成振荡的谱线，其中属波长为3.39μm的红外光在腔内增益最高，为使象绿光(波长543nm)、黄光(波长594nm)、红光(波长633nm)等谱线形成激光振荡，产生激光输出，应对3.39nm的光进行抑制，采用如前所述抑制方法，对激光功率损耗明显增加。根据日本专利(昭50-37519，昭57-134981)的报导，他们采用一种具有波长选择性介质膜对633nm高反，而对3.39nm进行抑制，其
技术实现思路
如下。两个专利基本采用同一膜系结构Sub｜nH′L′｜Air其中Sub-基片、Air-空气主反射层材料nH＝2.3 nL＝1.46 nL＝1本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种适用于激光器反射镜光学薄膜的镀制方法。对原有技术中的膜系结构Ｓｕｂ丨［ＨＬ］↑［ｎ］Ｈ↑［１］Ｌ↑［１］丨Ａｉｒ进行了修改和提高。本专利技术的特征是用Ｎ层高折射率材料（Ｈ）与低折射率材料（Ｌ）交替组成的高反膜或低反膜（表示成ＨＬ…ＬＨ或ＬＨ…ＨＬ）来保证激光器全反镜和半反镜的反射率。在高反膜或半反膜的内、外，或者同时对内外增添附加膜层Ｒ↑［（ｊ）］＝ｎ↓［ｊ］ｄ（ｊ＝１，２，……ｋ）其膜系结构为Ｓｕｂ丨Ｒ↑［（１）］［ＨＬ］↑［ｎ］Ｒ↑［（２）］……［ＨＬ］ＨＲ↑［（ ｋ）］丨Ａｉｒ或Ｓｕｂ丨Ｒ↑［（１）］［ＬＨ］↑［（ｎ）］Ｒ↑［（２）］……［ＬＨ］↑［（ｎ）］ＬＲ↑［（ｋ...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张杰，魏守安，
申请(专利权)人：张嘉，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]