一种含卤素气体的处理装置制造方法及图纸

技术编号:33141701 阅读:24 留言:0更新日期:2022-04-22 13:52
本实用新型专利技术提供一种含卤素气体的处理装置,涉及废气处理技术领域,该装置包括:微波单元、吸收单元、洗涤单元、储液单元和浆液循环泵;其中,微波单元的出气口与吸收单元的进气口连接;吸收单元的出气口与洗涤单元连接;储液单元的顶部与洗涤单元的底部连接;浆液循环泵的一端与储液单元,另一端与储液单元中的喷管连接。本实用新型专利技术中的含卤素气体的处理装置,利用微波无极紫外光对含卤素的废气进行光洁,并洗涤吸收,达到降低废气中卤素气体的浓度,处理装置结构简单,且不存在二次污染。且不存在二次污染。且不存在二次污染。

【技术实现步骤摘要】
一种含卤素气体的处理装置


[0001]本技术涉及废气处理
,具体而言,涉及一种含卤素气体的处理装置。

技术介绍

[0002]卤素系气体中有CFCs,HFCs,HCFCs、全氟碳化物(PFCs)、六氟化硫(SF6)、CF4等都是重要的温室气体;卤素气体是在塑料等聚合物产品燃烧时产生的,卤素气体浓度高时,引起能见度下降,毒性强影响人的呼吸系统,与水蒸气结合会生成腐蚀性有害气体,对建筑物造成腐蚀。
[0003]现有技术中,对于卤素气体的处理方法有,使卤素气体物理吸附至例如碳黑等多孔质体等的方法;该方法的处理能力小,另外当对处理后的吸附体进行更换处理时,存在有害气体游离而对环境带来不良影响的风险。作为代替其的方法,已知有洗涤器(scrubber)方法,所述洗涤器方法在使Cl2之类的卤素气体与水接触而变化为氯化氢并加以吸收后,与苛性钠等碱中和。根据所述方式,虽然可实现大量的卤素系气体的处理,但需要进行处理液的准备、管理、废液处理等烦琐的作业。
[0004]然而,现有技术处理含卤素气体的装置存在无法处理大风量气体,处理过程能耗高,且存在二次污染的问题。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于,针对上述现有技术中处理含卤素废气处理装置存在的不足,提供一种含卤素气体的处理装置,以解决现有技术中处理含卤素气体的装置存在无法处理大风量气体,处理过程能耗高,且存在二次污染的问题。
[0006]为实现上述目的,本技术实施例采用的技术方案如下:
[0007]本技术实施例提供了一种含卤素气体的处理装置,所述装置包括:微波单元、吸收单元、洗涤单元、储液单元和浆液循环泵;
[0008]其中,所述微波单元的出气口与所述吸收单元的进气口连接;所述吸收单元的出气口与所述洗涤单元连接;所述储液单元的顶部与所述洗涤单元的底部连接;所述浆液循环泵的一端与所述储液单元,另一端与所述储液单元中的喷管连接。
[0009]可选的,所述储液单元与所述洗涤单元连接处设置多孔板。
[0010]可选的,所述微波单元包括微波源、无极紫外灯和支架。
[0011]可选的,所述微波源包括多个,多个微波源均匀设置在所述微波单元的顶部;所述无极紫外灯通过所述支架固定在所述微波单元的内部。
[0012]可选的,所述微波单元的进气口和出气口分别设置金属网,所述金属网的孔径小于或等于3mm。
[0013]可选的,所述吸收单元包括多层水平设置的固定床层,且所述每一固定床层表面设置吸收剂。
[0014]可选的,所述洗涤单元内包括均流板和填料,所述均流板包括多层,每一均流板水
平设置在所述洗涤单元内,所述填料放置在所述均流板上。
[0015]可选的,所述无极紫外灯的外部设置高纯石英套筒,所述高纯石英套筒与所述无极紫外灯通过聚四氟乙烯塞子固定。
[0016]本技术的有益效果是:本技术提供一种含卤素气体的处理装置,涉及废气处理
,该装置包括:微波单元、吸收单元、洗涤单元、储液单元和浆液循环泵;其中,所述微波单元的出气口与所述吸收单元的进气口连接;所述吸收单元的出气口与所述洗涤单元连接;所述储液单元的顶部与所述洗涤单元的底部连接;所述浆液循环泵的一端与所述储液单元,另一端与所述储液单元中的喷管连接。也就是说,本技术中的含卤素气体的处理装置,利用微波无极紫外光对含卤素的废气进行光洁,并洗涤吸收,达到降低废气中卤素气体的浓度,处理装置结构简单,且不存在二次污染。
附图说明
[0017]为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本技术的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它相关的附图。
[0018]图1为本技术一实施例提供的一种含卤素气体的处理装置结构示意图。
[0019]图标:1

微波单元、2

吸收单元、3

洗涤单元、4

储液单元、5

浆液循环泵和6

微波源。
具体实施方式
[0020]为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本技术实施例的组件可以以各种不同的配装置来布装置和设计。
[0021]因此,以下对在附图中提供的本技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本技术的范围,而是仅仅表示本技术的选定实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本技术保护的范围。
[0022]应注意到:相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项,因此,一旦某一项在一个附图中被定义,则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。
[0023]在本技术的描述中,需要说明的是,术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位装置关系为基于附图所示的方位或位装置关系,或者是该技术产品使用时惯常摆放的方位或位装置关系,仅是为了便于描述本技术和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本技术的限制。此外,术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0024]此外,术语“水平”、“竖直”等术语并不表示要求部件绝对水平或悬垂,而是可以稍微倾斜。如“水平”仅仅是指其方向相对“竖直”而言更加水平,并不是表示该结构一定要完
全水平,而是可以稍微倾斜。
[0025]在本技术的描述中,还需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“设装置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0026]图1为一种含卤素气体的处理装置结构示意图;下面结合图1对本技术实施例所提供的一种含卤素气体的处理装置进行详细说明。
[0027]图1为本技术一实施例提供的一种含卤素气体的处理装置示意图,如图1所示,该含卤素气体的处理装置,所述装置包括:微波单元1、吸收单元2、洗涤单元3、储液单元4和浆液循环泵5。
[0028]本技术实施例中,储液单元4中存储氢氧化钙浆液,并通过浆液循环泵连接的管道将氢氧化钙浆液输送至洗涤单元3顶部的喷头上,将浆液本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种含卤素气体的处理装置,其特征在于,所述装置包括:微波单元、吸收单元、洗涤单元、储液单元和浆液循环泵;其中,所述微波单元的出气口与所述吸收单元的进气口连接;所述吸收单元的出气口与所述洗涤单元连接;所述储液单元的顶部与所述洗涤单元的底部连接;所述浆液循环泵的一端与所述储液单元,另一端与所述储液单元中的喷管连接。2.根据权利要求1所述的含卤素气体的处理装置,其特征在于,所述储液单元与所述洗涤单元连接处设置多孔板。3.根据权利要求1所述的含卤素气体的处理装置,其特征在于,所述微波单元包括微波源、无极紫外灯和支架。4.根据权利要求3所述的含卤素气体的处理装置,其特征在于,所述微波源包括多个,多个微波源均匀设置在所述微波单元的顶部;所述无极紫外...

【专利技术属性】
技术研发人员:马中发闫树林王露
申请(专利权)人:陕西青朗万城环保科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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