能定位在支撑表面上的烹饪系统技术方案

一种能定位在支撑表面上的烹饪系统，包括：壳体，其具有中空室，所述中空室包括用于接收食品的内部烹饪室；至少一个辐射加热元件，其布置在所述中空内部内且可用于加热所述烹饪室；以及对流加热器，其安置在所述中空室内且可用于加热所述烹饪室。所述烹饪系统可在对流烹饪模式下操作，并且在所述对流烹饪模式期间，所述至少一个辐射加热元件选择性地通电。所述至少一个辐射加热元件选择性地通电。所述至少一个辐射加热元件选择性地通电。

【技术实现步骤摘要】
能定位在支撑表面上的烹饪系统


[0001]本公开的实施例大体上涉及一种烹饪系统，并且更具体地，涉及一种能够执行若干不同烹饪操作的台面烹饪系统。

技术介绍

[0002]例如烤箱之类的现有台面烹饪系统可用于代替例如较大的壁装式烤箱或炉灶而方便地加热或烹饪食物。不通过强制对流进行烹饪的此类烤箱在其烹饪应用中可能受到限制，例如在烹饪周期期间在不移动食物的情况下均匀烹饪多层食物的能力受限。这是因为顶层从烹饪系统顶部处的一个或多个加热元件接收辐射，并且底层从烹饪系统底部处的一个或多个加热元件接收辐射。然而，顶层与底层之间的中间区域接收较少的辐射，因此烹饪较慢且较不均匀。
[0003]一些现有的台面烹饪系统通过经由风扇使空气循环通过烤箱而解决了此加热不均的问题。尽管此类系统产生更均匀的烹饪，但通常在这些对流系统中使用的风扇较小且功率较低；烤箱通常未设计成使空气均匀地分布在整个烤箱中。
[0004]在烹饪操作期间，油脂、脂肪或其它食物副产物可能滴落或飞溅到辐射加热元件上。在辐射加热元件可操作的情况下，加热元件将在烹饪周期期间燃烧油脂。然而，在由本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种能定位在支撑表面上的烹饪系统，所述烹饪系统包括：壳体，其具有中空室，所述中空室包括用于接收食品的内部烹饪室；至少一个辐射加热元件，其布置在所述中空内部内且能用于加热所述烹饪室；以及对流加热器，其安置在所述中空室内且能用于加热所述烹饪室；其中所述烹饪系统能在对流烹饪模式下操作，并且在所述对流烹饪模式期间，所述至少一个辐射加热元件选择性地通电。2.根据权利要求1所述的能定位在支撑表面上的烹饪系统，其中所述对流烹饪模式的烹饪周期包括所述对流加热器通电的至少一个对流烹饪段，以及所述至少一个辐射加热元件通电的至少一个脉冲段。3.根据权利要求2所述的能定位在支撑表面上的烹饪系统，其中所述对流加热器包括对流加热元件，并且在所述至少一个脉冲段期间，所述对流加热元件断电。4.根据权利要求2所述的能定位在支撑表面上的烹饪系统，其中所述对流加热器包括空气移动装置和对流加热元件，所述对流加热元件用于加热由所述空气移动装置移动的气流，并且在所述至少一个脉冲段期间，所述空气移动装置通电，同时所述对流加热元件断电。5.根据权利要求2所述的能定位在支撑表面上的烹饪系统，其中在所述至少一个脉冲段期间，提供到所述至少一个辐射加热元件的功率小于与所述至少一个辐射加热元件的操作相关联的全功率。6.根据权利要求5所述的能定位在支撑表面上的烹饪系统，其中在所述至少一个脉冲段期间，所述至少一个辐射加热元件以所述全功率的约50％操作。7.根据权利要求2所述的能定位在支撑表面上的烹饪系统，其中所述至少一个脉冲段的时间短于所述至少一个对流烹饪段的时间。8.根据权利要求2所述的能定位在支撑表面上的烹饪系统，其中所述至少一个脉冲段在所述烹饪周期内以预定间隔发生。9.根据权利要求2所述的能定位在支撑表面上的烹饪系统，其中所述至少一个脉冲段是响应于检测到所感测条件而启动的。10.根据权利要求9所述的能定位在支撑表面上的烹饪系统，其中所述所感测条件包...

【专利技术属性】
技术研发人员：林登，
申请(专利权)人：沙克忍者运营有限责任公司，
类型：新型
国别省市：