光学膜片的转印式制造方法及转印母模的制造方法技术

本发明专利技术公开一种光学膜片的转印式制造方法及转印母模的制造方法，所述转印母模的制造方法包括：于金属滚筒的外表面涂布一负光阻层；通过第一波长光源穿通过至少一个光罩形成二维图形化光源照射于负光阻层；使得负光阻层显影后形成多个压印图形，进而使得负光阻层和金属滚筒构成一转印滚轮；通过转印滚轮滚压于一母模基材表面的光硬化材料层，而于光硬化材料层形成多个转印微结构；通过第二波长光源照射使得光硬化材料层固化，而使得光硬化材料层和母模基材构成一转印母模。和母模基材构成一转印母模。和母模基材构成一转印母模。

【技术实现步骤摘要】
光学膜片的转印式制造方法及转印母模的制造方法


[0001]本专利技术涉及一种光学膜片的制造方法，尤其涉及一种光学膜片的转印式制造方法及转印母模的制造方法。

技术介绍

[0002]现有的一种光学膜片的制造方法为通过平面状的转印母模压印的方法在光学膜片上转印光学微结构，进而形成一光学膜片。然而，现有的转印母模需要经由特殊的制程在母模的表面形成转印用微结构(例如：使用电铸方法制作转印滚轮，再以转印滚轮压印母模形成微结构)，上述的特殊制程经常需要耗费大量的经费与时间，而使得以转印式方法制造光学膜片的制造时间及制造成本大幅提升。
[0003]于是，本专利技术人认为上述缺陷可改善，乃特潜心研究并配合科学原理的运用，终于提出一种设计合理且有效改善上述缺陷的本专利技术。

技术实现思路

[0004]本专利技术实施例在于提供一种光学膜片的转印式制造方法及转印母模的制造方法，其能有效地改良现有光学膜片的转印式制造方法。
[0005]本专利技术实施例公开一种光学膜片的转印式制造方法，其包括：一转印滚轮制造步骤，其包括：一第一前置步骤：提本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学膜片的转印式制造方法，其特征在于，包括：一转印滚轮制造步骤，其包括：一第一前置步骤：提供一金属滚筒，所述金属滚筒具有圆柱状的外表面；一涂布步骤：于所述金属滚筒的所述外表面涂布围绕360度的一负光阻层；一曝光步骤：将一第一波长光源穿通过至少一个光罩而形成二维图形化光源，将所述二维图形化光源照射于所述负光阻层的表面，而使得所述负光阻层受到所述二维图形化光源照射的部位形成多个曝光区域，所述负光阻层未被所述二维图形化光源照射的部位形成多个未曝光区域；及一显影步骤：移除所述负光阻层上多个所述未曝光区域的材料，而使得所述负光阻层形成多个压印图形，进而使得所述负光阻层和所述金属滚筒共同构成一转印滚轮；一转印母模制造步骤，其包括：一第二前置步骤：提供片状的一母模基材及位于所述母模基材上的一光硬化材料层；一滚轮压印步骤：通过所述转印滚轮滚压于所述光硬化材料层上，以使得所述光硬化材料层形成有形状互补于多个所述压印图形的多个转印微结构；及一光硬化步骤：照射一第二波长光源于所述光硬化材料层而使得所述光硬化材料层固化，进而使得所述光硬化材料层和所述母模基材构成一转印母模；以及一光学膜片转印步骤，其包括：一第三前置步骤：提供透明的一膜片基材及设置于所述膜片基材表面的一底漆层；一膜片压印步骤：通过所述转印母模的多个所述转印微结构压印于所述底漆层，而使得所述底漆层形成形状互补于多个所述转印微结构的多个光学微结构；及一热固化步骤：加热所述底漆层以固化所述底漆层，进而使得所述膜片基材和所述底漆层构成一光学膜片。2.如权利要求1所述的光学膜片的转印式制造方法，其特征在于，所述母模基材具有透光性，所述光硬化步骤中，是将所述第二波长光源安排设置于所述第二波长光源安排设置于所述母模基材相对于所述转印滚轮的一侧，且使得所述第二波长光源产生的所述光线能够穿通过所述母模基材后照射于所述光硬化材料层和所述转印滚轮接触的位置，而使得所述光硬化材料层和多个所述转印微结构固化。3.如权利要求1所述的光学膜片的转印式制造方法，其特征在于，所述第一波长光源发出光线的波长介于340奈米至380奈米，所述第二波长光源发出光线的波长介于395奈米至410奈米。4.如权利要求1所述的光学膜片的转印式制造方法，其特征在于，所述底漆层为热固型树脂材料制成，且所述热固化步骤为通过加热所述底漆层而使得所述底漆层固化。5.如权利要求1所述的光学膜片的转印式制造方法，其特征在于，于所述曝光步骤中，其中至少一个所述光罩的数量进一步限定为一个，所述光罩具有一透光基板，以及设置于所述透光基板上的多个遮蔽图形，所述遮蔽图形是由相互平行的多个第一轴向条纹，和正交多个所述第一轴向条纹的多个第二轴向条纹所构成。...

【专利技术属性】
技术研发人员：林刘恭，
申请(专利权)人：光群雷射科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：