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本发明公开一种光学膜片的转印式制造方法及转印母模的制造方法，所述转印母模的制造方法包括：于金属滚筒的外表面涂布一负光阻层；通过第一波长光源穿通过至少一个光罩形成二维图形化光源照射于负光阻层；使得负光阻层显影后形成多个压印图形，进而使得负光阻...
该专利属于光群雷射科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过光群雷射科技股份有限公司授权不得商用。

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