【技术实现步骤摘要】
一种具有双电子阻挡层的深紫外发光器件及其制备方法
[0001]本专利技术涉及发光二极管的制备
,尤其涉及一种具有双电子阻挡层的深紫外发光器件及其制备方法。
技术介绍
[0002]发光二极管(light
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emitting diode,LED)是一种常用的发光器件,自专利技术以来已经经过了三十多年技术发展。LED与传统光源相比可以做到开启瞬间发光,不需要预热时间,并且拥有更长的寿命且对环境无污染。所以随着科技的不断进步和技术的发展,LED已经在可见光波段已经取得了巨大的成功,可以代替常规钨丝灯和荧光管应用于日常照明和显示中。但在紫外波段,尤其是深紫外LED的表现还存在很大的提升空间。
[0003]深紫外波段根据波长可分为以下三个区域,首先从400nm到320nm称为UVA或长波紫外;其次从320nm到280nm称为UVB或紫外区域;最后从280nm到100nm称为UVC或短波紫外。紫外光广泛应用在消毒、食品、药品、医疗等多种领域,深紫外区域包括UVB和UVC两个区域,在杀菌消毒和短波紫外通讯中有 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
上生长所述电子注入层,所述电子注入层上设置有N型电极;所述空穴注入层上设置有p
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GaN层,所述p
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GaN层上设置有P型电极,所述N型电极和P型电极欧姆接触相连。10.一种如权利要求1~9任意一项所述的具有双电子阻挡层的深紫外发光器件的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:步骤1:在衬底上依次生长缓冲层Ⅰ、AlN本征层、缓冲层Ⅱ和电子注入...
【专利技术属性】
技术研发人员:郭泽昊,胡新星,赵海明,仇成功,左万胜,袁松,钮应喜,
申请(专利权)人:芜湖启迪半导体有限公司,
类型:发明
国别省市:
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