一种纹理膜片的内凹贴合手机盖制备方法技术

本发明专利技术公开了一种纹理膜片的内凹贴合手机盖制备方法，包括S1)采用光学级透明塑料进行后盖内凹注塑成型；S2)将注塑件表面淋涂硬化液，进行固化；S3)对PET防爆膜的表面进行UV压纹处理、镀膜和印刷；S4)将加硬处理后的注塑件的内表面与防爆膜贴合；S5)将防爆膜贴合后的注塑件进行CNC加工。本发明专利技术制备工艺简单，制作工序的步骤少，避免了盖板外周、指纹孔、摄像孔等部位的边缘透光；采用本发明专利技术制备方法制成的手机盖，可塑性强，抗冲击性能好，电磁信号屏蔽低，对电磁波损耗小，硬度高，耐磨性、耐腐蚀性、高低温冲击性和抗老化性能都较好，减少了手机后盖透光，降低摄像头高度和手机的厚度，增加了设计空间，增强了手机的视觉感。增强了手机的视觉感。增强了手机的视觉感。

【技术实现步骤摘要】
一种纹理膜片的内凹贴合手机盖制备方法


[0001]本专利技术涉及手机盖
，尤其涉及一种纹理膜片的内凹贴合手机盖制备方法。

技术介绍

[0002]光学塑料制品作为玻璃制品的替代品，目前已经广泛应用于社会的各个方面，光学塑料制品具有高透光、质轻、耐候、耐冲击、易成型、成本低廉等优点，正在逐步替代玻璃制品，应用于光学仪器和电子工业等方面。
[0003]常见的塑料制品包括PC、PMMA、PA、PET等工程塑料，已经广泛应用于手机镜片、眼镜镜片、镜头、仪表盘、显示屏、盖板等领域。玻璃材质手机后盖及光学塑料制品，目前主要采用玻璃基材加贴膜方式实现，现有技术中在手机盖板的内部贴膜，存在内应力、光学畸变，手机后盖透光等问题。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供一种纹理膜片的内凹贴合手机盖制备方法，以解决上述
技术介绍
中所提出的问题。
[0005]为达到上述目的，本专利技术采用的技术方案是：一种纹理膜片的内凹贴合手机盖制备方法，包括如下步骤：S1)注塑件成型：采用光学级透明塑料进行后盖内凹注塑成型，其包括光学级透明塑料熔融、上模、调试、合模、射胶填充、保压成型、冷却和开模；S2)加硬处理：将注塑件表面淋涂硬化液，进行固化；S3)防爆膜制作：对PET防爆膜的表面进行UV压纹处理、镀膜和印刷；S4)防爆膜贴合：将加硬处理后的注塑件的内表面与防爆膜贴合；S5)CNC加工：将防爆膜贴合后的注塑件进行CNC加工。
[0006]作为进一步的优化，所述光学级透明塑料包括聚甲基丙烯酸甲酯和/或聚碳酸酯。
[0007]作为进一步的优化，S1中注塑件成型的厚度为0.075
‑
0.1mm，火山口处采用内凹设计。
[0008]作为进一步的优化，S2中硬化液固化能量为200
‑
250mj/cm
²
，时间为5
‑
10s。
[0009]作为进一步的优化，S3中UV层的厚度为5
‑
8um； UV压纹处理的能量为500
‑
600mj/cm
²
，时间为5
‑
10s。
[0010]作为进一步的优化，S4中防爆膜包括依次叠加的OCA光学胶、PET基材、UV胶层、电镀层和油墨层。
[0011]作为进一步的优化，所述OCA光学胶的厚度为25
‑
50um；所述PET基材的厚度为50um
‑
100um；所述UV胶层为改性丙烯酸酯胶层，其厚度为5
‑
8um；所述油墨层厚度为15
‑
30um。
[0012]作为进一步的优化，所述电镀层厚度为30
‑
50nm，其包括介质膜与金属膜，所述介
质膜为二氧化硅、二氧化钛或五氧化三钛中的一种或多种，所述金属膜材质为Ag、Cu和Al中的一种。
[0013]作为进一步的优化，S4中防爆膜贴合采用真空加热贴合机，真空度为
‑
100mbar、贴合温度为25
‑
40℃，贴合时间为20
‑
40s，胶头为仿形凸起胶头。
[0014]本专利技术还提供了一种手机盖，采用上述的纹理膜片的内凹贴合手机盖制备方法制备而成，手机盖的内凹处用于降低摄像头凸出于手机盖的程度。
[0015]与已有技术相比，本专利技术的有益效果体现在：1.本专利技术制备工艺降低摄像头设计时的凸起高度，增加了设计空间，外观也会更加美观，本专利技术通过玻璃制品难以实现，与现有技术的玻璃盖板相比，避免了盖板外周、指纹孔、摄像孔等部位的边缘透光，降低摄像头高度和手机的厚度；2.采用本专利技术的制备方法制成的手机盖，降低摄像头高度和手机的厚度，可塑性强，抗冲击性能好，电磁信号屏蔽低，对电磁波损耗小，硬度高，耐磨性、耐腐蚀性、高低温冲击性、抗老化性能都较好，减少了手机后盖透光，增强了光质感。
附图说明
[0016]图1为本专利技术的工艺流程图。
[0017]图2为本专利技术的手机盖内凹处的侧视剖视图。
[0018]图3为本专利技术的手机盖的结构示意图。
具体实施方式
[0019]以下是本专利技术的具体实施例，结合附图对本专利技术的技术方案作进一步的描述，但本专利技术并不限于这些实施例。
[0020]如图1至3所示，一种纹理膜片的内凹贴合手机盖制备方法，包括如下步骤：S1)注塑件成型：采用光学级透明塑料进行注塑成型，注塑成型包括如下工艺流程：塑料熔融
→
上模
→
调试
→
合模
→
射胶填充
→
保压成型
→
冷却
→
开模；光学级透明塑料为聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）和/或聚碳酸酯（PC），聚甲基丙烯酸甲酯和/或聚碳酸酯成型后的厚度为0.075
‑
0.1mm；射胶填充的注射压力为80
‑
130MPa，注射时间为2
‑
5s，保压成型的压力为40
‑
60MPa，保压成型的时间为20
‑
40s；经本步骤的注塑工艺制成的产品厚度可以实现0.075
‑
0.1mm手机后盖，其平整度较好、产品厚度均匀，且产品的流平性能较好，减少了应力及彩虹纹等不良现象的产生；注塑成型后的半成品应该具有较高的透光率（≥88％），无内应力与光学畸变，平整度较好（≤0.3mm）；S2)素材加硬：将素材（1435注塑粒子）表面淋涂硬化液，固化能量为200
‑
250mj/cm
²
，时间为5
‑
10s；S3)防爆膜制作：对PET防爆膜的表面进行UV压纹处理、镀膜和印刷，其中UV压纹处理能量为500
‑
600mj/cm
²
，时间5
‑
10s；S4)防爆膜贴合：将加硬后的注塑件的内表面与防爆膜贴合，防爆膜包括依次叠加的OCA光学胶、PET基材、UV胶层、电镀层和油墨层，OCA光学胶的厚度为25
‑
50um；PET基材的厚度为50um
‑
100um；UV胶层包括改性丙烯酸酯胶层，其厚度为5
‑
8um；油墨层厚度为15
‑
30um；电镀层厚度为30
‑
50nm，其包括介质膜与金属膜，介质膜为二氧化硅、二氧化钛或五氧
化三钛中的一种或多种，金属膜材质为Ag、Cu和Al中的一种；防爆膜的具体加工流程为：使用UV模具将所需的纹理转印到PET材质的防爆膜上；将UV转印后制得的膜片使用镀膜设备进行镀膜，具体工艺过程为挂架
→
抽真空
→
材料预处理
→
离子溅射镀膜
→
放气；在镀膜层上使用丝印设备及网板进行底色印刷，实现纹理图案显示；将油墨印刷后制得的纹理图案膜片按照所需的成品的图纸规格进行冲本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种纹理膜片的内凹贴合手机盖制备方法，其特征在于，包括如下步骤：S1)注塑件成型：采用光学级透明塑料进行后盖内凹注塑成型；S2)加硬处理：将注塑件表面淋涂硬化液，进行固化；S3)防爆膜制作：对PET防爆膜的表面进行UV压纹处理、镀膜和印刷；S4)防爆膜贴合：将加硬处理后的注塑件的内表面与防爆膜贴合；S5)CNC加工：将防爆膜贴合后的注塑件进行CNC加工。2.根据权利要求1所述的纹理膜片的内凹贴合手机盖制备方法，其特征在于，所述光学级透明塑料包括聚甲基丙烯酸甲酯和/或聚碳酸酯。3.根据权利要求1所述的纹理膜片的内凹贴合手机盖制备方法，其特征在于，S1中注塑件成型的厚度为0.075
‑
0.1mm，火山口处采用内凹设计。4.根据权利要求1所述的纹理膜片的内凹贴合手机盖制备方法，其特征在于，S2中硬化液固化能量为200
‑
250mj/cm
²
，时间为5
‑
10s。5.根据权利要求1所述的纹理膜片的内凹贴合手机盖制备方法，其特征在于，S3中UV层的厚度为5
‑
8um； UV压纹处理的能量为500
‑
600mj/cm
²
，时间为5
‑
10s。6.根据权利要求1所...

【专利技术属性】
技术研发人员：许一青，于华，
申请(专利权)人：昆山三景科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：