成膜装置、调整装置、调整方法及电子器件的制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种抑制基板与掩模的对准的精度的降低的成膜装置、调整装置、调整方法及电子器件的制造方法。成膜装置具备：腔室，其将内部保持为真空；吸附板，其设置在腔室的内部，吸附基板；掩模台，其设置在腔室的内部，载置掩模；以及对准部件，其进行吸附于吸附板的基板与载置于掩模台的掩模的对准。另外，成膜装置具备调整部件，所述调整部件在腔室的内部保持为真空的状态下，调整吸附板与掩模台的相对倾斜。斜。斜。

【技术实现步骤摘要】
成膜装置、调整装置、调整方法及电子器件的制造方法


[0001]本专利技术涉及成膜装置、调整装置、调整方法及电子器件的制造方法。

技术介绍

[0002]在有机EL显示器等的制造中，使用掩模在基板上对蒸镀物质进行成膜。作为成膜的预处理，进行掩模与基板的对准，使两者重叠。在专利文献1中公开了在静电吸盘等吸附板吸附有基板的状态下，使基板与掩模接近来进行对准。另外，在专利文献2中公开了在使支承于基板支承部的基板吸附于静电吸盘的过程中，为了减少基板的挠曲的影响而使多个基板支承部的高度不同。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2019－099910号公报
[0006]专利文献2：日本特开2019－102802号公报

技术实现思路

[0007]专利技术要解决的课题
[0008]在上述现有技术中，基板与掩模的对准是在保持为真空的腔室的内部进行的。但是，当使腔室的内部为真空状态时，由于腔室外部的压力(大气压)与腔室内部的压力之差而在腔室产生形变，由此，有时在吸附基本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种成膜装置，所述成膜装置具备：腔室，其将内部保持为真空；吸附板，其设置在所述腔室的内部，吸附基板；掩模台，其设置在所述腔室的内部，载置掩模；以及对准部件，其进行吸附于所述吸附板的所述基板与载置于所述掩模台的所述掩模的对准，其特征在于，所述成膜装置具备调整部件，所述调整部件在所述腔室的内部保持为真空的状态下，调整所述吸附板与所述掩模台的相对倾斜。2.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，所述调整部件具有设置在所述腔室的外部的操作部。3.根据权利要求1或2所述的成膜装置，其特征在于，所述调整部件通过使所述吸附板移动，调整所述相对倾斜。4.根据权利要求3所述的成膜装置，其特征在于，所述吸附板由刚性比形成所述掩模台的材料高的材料形成。5.根据权利要求1或2所述的成膜装置，其特征在于，还具备支承所述吸附板的多个支承轴，所述调整部件对所述多个支承轴中的至少一部分支承轴的轴向的位置进行调整。6.根据权利要求5所述的成膜装置，其特征在于，还具备弯曲部，所述弯曲部以使所述吸附板相对于所述支承轴的角度可变的方式将所述支承轴和所述吸附板连接。7.根据权利要求5所述的成膜装置，其特征在于，还具备设置在所述支承轴和所述吸附板之间的球面轴承。8.根据权利要求6所述的成膜装置，其特征在于，还具备：浮动部，其经由所述弯曲部与所述支承轴连接；以及弹性构件，其安装于所述浮动部以便支承所述吸附板。9.根据权利要求7所述的成膜装置，其特征在于，还具备：浮动部，其经由所述球面轴承与所述支承轴连接；以及弹性构件，其安装于所述浮动部以便支承所述吸附板。10.根据权利要求5所述的成膜装置，其特征在于，还具备弹性构件，所述弹性构件介于所述支承轴和所述吸附板之间，支承所述吸附板。11.根据权利要求5所述的成膜装置，其特征在于，还具备升降部件，所述升降部件具有支承所述多个支承轴的升降板和使所述升降板升降的致动器，所述调整部件以能够调整所述多个支承轴的每一个相对于所述升降板的相对位置的方式设置在所述升降板与所述多个支承轴的每一个之间。12.根据权利要求5所述的成膜装置，其特征在于，
所述调整部件包括沿着形成于所述支承轴的螺纹与所述支承轴螺纹接合的调整螺母。13.根据权利要求5所述的成膜装置，其特征在于，所述吸附板包括用于利用静电力吸附所述基板的电极，向所述电极供给电力的电线配置在所述支承轴的内部。14.根据权利要求13所述的成膜装置，其特征在于，还具备多个接触传感器，所述接触传感器设置于所述吸附板，检测与掩模台的接触，与所述多个接触传感器连接的电缆配置在所述多个支承轴中的与在内部配置有所述电线的支承轴不同的支承轴的内部。15.根据权利要求1或2所述的成膜装置，其特征在于，还具备多个接触传感器，所述接触传感器设置于所述吸附板，检测与掩模台的接触。16.根据权利要求14所述的成膜装置，其特征在于，所述多个接触传感器检测出基板与所述吸附板的吸附面接触。17.根据权利要求1或2所述的成膜...

【专利技术属性】
技术研发人员：石井博，唐泽拓郎，
申请(专利权)人：佳能特机株式会社，
类型：发明
国别省市：