【技术实现步骤摘要】
一种设施栽培樱桃高密度早丰产的管理方法
[0001]本专利技术涉及农业
,具体来说,涉及一种设施栽培樱桃高密度早丰产的管理方法。
技术介绍
[0002]目前甜樱桃设施栽培主要采用异地移栽盛果期大树或在盛果期樱桃园就地建设施的两种方法。山东、辽宁和陕西等地区广泛采用株距2.5
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3.5米,行距3.5
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4.5米的栽培密度,常见甜樱桃树形有自由纺锤形、小冠疏层形和西班牙丛枝形等。
[0003]现有的栽培技术对盛果期甜樱桃大树的质量要求高,需要耗费人力专门去选择购买此类大树,且需要远距离运输,运输期间常出现根系受冻害、枝干受伤等问题,为了提高移栽成活率需要大量疏剪花芽,大树移栽当年甜樱桃亩产量需控制在200
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300公斤,对设施栽培甜樱桃早期经济效益造成了较大影响。因此,如何保障设施栽培甜樱桃第一年较高产量和好的果实品质成为值得重视的一个紧要问题,急需研发设施甜樱桃提早结果丰产的技术。
[0004]针对相关技术中的问题,目前尚未提出有效的解决方案。
技术实现思路
[0005]针对相关技术中的问题,本专利技术提出一种设施栽培樱桃高密度早丰产的管理方法,以克服现有相关技术所存在的上述技术问题。
[0006]为此,本专利技术采用的具体技术方案如下:
[0007]一种设施栽培樱桃高密度早丰产的管理方法,该方法包括以下步骤:
[0008]容器选择与基质栽培:容器选择PVC材质且为黑色带底盘的控根容器,且基质选择以无害化 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种设施栽培樱桃高密度早丰产的管理方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:容器选择与基质栽培:容器选择PVC材质且为黑色带底盘的控根容器,且基质选择以无害化处理的水洗牛粪为主要原料并按比例混合河沙及蛭石,备用;苗木栽植:选择吉塞拉6号砧木嫁接的1年生甜樱桃苗木,并在12月10日进行栽植;栽植后至萌芽前的管理:甜樱桃苗木栽植后将苗木整株放置在包含日光的温室内,且放置密度为株距50cm,行距160cm,每亩栽植833株,同时对每个控根容器完成2个长度为10cm的滴箭的放置处理,滴箭出水流量设置为3L/小时,并使用0.006mm厚度的无色地膜对控根容器的上端口进行全部覆盖处理;萌芽期的管理:若甜樱桃苗木的芽体变绿,则将甜樱桃苗木定干至高度100cm,并使用0.006mm厚度的无色地膜对控根容器的上端口进行全部覆盖处理;新稍期的管理:对甜樱桃苗木的侧枝新稍及中心领导新稍进行剪除,并使用0.008mm厚度的黑色地膜对控根容器的上端口和侧面进行全部覆盖处理;新稍停长期的管理:对每株甜樱桃苗木施用20g磷酸二氢钾,并使用0.008mm厚度的黑色地膜对控根容器的上端口和侧面进行全部覆盖处理,其中,该时期设置温室内白天温度≤28℃,夜间温度≥15℃,空气湿度60%,基质湿度55%;落叶后树体结构参数:树高150cm,主干着生8
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12个结果枝,且结果枝长为25
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30cm,粗度为0.8
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1.3cm,开张角度为70
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80度,每个结果枝叶花芽数量为5
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8个;休眠期的管理:设定11月20日开始进入休眠管理时间,该时期白天覆盖保温遮光棉被,夜间卷起保温遮光棉被;开始升温至萌芽前的管理:设定12月25日开始进入升温管理时间,该时期使用0.006mm厚度的无色地膜对控根容器的上端口进行全部覆盖处理;萌芽期至谢花期的管理:使用滴管系统且间隔7
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10天对每株甜樱桃苗木补充20克水溶性复合肥,在盛花期喷施复配植物生长调节剂,同时间隔15
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18天后再喷一次,并使用0.008mm厚度的黑色地膜对控根容器的上端口和侧面进行全部覆盖处理;谢花期至成熟期的管理:使用滴管系统且间隔7
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10天对每株甜樱桃苗木补充30克磷酸二氢钾+5克中微量元素肥料,并使用0.008mm厚度的黑色地膜对控根容器的上端口和侧面进行全部覆盖处理。2.根据权利要求1所述的一种设施栽培樱桃高密度早丰产的管理方法,其特征在于,所述容器选择时,容器的直径为40cm,高度为40cm,壁厚为0.8mm;所述基质选择时,水洗牛粪的颗粒大小为2.0mm
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6.0mm,且水洗牛粪、河沙及蛭石之间的比例为5.5:1:1.5。3.根据权利要求1所述的一种设施栽培樱桃高密度早丰产的管理方法,其特征在于,所述苗木栽植时,苗木规格为嫁接口处粗度≥1.5cm,苗木高度≥150cm。4.根据权...
【专利技术属性】
技术研发人员:胡乃开,田长平,
申请(专利权)人:烟台市福山区水果帮苗木种植专业合作社,
类型:发明
国别省市:
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