一种低晶点有色自粘性聚乙烯保护膜及其制备方法技术

本发明专利技术涉及聚乙烯保护膜技术领域，提供了一种低晶点有色自粘性聚乙烯保护膜及其制备方法。本发明专利技术严格控制外层、中层和内层所选用的聚乙烯的熔指和密度，以及三层挤出的质量比，提高聚乙烯和色母粒的相容性，并且本发明专利技术在中层选择高熔指的高压低密度聚乙烯，流动性好，晶点极少，能够和色母粒有效融合，减少晶点的生成。本发明专利技术在三层共挤过程中采用氮气进行保护，能够有效防止色母氧化，避免色母粘连在挤出机筒和螺杆上，同时还能起到降低晶点的作用。实施例结果表明，本发明专利技术提供的低晶点有色自粘性聚乙烯保护膜晶点少，且无黑点和焦料。且无黑点和焦料。

【技术实现步骤摘要】
一种低晶点有色自粘性聚乙烯保护膜及其制备方法


[0001]本专利技术涉及保护膜
，尤其涉及一种低晶点有色自粘性聚乙烯保护膜及其制备方法。

技术介绍

[0002]聚乙烯保护膜是一类被广泛使用的表面保护膜，可以保护产品在运输、加工过程中不受损伤，在光电行业、五金行业等具有广泛的应用，具体可以作为偏光片、塑胶镜片、晶显示器太阳能电池板等的保护膜。
[0003]聚乙烯保护膜通常为纯聚乙烯膜或聚乙烯与聚丙烯的共挤膜，成型的聚乙烯保护膜应该表面平整光滑、含有较少的晶点。尤其是在光电领域，在进行液晶显示板的显示能力、色域、表观等性能检验时，为了保护偏光片，一般是在贴合保护膜的条件下进行检验，若保护膜的晶点多，会造成偏光片本身的瑕疵不易发现，导致使用后的成品报废。
[0004]在实际应用过程中，根据市场和用户的喜好，通常需要将聚乙烯保护膜制备成不同的颜色，制备保护膜的过程中需要加入色母粒，但是色母粒的加入容易造成保护膜中产生较多的晶点，无法达到使用要求。
[0005]中国专利CN101670906A中公布了一种生物降解聚乙烯包装膜，其中采用线性聚乙烯为主要原料，在中层加入色母料，并且在外层、中层和内层都加入了PHS高聚物，利用PHS高聚物减少膜片的焦料和晶点。该专利虽然能得到低晶点的有色聚乙烯保护膜，但是由于是采用线性聚乙烯为原料，线性低密度聚乙烯的粘度大，流动性不好，容易粘附在螺杆和模具上，形成晶点焦料。
[0006]目前，本领域中尚没有以LDPE(高压低密度聚乙烯)为主要原料制造有色聚乙烯保护膜的报道。

技术实现思路

[0007]有鉴于此，本专利技术提供了一种低晶点有色自粘性聚乙烯保护膜及其制备方法。本专利技术提供的保护膜以LDPE为主要原料，能够制备成不同的颜色，且具有低晶点的特点。
[0008]为了实现上述专利技术目的，本专利技术提供以下技术方案：
[0009]一种低晶点有色自粘性聚乙烯保护膜，由外层、中层和内层三层共挤吹膜制成；
[0010]所述外层的制备原料包括：茂金属低密度聚乙烯和聚烯烃塑性体；所述茂金属低密度聚乙烯和聚烯烃塑性体的质量比为1～6:4～9；茂金属低密度聚乙烯的熔指为3.0～4.5g/10min，密度为0.910～0.915g/cm3；
[0011]所述中层的制备原料包括：第一高压低密度聚乙烯和低晶点色母粒；第一高压低密度聚乙烯和低晶点色母粒的质量比为90～100:3～10；所述第一高压低密度聚乙烯的熔指为4.0～6.0g/10min，密度为0.920～0.925g/cm3；所述低晶点色母粒的载体为低密度聚乙烯；
[0012]所述内层的制备原料包括第二高压低密度聚乙烯；所述第二高压低密度聚乙烯的
熔指为1.8～2.2g/10min，密度为0.922～0.924g/cm3；
[0013]所述外层、中层和内层的挤出质量比为10～20:50～70:20～40。
[0014]优选的，所述聚烯烃塑性体的熔指为3～4g/10min，密度为0.870～0.900g/cm3。
[0015]优选的，所述低晶点色母粒包括蓝色母粒或绿色母粒；所述蓝色母粒的熔指为8～12g/10min，密度为0.918～0.925g/cm3；所述绿色母粒的熔指为16～19g/10min，密度为0.918～0.925g/cm3。
[0016]本专利技术还提供了上述方案所述低晶点有色自粘性聚乙烯保护膜的制备方法，包括以下步骤：
[0017]将外层的制备原料、中层的制备原料和内层的制备原料进行三层共挤，得到所述低晶点有色自粘性聚乙烯保护膜；所述三层共挤用设备包括外层挤出机、中层挤出机和内层挤出机，所述外层挤出机、中层挤出机和内层挤出机的出口和模头连接；所述外层挤出机、中层挤出机和内层挤出机的进料口均与氮气输入装置连通，所述三层共挤在氮气保护条件下进行。
[0018]优选的，所述氮气输入装置包括氮气气源、氮气输送管以及设置在氮气输送管上的调压阀和流量计，所述氮气输送管用于连接氮气气源的出口和挤出机的进料口。
[0019]优选的，所述外层挤出机、中层挤出机和内层挤出机均设置有6个加热区，按照原料通过顺序，依次记为一区～六区；所述模头设置有4个加热区，按照原料通过顺序，依次记为一区～四区；
[0020]所述外层挤出机的一区温度为170～175℃，二区温度为180～185℃，三区温度为180～185℃，四区温度为180～185℃，五区温度为175～180℃，六区温度为175～180℃；
[0021]所述中层挤出机的一区温度为150～155℃，二区温度为155～160℃，三区温度为155～160℃，四区温度为155～160℃，五区温度为155～160℃，六区温度为150～160℃；
[0022]所述内层挤出机的一区温度为155～160℃，二区温度为160～165℃，三区温度为160～165℃，四区温度为160～165℃，五区温度为160～165℃，六区温度为160～165℃；
[0023]所述模头的一区温度为170～175℃，二区温度为175～180℃，三区温度为175～180℃，四区温度为175～180℃。
[0024]优选的，所述三层共挤的过程具体包括：采用氮气输入装置向外层、中层和内层挤出机的进料口输入氮气，在氮气保护条件下，外层的制备原料、中层的制备原料和内层的制备原料分别进入外层、中层和内层挤出机中进行熔融塑化，所得熔胶过滤后输送至模头，挤出吹膜并形成膜泡自模口吹出，吹出的膜泡通过模口处的自动风环冷却，得到低晶点有色自粘性聚乙烯保护膜。
[0025]优选的，膜泡冷却后，还包括依次进行稳泡、测厚、牵引、瑕疵检测、切边、除静电和收卷。
[0026]本专利技术提供了一种低晶点有色自粘性聚乙烯保护膜，其特征在于，由外层、中层和内层三层共挤吹膜制成；所述外层的制备原料包括：茂金属低密度聚乙烯和聚烯烃塑性体；所述茂金属低密度聚乙烯和聚烯烃塑性体的质量比为1～6:4～9；所述中层的制备原料包括：第一高压低密度聚乙烯和低晶点有色母粒；第一高压低密度聚乙烯和低晶点有色母粒的质量比为90～100:3～10；所述第一高压低密度聚乙烯的熔指为4.0～6.0g/10min，密度为0.920～0.925g/cm3；所述低晶点色母粒的载体为低密度聚乙烯；所述内层的制备原料包
括第二高压低密度聚乙烯；所述第二高压低密度聚乙烯的熔指为1.8～2.2g/10min，密度为0.922～0.924g/cm3；所述外层、中层和内层的挤出质量比为10～20:50～70:20～40。本专利技术严格控制外层、中层和内层所选用的聚乙烯的熔指和密度以及三层挤出的质量比，提高聚乙烯和色母粒的相容性，并且本专利技术在中层选择高熔指的高压低密度聚乙烯，流动性好，晶点极少，能够和色母粒有效融合，减少晶点的生成；本专利技术选择载体为低密度聚乙烯的色母粒，色母粒的载体和保护膜配方中的成分一致，更有利于色母粒的分散，减少晶点的产生。进一步的，本专利技术对色母粒的熔指和密度本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种低晶点有色自粘性聚乙烯保护膜，其特征在于，由外层、中层和内层三层共挤吹膜制成；所述外层的制备原料包括：茂金属低密度聚乙烯和聚烯烃塑性体；所述茂金属低密度聚乙烯和聚烯烃塑性体的质量比为1～6:4～9；茂金属低密度聚乙烯的熔指为3.0～4.5g/10min，密度为0.910～0.915g/cm3；所述中层的制备原料包括：第一高压低密度聚乙烯和低晶点色母粒；第一高压低密度聚乙烯和低晶点色母粒的质量比为90～100:3～10；所述第一高压低密度聚乙烯的熔指为4.0～6.0g/10min，密度为0.920～0.925g/cm3；所述低晶点色母粒的载体为低密度聚乙烯；所述内层的制备原料包括第二高压低密度聚乙烯；所述第二高压低密度聚乙烯的熔指为1.8～2.2g/10min，密度为0.922～0.924g/cm3；所述外层、中层和内层的挤出质量比为10～20:50～70:20～40。2.根据权利要求1所述的低晶点有色自粘性聚乙烯保护膜，其特征在于，所述聚烯烃塑性体的熔指为3～4g/10min，密度为0.870～0.900g/cm3。3.根据权利要求1所述的低晶点有色自粘性聚乙烯保护膜，其特征在于，所述低晶点色母粒包括蓝色母粒或绿色母粒；所述蓝色母粒的熔指为8～12g/10min，密度为0.918～0.925g/cm3；所述绿色母粒的熔指为16～19g/10min，密度为0.918～0.925g/cm3。4.权利要求1～3任意一项所述低晶点有色自粘性聚乙烯保护膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：将外层的制备原料、中层的制备原料和内层的制备原料进行三层共挤，得到所述低晶点有色自粘性聚乙烯保护膜；所述三层共挤用设备包括外层挤出机、中层挤出机和内层挤出机，所述外层挤出机、中层挤出机和内层挤出机的出口和模头连接；所述外层挤出机、中层挤出机和内层挤出机的进料口均与氮气输入装置连通，所述三层共...

【专利技术属性】
技术研发人员：文斌森，魏洪媚，
申请(专利权)人：江门市华龙膜材股份有限公司，
类型：发明
国别省市：