本实用新型专利技术公开了一种压电晶体频率片凸面研磨频率实时监测装置，包括操作台和水平驱动装置，所述操作台内固定安装有负压机，所述负压机的输出端密封连通有多个主管道，所述操作台上水平设置有底板，所述底板的外周罩设有防尘罩，所述防尘罩的顶部开设有加工窗口。通过设置多个摄像头，能对频率片的位置进行实时捕捉，当频率片在研磨时发生了明显的移动，则摄像头会向控制装置发送反馈信号，使得人们能及时对研磨板以及频率片的位置进行调整；通过设置主管道、副管道和密封盒，可以分区形成负压空间，在不影响频率片固定效果的前提下，既减少了噪音的产生，也节约了负压机所消耗的电力资源。力资源。力资源。
【技术实现步骤摘要】
一种压电晶体频率片凸面研磨频率实时监测装置
[0001]本技术涉及研磨测频
，尤其涉及一种压电晶体频率片凸面研磨频率实时监测装置。
技术介绍
[0002]压电晶体被广泛应用于电子信息产业的各个领域，是现代科技发展中不可或缺的一种材料，压电晶体在制作为频率片时，需要对其研磨测频，以达到使用需求，常规的研磨测评装置难以对压电晶体进行较好的固定，并且测频探头多为固定安装，当频率片发生移位时，会影测频探头的监测，并且一般使用的研磨板的面积都远大于频率片的面积，工作人员在研磨过程中也难以观察频率片是否发生了移动，为此，我们提出一种压电晶体频率片凸面研磨频率实时监测装置。
技术实现思路
[0003]本技术的目的是为了解决现有技术中工作人员在研磨过程中难以观察频率片是否发生了移动，导致测频过程受到影响的问题，而提出的一种压电晶体频率片凸面研磨频率实时监测装置。
[0004]为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：
[0005]一种压电晶体频率片凸面研磨频率实时监测装置，包括操作台和水平驱动装置，所述操作台内固定安装有负压机，所述负压机的输出端密封连通有多个主管道，所述操作台上水平设置有底板，所述底板的外周罩设有防尘罩，所述防尘罩的顶部开设有加工窗口，所述操作台上固定安装有控制装置，所述底板内还设有多个固定机构，且每个固定机构均与位置相对应的主管道密封连接，所述水平驱动装置固定安装在防尘罩的上方，所述水平驱动装置的输出端固定连接有研磨机构。
[0006]进一步，每个所述固定机构均包括密封滑动安装在底板内的密封盒，所述底板内对称开设有多个副管道，每个所述密封盒的底部均与相应的主管道密封连通，每个所述密封盒的顶部均与相应的副管道密封连通。
[0007]进一步，所述底板的上表面对称开设有多个负压孔，每个所述负压孔均与位置相对应的副管道密封连通，每个所述主管道上均安装有电磁阀和流速传感器。
[0008]进一步，所述防尘罩内对称安装有多个与控制装置电性连接的摄像头，每个所述摄像头的位置均靠近底板。
[0009]进一步，所述研磨机构包括与水平驱动装置配合安装的滑动座，所述滑动座包括对称安装的两根滑杆，所述滑动座的下方固定安装有电动伸缩杆，所述电动伸缩杆的输出端固定连接有支撑板。
[0010]进一步，所述支撑板包括水平端和竖直端，所述支撑板的水平端与两根滑杆滑动相连，所述支撑板的竖直端固定连接有研磨板，所述研磨板的上表面对称安装有两个频率探头。
[0011]通过设置多个摄像头，能对频率片的位置进行实时捕捉，当频率片在研磨时发生了明显的移动，则摄像头会向控制装置发送反馈信号，使得人们能及时对研磨板以及频率片的位置进行调整；通过设置主管道、副管道和密封盒，可以分区形成负压空间，在不影响频率片固定效果的前提下，既减少了噪音的产生，也节约了负压机所消耗的电力资源。
附图说明
[0012]图1为本技术提出的一种压电晶体频率片凸面研磨频率实时监测装置的结构示意图；
[0013]图2为图1中A处放大图。
[0014]图中：1操作台、2控制装置、3防尘罩、4水平驱动装置、5滑动座、6电动伸缩杆、7支撑板、8研磨板、9频率探头、10摄像头、11底板、12负压机、13主管道、14电磁阀、15流速传感器、16密封盒、17副管道、18负压孔。
具体实施方式
[0015]参照图1
‑
2，一种压电晶体频率片凸面研磨频率实时监测装置，包括操作台1和水平驱动装置4，操作台1内固定安装有负压机12，负压机12的输出端密封连通有多个主管道13，操作台1上水平设置有底板11，底板11的外周罩设有防尘罩3，防尘罩3能避免频率片在研磨时的粉尘逸散到设备周围，防尘罩3的顶部开设有加工窗口，操作台1上固定安装有控制装置2，底板11内还设有多个固定机构，且每个固定机构均与位置相对应的主管道13密封连接，水平驱动装置4固定安装在防尘罩3的上方，水平驱动装置4的输出端固定连接有研磨机构。
[0016]每个固定机构均包括密封滑动安装在底板11内的密封盒16，密封盒16可以从底板11内取出，方便对其进行清洁，底板11内对称开设有多个副管道17，每个密封盒16的底部均与相应的主管道13密封连通，每个密封盒16的顶部均与相应的副管道17密封连通。
[0017]底板11的上表面对称开设有多个负压孔18，每个负压孔18均与位置相对应的副管道17密封连通，每个主管道13上均安装有电磁阀14和流速传感器15，流速传感器15用于测定主管道13内的气体流速，当密封盒16内的粉尘较多时，会导致主管道13内气体流速变小，当气体流速下降到一定值后，流速传感器15向控制装置2发送电信号，控制装置2以声、光等方式提醒工作人员及时对密封盒16以及负压孔18进行清洁，需要说明地是，为防止主管道13或副管道17堵塞，其内部均设有滤网。
[0018]防尘罩3内对称安装有多个与控制装置2电性连接的摄像头10，每个摄像头10的位置均靠近底板11，摄像头10能捕捉频率片的运动轨迹和位置，当频率片在研磨时发生了明显的移动，则摄像头10会向控制装置2发送反馈信号，使得人们能及时对研磨板8以及频率片的位置进行调整。
[0019]研磨机构包括与水平驱动装置4配合安装的滑动座5，滑动座5包括对称安装的两根滑杆，滑动座5的下方固定安装有电动伸缩杆6，电动伸缩杆6的输出端固定连接有支撑板7，电动伸缩杆6根据实际需求选择型号即可，上述水平驱动装置4是指现有技术中的驱动电机、滚珠丝杠、螺母座所构成的能驱动滑动座5在水平方向上运动的装置，且水平驱动装置4具有即停即止的功能。
[0020]支撑板7包括水平端和竖直端，支撑板7的水平端与两根滑杆滑动相连，能使支撑板7的运动更加稳定，也不容易发生明显的振动，支撑板7的竖直端固定连接有研磨板8，研磨板8的上表面对称安装有两个频率探头9，因为驱动研磨板8高速转动的装置为压电晶体频率片加工过程中的必备装置，本领域技术人员对其结构十分清楚，所以为使附图更加清楚、直管，附图1中未图示此装置。
[0021]在对压电晶体频率片凸面进行研磨时，先将频率片放置在底板11上并使频率片尽量处于底板11的中心位置，多个摄像头10会自动拍摄画面，通过外界计算机对图像进行分析，以确定频率片的位置，外界计算机利用图像确定物体在三维空间中的坐标为现有技术，在此不再赘述；
[0022]控制装置2会根据频率片的位置自动打开相应位置的电磁阀14，负压机12同时开启并调整输出功率在对应的范围内，此时，底板11上方的空气(主要为频率片下方以及频率片周围的空气)会被吸入负压孔18内，使频率片受到压强作用而固定在底板11上；
[0023]与此同时，控制装置2会通过水平驱动装置4带动研磨板8移动到频率片的正上方，当工作人员选择开始研磨时，电动伸缩杆6会带动研磨板8向下运动，使其对频率片进行研磨，同时频率探头9对频率片进行测频，当频率探头9探得到的达到设定值时，本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种压电晶体频率片凸面研磨频率实时监测装置，包括操作台(1)和水平驱动装置(4)，其特征在于，所述操作台(1)内固定安装有负压机(12)，所述负压机(12)的输出端密封连通有多个主管道(13)，所述操作台(1)上水平设置有底板(11)，所述底板(11)的外周罩设有防尘罩(3)，所述防尘罩(3)的顶部开设有加工窗口，所述操作台(1)上固定安装有控制装置(2)，所述底板(11)内还设有多个固定机构，且每个固定机构均与位置相对应的主管道(13)密封连接，所述水平驱动装置(4)固定安装在防尘罩(3)的上方，所述水平驱动装置(4)的输出端固定连接有研磨机构。2.根据权利要求1所述的一种压电晶体频率片凸面研磨频率实时监测装置，其特征在于，每个所述固定机构均包括密封滑动安装在底板(11)内的密封盒(16)，所述底板(11)内对称开设有多个副管道(17)，每个所述密封盒(16)的底部均与相应的主管道(13)密封连通，每个所述密封盒(16)的顶部均与相应的副管道(17)密封连通。3.根据权利要求2所述的一种压电晶体频率片凸面研磨频率实时监测装置，其特...
【专利技术属性】
技术研发人员：马金邦，丁化，李慧清，
申请(专利权)人：连云港骐翔电子有限公司，
类型：新型
国别省市：
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