一种温度分布均匀的真空炉用钨坩埚制造技术

本实用新型专利技术公开了一种温度分布均匀的真空炉用钨坩埚，涉及钨坩埚技术领域，包括钨坩埚本体，所述钨坩埚本体呈碗状，所述钨坩埚本体的顶部设置有环形突沿，所述钨坩埚本体的外侧中部固定套接有限位环板，所述限位环板与环形突沿之间形成环形夹槽，所述限位环板的底部等间距连接有支撑腿，所述支撑腿的底端所在水平面的高度低于钨坩埚本体的底部所在水平面的高度，所述空腔的底壁中部设置有凸柱，所述凸柱的中部开设有通道。本实用新型专利技术通过限位环板与环形突沿之间形成环形夹槽，使得钨坩埚便于夹持不易打滑，钨坩埚的中部设有凸柱，凸柱的中部开设有通道，扩大了本钨坩埚的受热面积，使得本钨坩埚内物料受热均匀，节省了加热时间。时间。时间。

【技术实现步骤摘要】
一种温度分布均匀的真空炉用钨坩埚


[0001]本技术涉及钨坩埚
，具体涉及一种温度分布均匀的真空炉用钨坩埚。

技术介绍

[0002]钨坩埚是金属钨制品的一种。钨坩埚主要制作方式有烧结成型、冲压成型和旋压型。钨坩埚能在2600度以下的真空惰性气体中使用。钨坩埚的熔点沸点高，耐高温，强度好，抗磨耐腐蚀，热传导率大，热膨胀系数小，淬透性好。由于钨坩埚的这种特性，所以钨坩埚被广泛使用在稀土冶炼，石英玻璃，电子喷涂，晶体生长等行业。
[0003]目前，现有的钨坩埚大多为筒状和碗状，外表壁光滑，夹持时容易打滑导致钨坩埚脱落，且加热时，处于钨坩埚中部的物料到达所需温度的时间要比靠近钨坩埚外壁的物料所需时间长。
[0004]因此，专利技术一种温度分布均匀的真空炉用钨坩埚来解决上述问题很有必要。

技术实现思路

[0005]本技术的目的是提供一种温度分布均匀的真空炉用钨坩埚，通过在钨坩埚上设置有环形突沿和限位环板，限位环板与环形突沿之间形成环形夹槽，使得钨坩埚便于夹持不易打滑，提高了钨坩埚夹持取放的稳定性，钨坩埚的中部设有凸柱，凸本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种温度分布均匀的真空炉用钨坩埚，包括钨坩埚本体(1)，其特征在于：所述钨坩埚本体(1)呈碗状，所述钨坩埚本体(1)的内部开设有敞口朝上的空腔(2)，所述钨坩埚本体(1)的顶部设置有环形突沿(3)，所述环形突沿(3)的上侧左部开设有出料嘴(4)，所述出料嘴(4)与空腔(2)相贯通，所述钨坩埚本体(1)的外侧中部固定套接有限位环板(5)，所述限位环板(5)与环形突沿(3)之间形成环形夹槽(6)，所述限位环板(5)的底部等间距连接有支撑腿(7)，所述支撑腿(7)的底端所在水平面的高度低于钨坩埚本体(1)的底部所在水平面的高度，所述空腔(2)的底壁中部设置有凸柱(8)，所述凸柱(8)的中部开设有通道(9)，所述通道(9)的上端延伸至凸柱(8)的顶部表面，所述通道(9)的下端延伸至钨坩埚本体(1)的底部表面。2.根据权利要求1所述的一种温度分布均匀的真空炉用钨坩埚，其特征在于：所述凸柱(8)的壁厚与钨坩埚本体(1)的壁厚相同。3.根据权利要求1所述的一种温度分布均匀的真空炉用钨坩埚，其特征在于：所述环形突沿(3)与钨坩埚本体(1)之间一体化加工成型。4....

【专利技术属性】
技术研发人员：王法兵，徐信森，位峰，陈兴友，李生，梁朋兴，左振皋，孙一民，丛蓉，朱建涛，刘荣桥，位江岩，
申请(专利权)人：山东格美钨钼材料股份有限公司，
类型：新型
国别省市：