一种用于掩膜版存储箱的静电消除装置制造方法及图纸

技术编号:32989069 阅读:32 留言:0更新日期:2022-04-09 12:40
本实用新型专利技术公开了一种用于掩膜版存储箱的静电消除装置,包括储液管、传液管、具有吸水性的滚筒和用于向滚筒渗透防静电液的供液管,储液管的一端与传液管连接,供液管与传液管可拆卸连接,滚筒套装在供液管上,用于向掩膜版涂覆防静电液所述供液管的表面分布设置有圆孔,所述滚筒安装有粘尘纸卷,滚筒由防尘海绵制成,传液管包括直管和U型管,直管与U型管的中部连接,直管背离U型管的一端连接有调节阀,还包括转接管,转接管一端通过活接头与U型管的一端连接,转接管的另一端通过活接头与供液管的一端连接,本实用新型专利技术能给向掩膜版涂覆防静电液形成防静电薄膜以及去除掩膜版的灰尘。静电液形成防静电薄膜以及去除掩膜版的灰尘。静电液形成防静电薄膜以及去除掩膜版的灰尘。

【技术实现步骤摘要】
一种用于掩膜版存储箱的静电消除装置


[0001]本技术涉及掩膜版制造
,具体涉及一种用于掩膜版存储箱的静电消除装置。

技术介绍

[0002]掩膜版又称光掩膜版、光罩(Photo mask简称Mask),由石英玻璃作为基板衬底。首先在石英玻璃基板上镀上一层金属铬层,然后在铬层上面涂覆光阻(又称光刻胶,一种感光材料,在特定波长光的照射下其化学性质会发生改变)。把已设计好的电路图形通过电子激光设备使光阻曝光,被曝光的区域通过制程(光阻显影、铬层蚀刻)后形成与设计图一样的电路图形,从而成为类似曝光后的底片的光掩模母版。掩膜版是半导体、平板显示等行业生产制造过程中重要的关键材料。作为光刻复制图形的基准和蓝本,掩膜版是连接工业设计和工艺制造的关键,掩膜版的精度和质量水平会直接影响最终下游制品的优品率。
[0003]在掩膜版制造过程中往往会因为人活动时身体和衣服之间,掩膜版厂内运转时人与掩膜版塑料存储箱之间的摩擦产生摩擦电荷。这些摩擦电荷一旦在箱体表面形成静电会吸附灰尘造成微尘污染,并且容易对产品造成静电击伤,降低制作精度。一旦精度不符合品控要本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于掩膜版存储箱的静电消除装置,其特征在于,包括储液管(4)、传液管、具有吸水性的滚筒(9)和用于向滚筒(9)渗透防静电液的供液管(12);所述储液管(4)的一端与传液管连接,所述供液管(12)与传液管可拆卸连接,所述滚筒(9)套装在供液管(12)上,用于向掩膜版存储箱涂覆防静电液。2.根据权利要求1所述的一种用于掩膜版存储箱的静电消除装置,其特征在于,所述供液管(12)的表面分布设置有圆孔(10)。3.根据权利要求1所述的一种用于掩膜版存储箱的静电消除装置,其特征在于,所述滚筒(9)表面粘贴有粘尘纸卷(11)。4.根据权利要求1所述的一种用于掩膜版存储箱的静电消除装置,其特征在于,所述滚筒(9)由防尘海绵制成。5.根据权利要求1所述的一种用于掩膜版存储箱的静电消除装置,其特征在于,所述传液管包括直管(5)和U型管(6),所述直管(5)与U型管(6)的中部连...

【专利技术属性】
技术研发人员:周荣梵林超林伟
申请(专利权)人:成都路维光电有限公司
类型:新型
国别省市:

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