【技术实现步骤摘要】
一种用于掩膜版存储箱的静电消除装置
[0001]本技术涉及掩膜版制造
,具体涉及一种用于掩膜版存储箱的静电消除装置。
技术介绍
[0002]掩膜版又称光掩膜版、光罩(Photo mask简称Mask),由石英玻璃作为基板衬底。首先在石英玻璃基板上镀上一层金属铬层,然后在铬层上面涂覆光阻(又称光刻胶,一种感光材料,在特定波长光的照射下其化学性质会发生改变)。把已设计好的电路图形通过电子激光设备使光阻曝光,被曝光的区域通过制程(光阻显影、铬层蚀刻)后形成与设计图一样的电路图形,从而成为类似曝光后的底片的光掩模母版。掩膜版是半导体、平板显示等行业生产制造过程中重要的关键材料。作为光刻复制图形的基准和蓝本,掩膜版是连接工业设计和工艺制造的关键,掩膜版的精度和质量水平会直接影响最终下游制品的优品率。
[0003]在掩膜版制造过程中往往会因为人活动时身体和衣服之间,掩膜版厂内运转时人与掩膜版塑料存储箱之间的摩擦产生摩擦电荷。这些摩擦电荷一旦在箱体表面形成静电会吸附灰尘造成微尘污染,并且容易对产品造成静电击伤,降低制作精度。 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于掩膜版存储箱的静电消除装置,其特征在于,包括储液管(4)、传液管、具有吸水性的滚筒(9)和用于向滚筒(9)渗透防静电液的供液管(12);所述储液管(4)的一端与传液管连接,所述供液管(12)与传液管可拆卸连接,所述滚筒(9)套装在供液管(12)上,用于向掩膜版存储箱涂覆防静电液。2.根据权利要求1所述的一种用于掩膜版存储箱的静电消除装置,其特征在于,所述供液管(12)的表面分布设置有圆孔(10)。3.根据权利要求1所述的一种用于掩膜版存储箱的静电消除装置,其特征在于,所述滚筒(9)表面粘贴有粘尘纸卷(11)。4.根据权利要求1所述的一种用于掩膜版存储箱的静电消除装置,其特征在于,所述滚筒(9)由防尘海绵制成。5.根据权利要求1所述的一种用于掩膜版存储箱的静电消除装置,其特征在于,所述传液管包括直管(5)和U型管(6),所述直管(5)与U型管(6)的中部连...
【专利技术属性】
技术研发人员:周荣梵,林超,林伟,
申请(专利权)人:成都路维光电有限公司,
类型:新型
国别省市:
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