【技术实现步骤摘要】
诱导腐蚀基板及制作方法及侦测蚀刻液诱导腐蚀的方法
[0001]本申请涉及显示面板制造
,尤其涉及一种诱导腐蚀基板、诱导腐蚀基板的制作方法及侦测蚀刻液诱导腐蚀的方法。
技术介绍
[0002]在TFT LCD面板行业,薄膜晶体管包括多个图案化的金属层,图案化的金属层一般是采用化学湿蚀刻工艺得到,因生产环境及设备无法保证完全无异物类的污染,若生产环境及设备有异物粒子引入至显示面板的生产过程,异物粒子会使得湿蚀刻时发生诱导腐蚀,机理如下:金属成膜前后或成膜过程中若有异物粒子引入,则会使得成膜过程形成微观孔隙,因孔隙内外蚀刻液会有浓度差,从而造成浓差电池效应,浓差电池效应会使得孔隙位置腐蚀速率加快。这种因异物粒子诱导产生的浓差电池反应,造成局部蚀刻异常,易形成金属断线、不均匀蚀刻等异常,对显示面板的导电性产生影响。
[0003]因此,现有技术存在缺陷,急需解决。
技术实现思路
[0004]本申请提供一种诱导腐蚀基板、诱导腐蚀基板的制作方法及侦测蚀刻液诱导腐蚀的方法,能够获得蚀刻液由于异物粒子的存在是否会发 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种诱导腐蚀基板的制作方法,其特征在于,所述制作方法包括:提供衬底;在所述衬底上镀设金属膜层;在所述金属膜层表面构造异物粒子;在所述金属膜层的表面形成蚀刻阻挡层,所述蚀刻阻挡层还覆盖所述异物粒子,得到诱导腐蚀基板。2.根据权利要求1所述的诱导腐蚀基板的制作方法,其特征在于,所述异物粒子是通过溅射的方式形成。3.根据权利要求2所述的诱导腐蚀基板的制作方法,其特征在于,所述异物粒子的材质是氧化铟锡,所述异物粒子形成的方法包括:在所述金属膜层上形成氧化铟锡膜层;设置退火参数,对所述氧化铟锡膜层进行退火;以及利用蚀刻溶液对氧化铟锡膜层进行蚀刻,以得到所述异物粒子。4.一种诱导腐蚀基板,其特征在于,所述诱导腐蚀基板由权利要求1
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3任意一项所述的诱导腐蚀基板的制作方法制作形成。5.一种侦测蚀刻液诱导腐蚀的方法,其特征在于,包括:提供如权利要求4所述的诱导腐蚀基板;提供待侦测的蚀刻液,将所述诱导腐蚀基板置于蚀刻...
【专利技术属性】
技术研发人员:谭芳,
申请(专利权)人:TCL华星光电技术有限公司,
类型:发明
国别省市:
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