【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于非静态系统的模型管理
[0001]本专利技术涉及电气、电子和计算机领域,并且更具体地涉及制造微电子产品和/或半导体器件,诸如集成电路(IC)制造。
技术介绍
[0002]制造微电子产品和/或半导体器件,例如IC制造,通常涉及包括数百个单元处理的多个阶段。微电子产品的总质量和产量取决于各个单元处理的产量和质量,以及取决于数百个单元处理的成功集成。此外,半导体制造可涉及非静态系统。然而,通过简单的统计方法对于非静态系统的异常检测是困难的。因此,对于改善单个单元过程或其小集合的质量和产量,存在长期期望但未满足的需要。
[0003]因此,在本领域中需要解决上述问题。
技术实现思路
[0004]从第一方面来看,本专利技术提供了一种用于改进物理过程的质量和产量中的至少一个的方法,包括:从所述物理过程的相应执行获得与所述物理过程相关联的多个变量的值;确定表示针对所述物理过程的所述执行的所述多个变量的所述值的至少一个高斯混合模型(GMM);至少部分地基于所述至少一个高斯混合模型,针对所述物理过程的所述执行中的至少 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于改善物理过程的质量和产量中的至少一个的方法,包括:从物理过程的相应执行获得与所述物理过程相关联的多个变量的值;确定表示所述物理过程的执行的所述多个变量的所述值的至少一个高斯混合模型GMM;至少部分基于所述至少一个高斯混合模型,计算所述物理过程的所述执行中的至少一个的所述变量中的至少一个的至少一个异常分数;基于所述变量中的所述至少一个的所述至少一个异常分数,将所述物理过程的所述执行中的所述至少一个识别为异常值;以及至少部分地基于所述异常值的识别,修改所述变量中的所述至少一个变量以用于所述物理过程的一个或多个后续执行,以便改进所述物理过程的质量和产量中的所述至少一个。2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述物理过程包括半导体制造过程的至少一部分。3.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,与所述物理过程相关联的所述多个变量包括电压、电流、功率和压力中的至少一个。4.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,所述至少一个GMM包括至少一个时间耦合的多模模型TMM。5.根据权利要求4所述的方法,其中,确定所述至少一个TMM包括:确定多个高斯图形模型GGM,每个高斯图形模型表示在所述物理过程的所述执行的相应子集期间所述多个变量的值,使得所述物理过程的所述执行的每个相应子集包括在相应时间段内所述物理过程的所述执行;确定所述GGM的相应混合权重;以及根据所述混合权重确定所述多个GGM的加权和。6.根据权利要求5所述的方法,其中,对应于所述多个GGM中的第一个GGM的第一时间段的至少一部分与对应于所述多个GGM中的第二个GGM的第二时间段的至少一部分重叠。7.根据权利要求4所述的方法,其中,确定所述至少一个TMM包括使约束的正则化的对数似然最大化。8.根据权利要求4所述的方法,其中,确定所述至少一个TMM包括使用精确的凸l0范数。9.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,获得所述值包括至少部分基于与所述单变量数据相关联的时间数据将单变量数据转换成多变量数据。10.根据权利要求9所述的方法,其中,所述时间数据包括所述单变量数据内的值的相应时间戳。11.根据权利要求9所述的方法,其中,所述时间数据包括所述单变量数据内的直接在时间上相邻的相邻值之间的至少一个差值。12.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,当所述变量中的任一个的异常分数超过所述物理过程的执行中的给定一个的指定阈值时,所述执行中的所述给定一个被识别为异常值。13.根据前述权利要求中任一项所述的方法,还包括至少部分基于用于所述物理过程的所述一个或多个随后执行中的至少一个的值,重新计算所述物理过程的所述执行中的至
少一个的所述变...
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。