【技术实现步骤摘要】
一种用于纳米晶带材生产的打磨抛光装置
[0001]本专利技术属于纳米晶带材加工
，具体是指一种用于纳米晶带材生产的打磨抛光装置。
技术介绍
[0002]抛光是指利用机械、化学或电化学的作用，使工件表面粗糙度降低，以获得光亮、平整表面的加工方法，是利用抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对工件表面进行的修饰加工。纳米晶带材生产的过程中需要打磨，使其表面光滑。
[0003]现有的用于纳米晶带材生产的打磨抛光装置都采用现有的抛光设备直接对纳米晶带材进行抛光，而实际上纳米晶带材较为轻薄，采用常规抛光方式直接加工操作容易导致纳米晶带材破损，难以在保护纳米晶带材本身的情况下对其进行抛光，且现有的打磨抛光装置在工作过程中容易产生粉尘，无法在运行时自动对粉尘进行处理，且抛光时的残渣颗粒也不易收集，故需要提出一种用于纳米晶带材生产的打磨抛光装置。
技术实现思路
[0004]针对上述情况，为克服现有技术的缺陷，本专利技术提供了一种在无动力源时自动实现多种功能的、操作方便、节能环保的用于纳米晶带材生产的打磨抛光装置，有效...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于纳米晶带材生产的打磨抛光装置，其特征在于：包括自服务型间歇运动式控尘机构(1)、柔性化无源抛光收卷集成机构(2)、坐立触发式供源机构(3)、主容纳外壳(4)和支撑脚(5)，所述支撑脚(5)固接于主容纳外壳(4)的侧壁上，所述坐立触发式供源机构(3)设于主容纳外壳(4)上，所述柔性化无源抛光收卷集成机构(2)设于主容纳外壳(4)上，所述自服务型间歇运动式控尘机构(1)设于主容纳外壳(4)上。2.根据权利要求1所述的一种用于纳米晶带材生产的打磨抛光装置，其特征在于：所述自服务型间歇运动式控尘机构(1)包括过渡化自服务体(6)、过渡化通孔(7)、支撑骨架(8)、介质生成齿环(9)、运动式介质生成架(10)、介质生成小孔(11)、平衡杆(12)、端部平衡重块(13)、内侧传动齿(14)、间歇摆杆(15)、间歇滑动珠(16)、降落重块(17)、连接绳(18)、连接轮(19)、缠绕柱(20)、间歇转动棘轮(21)和棘轮间歇滑槽(22)，所述过渡化通孔(7)贯穿设于主容纳外壳(4)的侧壁上，所述过渡化通孔(7)设有两组，所述支撑骨架(8)固接于主容纳外壳(4)的外壁上，所述内侧传动齿(14)分布于支撑骨架(8)内的两侧，所述平衡杆(12)的中心点铰接于主容纳外壳(4)的外壁上，所述运动式介质生成架(10)的中心铰接于平衡杆(12)的两端，所述运动式介质生成架(10)设有两组，所述介质生成齿环(9)固接于运动式介质生成架(10)上，所述介质生成小孔(11)贯穿阵列设于运动式介质生成架(10)上，所述内侧传动齿(14)和介质生成齿环(9)之间啮合连接，所述过渡化自服务体(6)的一端贯穿过渡化通孔(7)且弯曲延伸至主容纳外壳(4)内，所述过渡化自服务体(6)的另一端卡接于平衡杆(12)上，所述过渡化自服务体(6)上下设有两组，所述端部平衡重块(13)固接于平衡杆(12)的两端，所述间歇摆杆(15)固接于平衡杆(12)的底部，所述间歇摆杆(15)对称设有两组，所述间歇滑动珠(16)固接于间歇摆杆(15)的底部，所述连接轮(19)转动设于主容纳外壳(4)的外壁上，所述间歇转动棘轮(21)转动设于主容纳外壳(4)的外壁上，所述缠绕柱(20)固接于间歇转动棘轮(21)上，所述连接绳(18)的一端缠绕设于缠绕柱(20)上，所述连接绳(18)的另一端穿过于连接轮(19)上，所述降落重块(17)设于连接绳(18)的一端，所述棘轮间歇滑槽(22)设于间歇转动棘轮(21)的各个边上，所述间歇滑动珠(16)和棘轮间歇滑槽(22)之间嵌合滑动连接。3.根据权利要求2所述的一种用于纳米晶带材生产的打磨抛光装置，其特征在于：所述坐立触发式供源机构(3)包括充水囊(23)、坐立支撑架(24)、Y型管(25)、分支端(26)、出水端(27)、坐立接触板(28)、坐立升降导向杆(29)、无源水轮(30)和水轮转轴(31)，所述坐立支撑架(24)固接于主容纳外壳(4)的外壁上，所述充水囊(23)固接于坐立支撑架(24)上，所述坐立升降导向杆(29)固接于坐立支撑架(24)上，所述坐立接触板(28)贯穿滑动设于坐立升降导向杆(29)上，所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：江沐风，吴登钱，万云辉，吉云飞，
申请(专利权)人：朗峰新材料启东有限公司，
类型：发明
国别省市：
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