一种喷釉设备制造技术

本申请涉及一种喷釉设备，其包括机架，还包括与所述机架连接的喷釉室，所述喷釉室形成有内腔，所述喷釉室两侧设有通料室，所述通料室与所述喷釉室连通且两侧开设有开口，所述通料室的开口高度低于所述喷釉室的内腔顶壁高度，所述机架上设置有穿过所述喷釉室的传送带，所述传送带依次穿过所述通料室、所述喷釉室与另一个所述通料室，所述喷釉室内设有喷釉头，所述喷釉头连接有供釉机构，所述喷釉头朝向所述传送带上的瓦片。本申请具以下效果：喷釉室可控制部分釉料喷出瓦片上釉的范围，能够尽可能的防止釉料逸散到外界，可尽量避免对瓦片上釉以外的环境造成污染。片上釉以外的环境造成污染。片上釉以外的环境造成污染。

【技术实现步骤摘要】
一种喷釉设备


[0001]本申请涉及瓦片加工技术的领域，尤其是涉及一种喷釉设备。

技术介绍

[0002]目前，琉璃瓦是采用优质矿石原料，经过筛选粉碎，高压成型，高温烧制而成，具有强度高、平整度好，吸水率低、抗折、抗冻、耐酸、耐碱、永不褪色、等显著优点。琉璃瓦广泛适用于厂房，住宅、宾馆、别墅等工业和民用建筑，并以其造型多样，釉色质朴、多彩，环保、耐用，深得建筑大师们的推崇。
[0003]喷釉是现代陶瓷施釉技法之一，用喷枪或喷雾器使釉浆雾化喷到坯体表面，其适用于大型器皿及造型复杂或薄胎制品。
[0004]申请号为CN201520374508.8的中国技术公开了一种琉璃瓦自动上釉机构，包括储釉箱，在储釉箱上设有至少一个喷釉头，所述的喷釉头与一根插于储釉箱内的出釉管相连，在出釉管上设有动力泵，在储釉箱的顶部设有套在喷釉头外围的回釉机构。该技术喷釉头结合动力泵的结构能够实现自动喷釉，大幅提高了生产效率。
[0005]针对上述中的相关技术，专利技术人认为，喷釉头在对瓦片进行喷釉时，部分釉料会喷出上釉机构的范围，釉料会逸散到外界，存在有对上釉机构以外的环境造成污染的缺陷。

技术实现思路

[0006]为了控制部分釉料喷出瓦片上釉的范围，尽可能的防止釉料逸散到外界，尽量避免对瓦片上釉以外的环境造成污染，本申请提供一种喷釉设备。
[0007]本申请提供的一种喷釉设备，采用如下的技术方案：
[0008]一种喷釉设备，包括机架，还包括与所述机架连接的喷釉室，所述喷釉室形成有内腔，所述喷釉室两侧设有通料室，所述通料室与所述喷釉室连通且两侧开设有开口，所述通料室的开口高度低于所述喷釉室的内腔顶壁高度，所述机架上设置有穿过所述喷釉室的传送带，所述传送带依次穿过所述通料室、所述喷釉室与另一个所述通料室，所述喷釉室内设有喷釉头，所述喷釉头连接有供釉机构，所述喷釉头朝向所述传送带上的瓦片。
[0009]通过采用上述技术方案，传送带可将瓦片输送至喷釉室内，供釉机构给喷釉头供釉，喷釉头对瓦片喷釉时，喷釉室的内侧壁可阻挡部分釉料喷出瓦片上釉的范围，通料室可增大阻挡釉料的范围，尽可能的防止釉料逸散到外界，可尽量避免釉料对喷釉室以外的环境造成污染。
[0010]优选的，所述喷釉室上开设有窗口，所述窗口上盖设有透明的窗扇，所述喷釉室内侧壁上设有滑轨，所述窗扇与所述滑轨滑移连接。
[0011]通过采用上述技术方案，操作员可透过窗扇看到异常情况，关闭喷釉设备后，可打开窗扇对喷釉头做出调整。
[0012]优选的，所述通料室连接有支撑脚，所述支撑脚与所述机架均开设有插孔，所述插孔中穿设有第一螺栓，所述第一螺栓穿过所述支撑脚、所述机架的一端螺纹连接有第一螺
帽。
[0013]通过采用上述技术方案，支撑脚与机架通过第一螺栓与第一螺帽连接以实现通料室与机架可拆卸连接，通料室可与机架连接或分离，提高了通料室的灵活性。
[0014]优选的，所述喷釉室的内腔底面呈漏斗状，所述喷釉室底部开设有回收口，所述回收口位于所述喷釉室的内腔底面最低处，所述喷釉室设有与所述回收口连通的回收组件。
[0015]通过采用上述技术方案，多余的釉料可通过喷釉室漏斗状的斜面流入回收口中，提高了喷釉室回收釉料的回收效率。
[0016]优选的，所述回收组件包括集料箱、回收管与回流泵，所述回收管连通所述集料箱与所述喷釉头，所述回收口与所述集料箱连通，所述回流泵与所述集料箱、所述回收管连通。
[0017]通过采用上述技术方案，多余的釉料通过喷釉室进入集料箱中，回收管通过回流泵往喷釉头输送釉料，以便对釉料重复使用，提高了釉料的利用率。
[0018]优选的，所述喷釉室的内腔底壁设有垫块，所述垫块与所述传送带接触，所述垫块与所述传送带接触侧设有圆弧面。
[0019]通过采用上述技术方案，瓦片放置在传送带上时，传送带可能会被瓦片压至与喷釉室底部接触，造成磨损加剧，垫块可支撑传送带，垫块与传送带接触面为圆弧面，可减小垫块与传送带之间的摩擦力，方便传送带传送瓦片。
[0020]优选的，所述喷釉头有两组，两组所述喷釉头均位于所述喷釉室的内腔顶部，其中一组所述喷釉头位于所述传送带的正上方，另外一组中的多个所述喷釉头分别位于所述传送带的两侧，两组内的多个所述喷釉头均朝向所述传送带。
[0021]通过采用上述技术方案，多组喷釉头，包括正上方与斜上方的多个喷釉头可对传送带上的瓦片多角度的进行喷釉，使瓦片上釉更均匀，提高了喷釉头的喷釉效率。
[0022]优选的，所述传送带包括皮带及驱动组件，所述机架上设有限位轨，所述限位轨内开设有第一滑槽，所述第一滑槽的长度方向与所述传送带传送方向一致，所述皮带与所述第一滑槽滑移连接。
[0023]通过采用上述技术方案，传送带通过限位轨的第一滑槽限位，可固定传送带传送的轨迹，提高了传送带工作时的稳定性。
[0024]优选的，所述机架上设有导轨，所述限位轨沿垂直于所述传送带传输方向与所述导轨滑动连接，所述限位轨与所述导轨之间设置有第一锁定件。
[0025]通过采用上述技术方案，限位轨可通过第一锁定件在导轨上调整位置，从而调整两根传送带的间距，以此适应不同大小的瓦片，提高瓦片在传送带上的传输稳定性，提高了传送带的灵活性。
[0026]优选的，所述驱动组件包括驱动件及至少两个辊筒，所述皮带套设在多个所述辊筒上，所述机架两端开设有第二滑槽，所述第二滑槽长度方向与所述传送带传送方向一致，所述辊筒通过所述第二滑槽与所述机架滑移连接，所述机架与所述辊筒之间设置有第二锁定件。
[0027]通过采用上述技术方案，辊筒可通过第二滑槽与第二锁定件在机架上滑移调整位置，以此调整套设在辊筒上的皮带的松紧程度，可减少皮带长期使用而造成的弹性疲劳现象。
[0028]综上所述，本申请包括以下至少一种有益技术效果：
[0029]1.喷釉室可控制部分釉料喷出瓦片上釉的范围，能够尽可能的防止釉料逸散到外界，可尽量避免对瓦片上釉以外的环境造成污染；
[0030]2.喷釉室内三个喷釉头可对瓦片进行多方位的喷釉，提高了喷釉头的喷釉效率；
[0031]3.回收组件可回收喷釉室内多余的釉料，提高了釉料的利用率；
[0032]4.操作员可打开窗扇观察喷釉头对瓦片的喷釉情况，以便了解喷釉室内的工作情况。
附图说明
[0033]图1是本申请实施例的一种喷釉设备的整体结构示意图。
[0034]图2是本申请实施例的一种喷釉设备的俯视结构示意图。
[0035]图3是本申请实施例的一种喷釉设备的沿图2中A
‑
A线剖面结构示意图。
[0036]图4是本申请实施例的一种喷釉设备的沿图2中B
‑
B线剖面结构示意图。
[0037]图5是本申请实施例的一种喷釉设备的部分爆炸结构示意图。
[0038]附图标记说明：
[0039]1、喷釉室；11、喷釉头本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种喷釉设备，其特征在于：包括机架（2），还包括与所述机架（2）连接的喷釉室（1），所述喷釉室（1）形成有内腔，所述喷釉室（1）两侧设有通料室（5），所述通料室（5）与所述喷釉室（1）连通且两侧开设有开口，所述通料室（5）的开口高度低于所述喷釉室（1）的内腔顶壁高度，所述机架（2）上设置有穿过所述喷釉室（1）的传送带（3），所述传送带（3）依次穿过所述通料室（5）、所述喷釉室（1）与另一个所述通料室（5），所述喷釉室（1）内设有喷釉头（11），所述喷釉头（11）连接有供釉机构，所述喷釉头（11）朝向所述传送带（3）上的瓦片。2.根据权利要求1所述的喷釉设备，其特征在于：所述喷釉室（1）上开设有窗口（13），所述窗口（13）上盖设有透明的窗扇（14），所述喷釉室（1）内侧壁上设有滑轨（15），所述窗扇（14）与所述滑轨（15）滑移连接。3.根据权利要求1所述的喷釉设备，其特征在于：所述通料室（5）连接有支撑脚（17），所述支撑脚（17）与所述机架（2）均开设有插孔，所述插孔中穿设有第一螺栓（171），所述第一螺栓（171）穿过所述支撑脚（17）、所述机架（2）的一端螺纹连接有第一螺帽（172）。4.根据权利要求1所述的喷釉设备，其特征在于：所述喷釉室（1）的内腔底面呈漏斗状，所述喷釉室（1）底部开设有回收口（12），所述回收口（12）位于所述喷釉室（1）的内腔底面最低处，所述喷釉室（1）设有与所述回收口（12）连通的回收组件（4）。5.根据权利要求4所述的喷釉设备，其特征在于：所述回收组件（4）包括集料箱（41）、回收管（42）与回流泵，所述回收管（42）连通所述集料箱（41）与所述喷釉头（11），所述回收口（12）与所述集料...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵宝峰，邢永亚，丁美耀，傅欢锋，
申请(专利权)人：浙江大象新型材料有限公司，
类型：新型
国别省市：