BaF2基底3.7-4.8μm&7.7-9.5μm双波段减反射膜制造技术

本实用新型专利技术公开了BaF2基底3.7

【技术实现步骤摘要】
BaF2基底3.7
‑
4.8
μ
m&7.7
‑
9.5
μ
m双波段减反射膜


[0001]本技术涉及红外镀膜
，特别是BaF2基底3.7
‑
4.8μm&7.7
‑
9.5μm双波段减反射膜。

技术介绍

[0002]BaF2作为一种在红外波段有着良好光学透过性的低折射率材料，常被应用于红外双色光学系统中。BaF2材料具有一定水溶性，由BaF2材料制作的光学零件膜层容易脱落，不能承受GJB2485
‑
1995《光学膜层通用规范》标准对附着力、湿热、中度摩擦的考验，而且在3.7
‑
4.8μm&7.7
‑
9.5μm双波段内平均透过率不高，无法满足新型红外双色光学系统的使用要求。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于克服现有技术由BaF2材料制作的光学零件膜层容易脱落的缺点，提供BaF2基底3.7
‑<br/>4.8μm&本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.BaF2基底3.7
‑
4.8μm&amp;7.7
‑
9.5μm双波段减反射膜，包括基底层，其特征在于，所述基底层上设置有膜层结构，所述基底层和膜层结构之间通过Y2O3层连接。2.根据权利要求1所述的BaF2基底3.7
‑
4.8μm&amp;7.7
‑
9.5μm双波段减反射膜，其特征在于：所述膜层结构包括与Y2O3层依次连接的ZnSe层、YbF3层、ZnSe层、Ge层、ZnSe层、Ge层、ZnSe层、Ge层、ZnSe层、YbF3层、ZnSe层、Ge层、ZnSe层、YbF3层、ZnS层。3.根据权利要求1所述的BaF2基底3.7
‑
4.8μm&amp;7.7
‑
9.5μm双波段减反射膜，其特征在于：所述基底层上依次设置有厚度20
±
5nm的Y2O3层、厚度111
±
2nm的ZnSe层、厚度328
±
3nm的YbF3层、厚度640
±
5nm的ZnSe层、厚度86
±
0.5nm的Ge层、厚度81
±
1nm的ZnSe层、厚度350
...

【专利技术属性】
技术研发人员：彭浪，杨伟声，张友良，董力，邓苑，李刚，谢海，
申请(专利权)人：云南北方光学科技有限公司，
类型：新型
国别省市：