【技术实现步骤摘要】
一种可调节的平面度规
[0001]本专利技术涉及测量器具
,特别是涉及一种可调节的平面度规。
技术介绍
[0002]平面度是指基片具有的宏观回凸高度相对理想平面的偏差。平面度是限制实际平面对其理想平面变动量的一项指标,用来控制被测实际平面的形状误差。平面度的测量有打表测量法。打表测量法是将被测零件和测微计放在标准平板上,以标准平板作为测量基准面,用测微计沿实际表面逐点或沿几条直线方向进行测量。
[0003]传统的平面度测量规往往需要在平面上的多点进行测量,测量速度慢的同时,测量点位多不易标记,无法对平面不平整部位进行后续的辅助校正。
技术实现思路
[0004]本专利技术的目的在于提供一种可调节的平面度规,以解决上述
技术介绍
中提出的传统的平面度测量规测量速度慢的同时,测量点位多不易标记,无法对平面不平整部位进行后续的辅助校正的问题。
[0005]为实现上述目的,本专利技术提供如下技术方案:一种可调节的平面度规,包括:刻度标尺柱、阻尼套筒、中央卡扣和旋转轴,所述阻尼套筒内部中央设有刻度标尺柱 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种可调节的平面度规,包括:刻度标尺柱(1)、阻尼套筒(2)、中央卡扣(3)和旋转轴(5),其特征在于:所述阻尼套筒(2)内部中央设有刻度标尺柱(1),所述阻尼套筒(2)一侧外壁中央设有中央卡扣(3),所述阻尼套筒(2)外壁另一侧位于中央卡扣(3)上下两端设有端卡扣(4),所述端卡扣(4)内部设有旋转轴(5)。2.根据权利要求1所述的一种可调节的平面度规,其特征在于:所述刻度标尺柱(1)一侧刻有刻度。3.根据权利要求1所述的一种可调节的平面度规,其特征在于:所述阻尼套筒(2)内部两端位于刻度标尺柱(1)插接部位设有密封垫。4.根据权利要求1所述的一种可调节的平面度规,其特征在于:所述刻度标尺柱(1)与阻尼套筒(2)之间为过渡配合。5.根据权利要求1所...
【专利技术属性】
技术研发人员:卢宇轩,陈品俊,
申请(专利权)人:广东鸿特精密技术台山有限公司,
类型:发明
国别省市:
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