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一种层次孔碳材料及其制备方法与应用技术

技术编号:32906932 阅读:24 留言:0更新日期:2022-04-07 11:57
本发明专利技术涉及有机多孔材料领域,尤其涉及一种层次孔碳材料及其制备方法与应用。通过采用三氯(4

【技术实现步骤摘要】
一种层次孔碳材料及其制备方法与应用


[0001]本专利技术涉及有机多孔材料领域,尤其涉及一种层次孔碳材料及其制备方 法与应用。

技术介绍

[0002]层级多孔材料具有高比表面积、高孔隙率、良好的渗透性和高度有序的 孔道结构,同时具有微孔

介孔

大孔的层次孔材料因其多样化的孔道构造、 高比表面积、良好的化学稳定性等优良性能,在吸附、能源储存、超电容等 相关领域内广泛应用,逐渐成为研究人员关注的焦点。
[0003]层次孔碳材料的制备方法按照合成方式的不同可分为硬模板法与软模 板法。硬模板需要合成预定结构的模板,填充后交联碳化,洗去模板后可制 备得到层次孔碳材料。软模板法则是通过前驱体与聚合物发生自组装反应, 利用前驱体与聚合物之间的化学性质差异性,在高温下除去前驱体以形成孔 洞结构,而聚合物则成为碳制骨架。在碳化过程中作为碳前驱体的层次孔聚 合物,往往属于具有良好孔结构的多孔材料。
[0004]但是,传统硬模板法仍然有一些不足之处。在利用模板剂制备层次孔材 料时,传统的交联反应需要用到前驱体,本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种层次孔碳材料的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:(1)R

SiO2的制备将SiO20.5g加入20ml干燥四氢呋喃THF与1.5g三氯[4

(氯甲基)苯基]硅烷的混合物中;在N2气氛中,将5.0ml干燥THF与1.2ml三乙胺混合均匀,匀速加入上述体系中反应8h,接着在空气中反应18h;反应完成后,产物用EtOH和THF洗涤至少3次,干燥;(2)R

SiO2@DCX的制备在N2氛围中,将R

SiO20.5g均匀分散在10ml二氯乙烷DCE后,干燥FeCl3‑
1.1

2.0g迅速加入其中搅拌均匀,将1.5g对二氯苯DCX溶解在10ml二氯乙烷DCE,待反应体系升至70

90℃,将混合溶液加入三口烧瓶中,滴加6h并保持反应18h;产物用去离子水洗涤,用去离子水、甲醇清洗至无色,后用乙醚清洗3次,干燥;(3)HPP和HPC的制备配制10%HF,将R

SiO2@DCX加入其中,保持磁力搅...

【专利技术属性】
技术研发人员:蔡力锋詹杰茗杨磊
申请(专利权)人:莆田学院
类型:发明
国别省市:

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