一种印刷图案与光学纹理对位的转印膜的制膜方法技术

技术编号:32830793 阅读:18 留言:0更新日期:2022-03-26 20:42
本发明专利技术涉及一种印刷图案与光学纹理对位的转印膜的制膜方法,通过先转印光学纹理后印刷图案的方式,确保转印膜上的光学纹理与印刷图案的对位,能够在不同的转印图案上呈现出不同的光学纹理效果,体现出不同印刷图案的纹理以及立体感,同时先转印,后印刷的步骤能够使得转印膜上形成特有的光雅一体的彩色效果。得转印膜上形成特有的光雅一体的彩色效果。

【技术实现步骤摘要】
一种印刷图案与光学纹理对位的转印膜的制膜方法


[0001]本专利技术涉及转印膜制作领域,特别涉及一种印刷图案与光学纹理对位的转印膜的制膜方法。

技术介绍

[0002]目前市场上的产品大多数都是具有图案,针对产品图案的印刷,目前现有的技术方案是采用热转印技术,传统的热转印技术都是基于将整版印刷的图案直接转移到物体上,只能是产品适应图案的大小;目前大多数热转印膜都只是通用版印刷图案,或根据转印产品设计的只有印刷图案的转印膜,如果需要在图案上应用光学纹理,那么常规的做法是买来带有通版光学纹理的转印膜直接覆盖在通版印刷图案上,无法实现光学纹理与印刷图案对位,所达到的视觉效果较差。
[0003]采用传统的转印膜的制作方法无法实现光学纹理与印刷图案的对位,也无法实现每一组印刷图案都能对应不同的光学纹理效果,导致最终呈现的效果不如人意,无法使得印刷图案带来形象及立体的观感。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的是:提供一种解决现有转印膜无法实现光学纹理与印刷图案定位且观感不佳问题的印刷图案与光学纹理对位的转印膜的制膜方法。
[0005]本专利技术的技术解决方案是:一种印刷图案与光学纹理对位的转印膜的制膜方法,其特殊之处在于,包括以下步骤:
[0006]⑴
在基膜上涂布离型层;
[0007]⑵
往微凹涂布机上涂布热压光学纹理的介质油,通过微凹涂布机在基膜上预涂热压光学纹理介质油;
[0008]⑶
制作带光学纹理定位点的光学纹理版文件,将制作好的光学纹理版文件输入至光刻机,直写光刻出带有光学纹理定位点的光刻胶版;
[0009]⑷
利用光刻胶版作为母版,电铸成可以进行光学热压的纹理镍板;
[0010]⑸
将经步骤

处理后的光刻胶版安装在纹理热压机上,将经步骤

处理后的基膜放入纹理热压机内进行纹理转移,在机器加热的运行下,将光学纹理转压到了基膜的表面,在基膜表面形成若干个圆周模板;
[0011]⑹
测量经过上述步骤
⑴‑
步骤

处理后的基膜的各圆周模板周长以及相邻两组圆周模板的间距,并以此制作印刷版文件,将制作好的印刷版文件输入至印刷机内;
[0012]⑺
将经步骤

处理后的带光学纹理的基膜放入印刷机内,通过CCD定位电眼完成印刷定位点与光学纹理定位点的对位,将待印刷图案印刷在基膜上;
[0013]⑻
将经步骤

光学纹理转移处理后的基膜放在卷绕式真空镀膜机上进行电镀,在表面形成电镀反光层;
[0014]⑼
将经步骤

处理的基膜进行洗铝,使得热转印非图案的部分转化为透明膜状
态;
[0015]⑽
在完成上述步骤
⑴‑
步骤

的基膜的表面涂布胶水层,完成带光学定位的转印膜的制作。
[0016]作为优选:所述步骤

涂布离型层的方法为以下两种方法择一选用:
[0017]a.在凹印机上印刷离型剂,通过凹印机在基膜上涂布离型层;
[0018]b.往带有烘干通道的涂布机涂布离型剂,通过涂布机在基膜上涂布离型层,并做烘干处理。
[0019]作为优选:所述步骤

中,光学纹理的文件制版方法,包括以下步骤:
[0020](3.1)确定光学纹理版的版材尺寸及版口咬口方向,建立页面框;
[0021](3.2)建立页面框,根据各模板的周长与辊轴尺寸在建立页面框,所述页面框的长大于各模板的周长20mm,所述页面框的边大于辊轴尺寸20mm;
[0022](3.3)在页面框内绘制矩形框,所述矩形框的长分别与各模板的周长相等,所述矩形框的边等于轴辊尺寸;
[0023](3.4)在各矩形框内分别导入设定的光学纹理形状,同时在页面框的四角设定光学纹理定位点;
[0024](3.5)完成光学纹理版文件,输入至光刻机内。
[0025]作为优选:所述步骤

中,纹理镍板的电铸方法,包括以下步骤:
[0026](4.1)对光刻胶版表面进行敏化处理;
[0027](4.2)对光刻胶版表面进行化学镀银处理;
[0028](4.3)将光刻胶版放入电铸槽内进行电铸镍处理,当镍层在银层表面达到设定厚度后,从槽液中取出;
[0029](4.4)将镍层从光刻胶版上剥离后,利用氢氧化钠将镍层上的残余感光层洗净后形成纹理镍板。
[0030]作为优选:进行图案印刷前还可将经步骤

处理后的带光学纹理的基膜进行电镀处理,在光学纹理表面电镀有隔离增透层。
[0031]作为优选:所述步骤

中,印刷版的文件制版方法包括以下步骤:
[0032](6.1)选择待印刷图案;
[0033](6.2)确定印刷版的版材尺寸及版面咬口方向,选定相邻两组图案之间的跳距;
[0034](6.3)根据光学纹理的基膜中各模板的位置及各模板的周长,建立与模板周长等尺寸的矩形框,根据相邻两组模板的间距设定好矩形框之间的跳距;
[0035](6.4)将待印刷图案导入矩形框内,在页面框的四角分别设置有印刷定位点;
[0036](6.5)将待印刷图案与印刷定位点导出至印刷版上,完成印刷版文件的制版。
[0037]作为优选:所述步骤

所述的对基膜进行洗铝为以下两种方法择一选用:
[0038]a.水洗:电镀前在将要洗铝的部位印刷上溶于水的洗铝油墨,电镀完成后经过清水冲洗再烘干;
[0039]b.碱洗:在完成电镀后的电镀层上的不需要洗铝的部位印刷上保护油,形成保护层,将印好保护层的转移膜侵泡在碱性溶液中,通过碱溶液与电镀铝层直接发生化学反应,完成碱洗,将需要洗铝位置洗干净再烘干。
[0040]作为优选:经过所述步骤

电镀与步骤

洗铝完毕后,利用凹印机在电镀层后涂
布保护层,再经过步骤

涂布胶水层。
[0041]作为优选:所述步骤

的涂布胶水层的方法为以下两种方法择一选用:
[0042]a.在凹印机上印刷转印胶水,通过凹印机在基膜的电镀层上涂布胶水层;
[0043]b.往带有烘干通道的涂布机涂布转印胶水,通过涂布机在基膜的电镀层上涂布胶水层,并做烘干处理。
[0044]与现有技术相比,本专利技术的有益效果:
[0045]采用本专利技术提供的制膜方法,通过先转印光学纹理,再印刷图案的步骤,能够实现光学纹理与印刷图案的精准对位,同时因为印刷图案与光学纹理之间没有透明的热压油的遮挡,能够使得光学纹理的效果更为凸显,从而呈现出一种光雅一体的彩色效果;
[0046]在进行光学纹理转印前先对基膜预涂光本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种印刷图案与光学纹理对位的转印膜的制膜方法,其特征在于,包括以下步骤:

在基膜上涂布离型层;

往微凹涂布机上涂布热压光学纹理的介质油,通过微凹涂布机在基膜上预涂热压光学纹理介质油;

制作带光学纹理定位点的光学纹理版文件,将制作好的光学纹理版文件输入至光刻机,直写光刻出带有光学纹理定位点的光刻胶版;

利用光刻胶版作为母版,电铸成可以进行光学热压的纹理镍板;

将经步骤

处理后的光刻胶版安装在纹理热压机上,将经步骤

处理后的基膜放入纹理热压机内进行纹理转移,在机器加热的运行下,将光学纹理转压到了基膜的表面,在基膜表面形成若干个圆周模板;

测量经过上述步骤
⑴‑
步骤

处理后的基膜的各圆周模板周长以及相邻两组圆周模板的间距,并以此制作印刷版文件,将制作好的印刷版文件输入至印刷机内;

将经步骤

处理后的带光学纹理的基膜放入印刷机内,通过CCD定位电眼完成印刷定位点与光学纹理定位点的对位,将待印刷图案印刷在基膜上;

将经步骤

光学纹理转移处理后的基膜放在卷绕式真空镀膜机上进行电镀,在表面形成电镀反光层;

将经步骤

处理的基膜进行洗铝,使得热转印非图案的部分转化为透明膜状态;

在完成上述步骤
⑴‑
步骤

的基膜的表面涂布胶水层,完成带光学定位的转印膜的制作。2.根据权利要求1所述的印刷图案与光学纹理对位的转印膜的制膜方法,其特征在于,所述步骤

涂布离型层的方法为以下两种方法择一选用:a.在凹印机上印刷离型剂,通过凹印机在基膜上涂布离型层;b.往带有烘干通道的涂布机涂布离型剂,通过涂布机在基膜上涂布离型层,并做烘干处理。3.根据权利要求1所述的印刷图案与光学纹理对位的转印膜的制膜方法,其特征在于,所述步骤

中,光学纹理的文件制版方法,包括以下步骤:(3.1)确定光学纹理版的版材尺寸及版口咬口方向,建立页面框;(3.2)建立页面框,根据各模板的周长与辊轴尺寸在建立页面框,所述页面框的长大于各模板的周长20mm,所述页面框的边大于辊轴尺寸20mm;(3.3)在页面框内绘制矩形框,所述矩形框的长分别与各模板的周长相等,所述矩形框的边等于...

【专利技术属性】
技术研发人员:费利红黄国梁
申请(专利权)人:英狮科技东莞有限公司
类型:发明
国别省市:

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