一种用于陶瓷加工的旋转式的釉面抛光装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种用于陶瓷加工的旋转式的釉面抛光装置，包括支架，其中，所述支架中固定有面板，所述面板的中心设有支撑台，所述支撑台为碗型支架，手术支撑台一侧的支架上可上下滑动地设有升降台，所述升降台对应支撑台圆心位置可转动地连接有竖直的转轴，且所述转轴上设有旋转抛光组件，述旋转抛光组件包括固定铰接盘，所述固定铰接盘固定套设在转轴中，所述固定铰接盘的边缘圆周均匀分布地沿铰接有多根能够在垂直平面转动的抛光杆组件，所述抛光杆组件的末端设有抛光片。与现有技术相比，本发明专利技术对陶瓷器的固定稳定，能够对陶瓷器的不同高度和半径的平面进行均匀抛光，且抛光片在任意平面对陶瓷器的压力都保持在恒定值。任意平面对陶瓷器的压力都保持在恒定值。任意平面对陶瓷器的压力都保持在恒定值。

【技术实现步骤摘要】
一种用于陶瓷加工的旋转式的釉面抛光装置


[0001]本专利技术涉及一种陶瓷加工
，具体是一种用于陶瓷加工的旋转式的釉面抛光装置。

技术介绍

[0002]经过釉面抛光的陶瓷器更加平整光滑，亮度高，更容易清洁，现有技术使用手持抛光轮对陶瓷器进行抛光，抛光不均匀，效率低，施工过程容易危害人体。现有的陶瓷自动抛光设备中，由于陶瓷器表面光滑且为曲面，难以对其进行稳定地固定，影响加工效果，并且由于陶瓷器为非线性曲面，使用线性驱动的设备对其进行抛光难以避免的会造成在不同高度平面中对陶瓷器压力大小不同，从而造成釉面光滑度不规则。
[0003]因此，有必要提供一种用于陶瓷加工的旋转式的釉面抛光装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。

技术实现思路

[0004]为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种用于陶瓷加工的旋转式的釉面抛光装置，包括支架，其中，所述支架中固定有面板，所述面板的中心设有支撑台，所述支撑台为碗型支架，手术支撑台一侧的支架上可上下滑动地设有升降台，所述升降台对应支撑台圆心位置可转动地连接有竖直的转轴，且所述转轴本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于陶瓷加工的旋转式的釉面抛光装置，包括支架(1)，其特征在于，所述支架(1)中固定有面板(2)，所述面板(2)的中心设有支撑台(3)，所述支撑台(3)为碗型支架，手术支撑台(3)一侧的支架(1)上可上下滑动地设有升降台(4)，所述升降台(4)对应支撑台(3)圆心位置可转动地连接有竖直的转轴(41)，且所述转轴(41)上设有旋转抛光组件(5)。2.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷加工的旋转式的釉面抛光装置，其特征在于，所述升降台(4)上方通过升降伸缩杆(42)与支架(1)连接，所述升降伸缩杆(42)的缸体固定在支架(1)中，活塞杆固定到升降台(4)；所述升降台(4)中固定有驱动电机(43)，所述驱动电机(43)的输出轴连接到转轴(41)中。3.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷加工的旋转式的釉面抛光装置，其特征在于，所述支撑台(3)下方贯穿到面板(2)底部且与其可升降地连接，且支架(1)中固定有竖直布置的支撑伸缩杆(31)，所述支撑伸缩杆(31)的活塞杆固定到支撑台(3)的底部。4.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷加工的旋转式的釉面抛光装置，其特征在于，所述支撑台(3)周围圆周分布有多个压力台(6)，所述压力台(6)可滑动地连接到面板(2)上开设的导轨(21)中，所述导轨(21)沿压力台(6)的径向延伸；所述压力台(6)上通过缓冲装置(61)连接有压盘(62)，且所述压盘(62)高于支撑台(3)。5.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷加工的旋转式的釉面抛光装置，其特征在于，述旋转抛光组件(5)包括固定铰接盘(51)，所述固定铰接盘(51)固定套设在转轴(41)中，所述固定铰接盘(51)的边缘圆周均匀分布地沿铰接有多根能够在垂直平面转动的抛光杆组件(52)，所述抛光杆组件(52)的末端设有抛光片(53)；且，当每根抛光杆组件(52)转动到竖直向下时，每片所述抛光片(53)能够组成完整的曲面。6.根据权利要求5所述的一种用于陶瓷加工的旋转式的釉面抛光装置，其特征在于，所述固定铰接盘(51)下方的转轴(41)中可上下滑动地套设有活动铰接盘(54)，所述活动铰接盘(54)的边缘铰接有多根支撑连杆(55)，且每根所述支撑连杆(55)的另一端一一对应地铰接到抛光杆组件(52)中；且，当活动铰接盘(54)移动到滑动行程的最下方时，支撑连杆(55)使每根抛光杆组件(52)转动到...

【专利技术属性】
技术研发人员：余沁怡，沈塔，
申请(专利权)人：江西陶瓷工艺美术职业技术学院，
类型：发明
国别省市：