一种抛光台温度控制装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种抛光台温度控制装置，涉及机械加工技术领域，包括柜体、固定设置在柜体顶端外侧壁上的抛光台，抛光台的侧壁内开设有空腔，柜体的内侧壁上分别固定安装有冷水箱与水泵，水泵的一端与冷水箱之间通过水管a相连接，水泵的另一端固定连接有水管b，水管b的末端固定连接有导流盒，导流盒远离水管b的一侧固定连接有水管c，水管c的末端固定连接在抛光台的侧壁上，导流盒的内侧壁上转动连接有叶轮，叶轮的侧壁上固定连接有转杆a，转杆a的输出轴末端贯穿导流盒的侧壁并延伸至导流盒的外部，本实用新型专利技术可加快抛光台表面的空气流动，配合冷水的热传导吸热，综合性降低抛光台的表面温度，提升抛光效果。提升抛光效果。提升抛光效果。

【技术实现步骤摘要】
一种抛光台温度控制装置


[0001]本技术涉及机械加工
，尤其涉及一种抛光台温度控制装置。

技术介绍

[0002]由于抛光机理是通过化学作用后，对抛除材料形成络合物，后对络合物进行机械作用去除，所以化学作用是抛光过程中的重要作用。目前在抛光过程中大多采用的抛光液进行抛光，抛光液是分别加入了纳米级磨料的酸性或碱性的化学液体，在化学反应过程中具有热量的释放，从而造成温度的上升；
[0003]抛光台上基板表面的抛光率不仅受到抛光面上接触压力的影响，还受到抛光面温度的影响。抛光温度是影响半导体晶圆抛光速率与质量的一个重要参数，因此对抛光台进行合理控温可提升抛光质量，传统对抛光台温度控制方式大多采用浇水的方式进行降温，抛光碎屑或抛光液等材料与水混合流淌，会严重影响工作台洁净度，其次也易稀释抛光液的浓度，由此造成抛光的质量也不够稳定。

技术实现思路

[0004]本技术的目的是为了解决现有技术中存在的抛光台温度控制方式易污染工作台且不适用于使用抛光液抛光的缺点，而提出的一种抛光台温度控制装置。
[0005]为了实现上述目的，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种抛光台温度控制装置，包括柜体(1)、固定设置在柜体(1)顶端外侧壁上的抛光台(2)，其特征在于，所述抛光台(2)的侧壁内开设有空腔(5)，所述柜体(1)的内侧壁上分别固定安装有冷水箱(3)与水泵(4)，所述水泵(4)的一端与冷水箱(3)之间通过水管a(6)相连接，所述水泵(4)的另一端固定连接有水管b(7)，所述水管b(7)的末端固定连接有导流盒(8)，所述导流盒(8)远离水管b(7)的一侧固定连接有水管c(9)，所述水管c(9)的末端固定连接在抛光台(2)的侧壁上，所述导流盒(8)的内侧壁上转动连接有叶轮(11)，所述叶轮(11)的侧壁上固定连接有转杆a(12)，所述转杆a(12)的输出轴末端贯穿导流盒(8)的侧壁并延伸至导流盒(8)的外部，所述柜体(1)的顶端外侧壁上固定连接有支架(14)，所述支架(14)的侧壁上转动连接有转杆b(15)，所述转杆b(15)靠近抛光台(2)的一端固定安装有风扇扇叶(16)，所述柜体(1)的侧壁上贯穿设置有传动件，所述转杆a(12)与转杆b(15)...

【专利技术属性】
技术研发人员：符智慧，符张波，史博鑫，
申请(专利权)人：无锡智慧桃园模具有限公司，
类型：新型
国别省市：