一种半导体二极管梳理装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种半导体二极管梳理装置，包括梳理底板，所述梳理底板梳理设置有两个，两个所述梳理底板之间固定连接有连接调节带，所述连接调节带数量设置有两个，两个所述连接调节带关于梳理底板中轴线对称设置，所述连接调节带由硅胶材质制成，所述梳理底板顶部固定连接有限位板，所述限位板内部贯穿有限位滑槽。本实用新型专利技术通过根据二极管不同的固定角度，拉动调节定位板，使两个梳理限位组件的角度得到转移，使用定位螺杆进行位置固定，将二极管插入至梳理限位组件内部进行限位固定，限位挡板通过复位弹簧的弹力根据二极管的体积进行固定空间的调节，从而可根据不同型号的二极管，对使用环境进行梳理，加强使用效果。加强使用效果。加强使用效果。

【技术实现步骤摘要】
一种半导体二极管梳理装置


[0001]本技术用于互感器
，具体涉及一种半导体二极管梳理装置。

技术介绍

[0002]二极管，电子元件当中，一种具有两个电极的装置，只允许电流由单一方向流过，许多的使用是应用其整流的功能。而变容二极管则用来当作电子式的可调电容器，二极管最普遍的功能就是只允许电流由单一方向通过（称为顺向偏压），反向时阻断 （称为逆向偏压），因此，二极管可以想成电子版的逆止阀。
[0003]由于二极管在使用的过程，根据不同的使用环境，从而所使用的型号不同，使用的二极管数量较多的情况下，会导致使用环境杂乱，从而影响后续加工环境的问题。
[0004]因此，专利技术一种半导体二极管梳理装置来解决上述问题很有必要。

技术实现思路

[0005]本技术的目的是提供一种半导体二极管梳理装置，通过根据二极管不同的固定角度，拉动调节定位板，使两个梳理限位组件的角度得到转移，使用定位螺杆进行位置固定，将二极管插入至梳理限位组件内部进行限位固定，限位挡板通过复位弹簧的弹力根据二极管的体积进行固定空间的调节，从而可根据不同型号的二极管，对使用环境进行梳理，加强使用效果，以解决技术中的上述不足之处。
[0006]为了实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种半导体二极管梳理装置，包括梳理底板，所述梳理底板梳理设置有两个，两个所述梳理底板之间固定连接有连接调节带，所述连接调节带数量设置有两个，两个所述连接调节带关于梳理底板中轴线对称设置，所述连接调节带由硅胶材质制成，所述梳理底板顶部固定连接有限位板，所述限位板内部贯穿有限位滑槽，所述限位滑槽内部贯穿有限位螺杆，所述限位螺杆外壁螺纹套接有限位螺帽，所述限位螺杆通过限位螺帽与限位滑槽固定连接，所述梳理底板内部开设有活动槽，所述活动槽数量设置有两个，两个所述活动槽关于梳理底板中轴线对称设置，所述活动槽内壁两侧均开设有调节滑槽，所述调节滑槽内部滑动连接有调节滑块，两个所述调节滑块之间固定连接有调节定位板，所述调节定位板贯穿梳理底板延伸至一侧，所述调节定位板内部开设有定位螺孔，所述定位螺孔数量设置有两个，所述梳理底板内壁两侧均贯穿有定位螺杆，所述定位螺杆延伸至定位螺孔内部。
[0007]优选的，所述调节定位板外壁一侧固定连接有贴合限位垫，所述贴合限位垫由硅胶材质制成。
[0008]优选的，所述调节定位板外壁另一侧固定连接有梳理限位组件，所述梳理限位组件包括限位侧板，所述限位侧板截面形状设为C形。
[0009]优选的，所述限位侧板内壁开设有活动滑槽，所述活动滑槽数量设置有两组，每组所述活动滑槽数量设置有两个，两组所述活动滑槽关于限位侧板中轴线对称设置。
[0010]优选的，所述活动滑槽内部滑动连接有活动滑块，两个所述活动滑块之间固定连
接有限位挡板，所述限位挡板贯穿限位侧板延伸至一侧，所述限位挡板与限位侧板内壁之间固定连接有复位弹簧，所述复位弹簧数量设置有两个。
[0011]优选的，两个所述限位挡板之间固定连接有连接板，所述连接板外壁一侧固定连接有调节手柄。
[0012]在上述技术方案中，本技术提供的技术效果和优点：
[0013]1、通过根据二极管不同的固定角度，拉动调节定位板，使两个梳理限位组件的角度得到转移，使用定位螺杆进行位置固定，将二极管插入至梳理限位组件内部进行限位固定，限位挡板通过复位弹簧的弹力根据二极管的体积进行固定空间的调节，从而可根据不同型号的二极管，对使用环境进行梳理，加强使用效果；
[0014]2、通过将装置转移至需要进行使用的地点，根据连接调节带固定两个梳理底板之间的距离，使用限位螺杆贯穿限位滑槽与目的地进行位置连接，当位置发生偏移时，可拉动梳理底板，使限位螺杆在限位滑槽内部滑动，使用限位螺帽进行位置确认，从而可适用于不同环境，降低了装置使用的局限性，便于安装拆卸。
附图说明
[0015]为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0016]图1为本技术的整体结构示意图；
[0017]图2为本技术梳理底板的正视剖面结构示意图；
[0018]图3为本技术限位板的放大结构示意图；
[0019]图4为本技术梳理限位组件的放大结构示意图；
[0020]图5为本技术限位侧板的侧视剖面结构示意图。
[0021]附图标记说明：
[0022]1、梳理底板；2、连接调节带；3、限位板；4、限位滑槽；5、限位螺杆；6、限位螺帽；7、活动槽；8、调节滑槽；9、调节滑块；10、调节定位板；11、定位螺孔；12、定位螺杆；13、贴合限位垫；14、梳理限位组件；15、限位侧板；16、活动滑槽；17、活动滑块；18、限位挡板；19、复位弹簧；20、连接板；21、调节手柄。
具体实施方式
[0023]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0024]本技术提供了如图1
‑
5所示的一种半导体二极管梳理装置，包括梳理底板1，所述梳理底板1梳理设置有两个，两个所述梳理底板1之间固定连接有连接调节带2，所述连接调节带2数量设置有两个，两个所述连接调节带2关于梳理底板1中轴线对称设置，所述连接调节带2由硅胶材质制成，所述梳理底板1顶部固定连接有限位板3，所述限位板3内部贯穿有限位滑槽4，所述限位滑槽4内部贯穿有限位螺杆5，所述限位螺杆5外壁螺纹套接有限
位螺帽6，所述限位螺杆5通过限位螺帽6与限位滑槽4固定连接，所述梳理底板1内部开设有活动槽7，所述活动槽7数量设置有两个，两个所述活动槽7关于梳理底板1中轴线对称设置，所述活动槽7内壁两侧均开设有调节滑槽8，所述调节滑槽8内部滑动连接有调节滑块9，两个所述调节滑块9之间固定连接有调节定位板10，所述调节定位板10贯穿梳理底板1延伸至一侧，所述调节定位板10内部开设有定位螺孔11，所述定位螺孔11数量设置有两个，所述梳理底板1内壁两侧均贯穿有定位螺杆12，所述定位螺杆12延伸至定位螺孔11内部。
[0025]进一步的，在上述技术方案中，所述调节定位板10外壁一侧固定连接有贴合限位垫13，所述贴合限位垫13由硅胶材质制成。
[0026]进一步的，在上述技术方案中，所述调节定位板10外壁另一侧固定连接有梳理限位组件14，所述梳理限位组件14包括限位侧板15，所述限位侧板15截面形状设为C形。
[0027]进一步的，在上述技术方案中，所述限位侧板15内壁开设有活动滑槽16，所述活动滑槽本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半导体二极管梳理装置，包括梳理底板（1），其特征在于，所述梳理底板（1）数量设置有两个，两个所述梳理底板（1）之间固定连接有连接调节带（2），所述连接调节带（2）数量设置有两个，两个所述连接调节带（2）关于梳理底板（1）中轴线对称设置，所述连接调节带（2）由硅胶材质制成，所述梳理底板（1）顶部固定连接有限位板（3），所述限位板（3）内部贯穿有限位滑槽（4），所述限位滑槽（4）内部贯穿有限位螺杆（5），所述限位螺杆（5）外壁螺纹套接有限位螺帽（6），所述限位螺杆（5）通过限位螺帽（6）与限位滑槽（4）固定连接，所述梳理底板（1）内部开设有活动槽（7），所述活动槽（7）数量设置有两个，两个所述活动槽（7）关于梳理底板（1）中轴线对称设置，所述活动槽（7）内壁两侧均开设有调节滑槽（8），所述调节滑槽（8）内部滑动连接有调节滑块（9），两个所述调节滑块（9）之间固定连接有调节定位板（10），所述调节定位板（10）贯穿梳理底板（1）延伸至一侧，所述调节定位板（10）内部开设有定位螺孔（11），所述定位螺孔（11）数量设置有两个，所述梳理底板（1）内壁两侧均贯穿有定位螺杆（12），所述定位螺杆（12）延伸至定位螺孔（11）内部。2.根据权利要求1所述的一种半导体二极管梳理装...

【专利技术属性】
技术研发人员：柳哲虎，
申请(专利权)人：博敦电子上海有限公司，
类型：新型
国别省市：