一种HM上料口洁净棚制造技术

本实用新型专利技术提供一种HM上料口洁净棚，包括洁净棚本体和位于洁净棚顶部的FFU风机过滤器，所述FFU风机过滤器内设有风机和过滤芯，所述FFU风机过滤器从上至下向所述洁净棚本体内输送洁净的风力，所述洁净棚本体包括封闭的上层和开放的下层，所述洁净棚本体的上层被分割成若干的存储空间，裸体组件物料和裸体基板物料被分别放置于不同的存储空间内，各所述存储空间通过亚克力板构成密封环境，所述亚克力板与所述洁净棚本体的框架铰接，构成可开启的柜门，至少一个所述存储空间的底板为第一透风板，所述第一透风板上分布有若干透风孔。所述第一透风板上分布有若干透风孔。所述第一透风板上分布有若干透风孔。

【技术实现步骤摘要】
一种HM上料口洁净棚


[0001]本技术涉及摄像头模组领域，尤其涉及一种HM上料口洁净棚。

技术介绍

[0002]摄像头模组领域生产过程中，面临最大的问题是脏污脏点的控制，又称Particle管控。
[0003]而裸体的WB(金线焊接)后半成品及裸体Holder&Lens(摄像头支架底座&镜头)组件在HM组装(支架镜头安装于基板上的组装)前避免不了的需要一定暂存品，清洗后的物料暂存期间，会有再次被落尘污染的问题，且作业人员在操机物料搬运过程中也避免不了的会来回走动，落尘污染会进一步加重。
[0004]被落尘污染的产品经HM组装后，将会直接影响后段测试良率，Particle不良高了，流出到客户端的风险也随之变高，给企业带来了巨大的不良损失的同时也让客户群体对企业出现信心不足，严重情况下甚至造成客户流失。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于克服现有技术之缺陷，提供了一种HM上料口洁净棚，至少解决了现有技术中的部分技术问题。
[0006]本技术是这样实现的：
[0007]本技术提供一种HM上料口洁净棚，包括洁净棚本体和位于洁净棚顶部的FFU风机过滤器，所述FFU风机过滤器内设有风机和过滤芯，所述FFU风机过滤器从上至下向所述洁净棚本体内输送洁净的风力，所述洁净棚本体包括封闭的上层和开放的下层，所述洁净棚本体的上层被分割成若干的存储空间，裸体组件物料和裸体基板物料被分别放置于不同的存储空间内，各所述存储空间通过亚克力板构成密封环境，所述亚克力板与所述洁净棚本体的框架铰接，构成可开启的柜门，至少一个所述存储空间的底板为第一透风板，所述第一透风板上分布有若干透风孔。
[0008]作为优选，所述洁净棚本体的下层设有第二透风板，所述第二透风板上分布有若干透风孔，所述第二透风板用于放置空弹夹及空的承载物料的盘子。
[0009]作为优选，至少一个所述柜门为双开门。
[0010]作为优选，各所述存储空间的底板高度不同。
[0011]作为优选，所述柜门通过底部的插销与所述洁净棚本体固定连接。
[0012]作为优选，所述柜门上设有方便开启的把手。
[0013]作为优选，所述存储空间内设有LED灯。
[0014]作为优选，所述亚克力板为透明亚克力板。
[0015]作为优选，所述洁净棚本体底部设有脚轮。
[0016]作为优选，所述洁净棚本体的框架采用方钢。
[0017]本技术具有以下有益效果：
[0018]本技术利用风机给洁净棚内部灌输风力，风力经过FFU风机过滤器的高效过滤芯过滤后，使洁净棚内部形成正压，使其上料动作造成摩擦的产尘能被直接下压至洁净棚底部排走，同时裸体组件物料和裸体基板物料分隔开来，底部开放层放置空弹夹及空Tray(承载物料的盘子)，有效的防止交叉污染，另洁净棚为相对密闭结构，能有效防止周边作业人员走动及搬运物料时所造成的落尘污染风险，给待HM组装的裸体物料提供了一个相对更为洁净的环境。
附图说明
[0019]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。
[0020]图1为本技术实施例提供的HM上料口洁净棚的内部示意图；
[0021]图2为本技术实施例提供的HM上料口洁净棚的侧视图；
[0022]图3为本技术实施例提供的HM上料口洁净棚的正视图；
[0023]图4为本技术实施例提供的HM上料口洁净棚的左视图。
具体实施方式
[0024]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本技术保护的范围。
[0025]如图1
‑
图4，本技术实施例提供一种HM上料口洁净棚，包括洁净棚本体1和位于洁净棚顶部的FFU风机过滤器2，所述FFU风机过滤器2内设有风机和过滤芯，所述FFU风机过滤器2从上至下向所述洁净棚本体1内输送洁净的风力，所述洁净棚本体1包括封闭的上层和开放的下层，所述洁净棚本体1的上层被分割成若干的存储空间3，裸体组件物料和裸体基板物料被分别放置于不同的存储空间3内，各所述存储空间3通过亚克力板4构成密封环境，所述亚克力板4与所述洁净棚本体1的框架铰接，构成可开启的柜门，至少一个所述存储空间3的底板为第一透风板5，所述第一透风板5上分布有若干透风孔。
[0026]所述洁净棚本体1的下层设有第二透风板(未图示)，所述第二透风板上分布有若干透风孔，所述第二透风板用于放置空弹夹及空的承载物料的盘子。
[0027]在本实施例中，至少一个所述柜门为双开门，更方便取物。所述柜门通过底部的插销与所述洁净棚本体固定连接，方便开启和关闭柜门。所述柜门上设有方便开启的把手。
[0028]各所述存储空间3的底板高度不同，用于区别放置不同的物料。
[0029]在本实施例中，所述存储空间3内设有LED灯，所述亚克力板为透明亚克力板，方便工作人员了解各存储空间3内放置的物料。
[0030]所述洁净棚本体1底部设有脚轮，可根据需要转移洁净棚本体1的位置。
[0031]在本实施例中，所述洁净棚本体1的框架采用方钢。
[0032]本技术利用风机给洁净棚内部灌输风力，风力经过FFU风机过滤器的高效过
滤芯过滤后，使洁净棚内部形成正压，使其上料动作造成摩擦的产尘能被直接下压至洁净棚底部排走，同时裸体组件物料和裸体基板物料分隔开来，底部开放层放置空弹夹及空Tray(承载物料的盘子)，有效的防止交叉污染，另洁净棚为相对密闭结构，能有效防止周边作业人员走动及搬运物料时所造成的落尘污染风险，给待HM组装的裸体物料提供了一个相对更为洁净的环境。
[0033]本技术核心目标为解决HM镜座贴合设备上料口暂存裸体物料被落尘污染的问题，同步类似相应需要更为洁净环境的物料暂存区亦可应用；
[0034]本技术提供的HM上料口洁净棚完全贴合设备使用，无缝对接实时保护，物料区域明确区分隔绝，防止交叉污染，操作简单方便，有效防止设备周边人员走动形成的落尘。
[0035]本技术提供的HM上料口洁净棚将会使HM生产出来的产品，良率更高，Particle管控更优。
[0036]以上所述仅为本技术的较佳实施例而已，并不用以限制本技术，凡在本技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种HM上料口洁净棚，其特征在于：包括洁净棚本体和位于洁净棚顶部的FFU风机过滤器，所述FFU风机过滤器内设有风机和过滤芯，所述FFU风机过滤器从上至下向所述洁净棚本体内输送洁净的风力，所述洁净棚本体包括封闭的上层和开放的下层，所述洁净棚本体的上层被分割成若干的存储空间，裸体组件物料和裸体基板物料被分别放置于不同的存储空间内，各所述存储空间通过亚克力板构成密封环境，所述亚克力板与所述洁净棚本体的框架铰接，构成可开启的柜门，至少一个所述存储空间的底板为第一透风板，所述第一透风板上分布有若干透风孔。2.如权利要求1所述的HM上料口洁净棚，其特征在于：所述洁净棚本体的下层设有第二透风板，所述第二透风板上分布有若干透风孔，所述第二透风板用于放置空弹夹及空的承载物料的盘子。3...

【专利技术属性】
技术研发人员：樊徐洪，吴红，
申请(专利权)人：湖北三赢兴光电科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：