一种水平沉铜设备制造技术

本实用新型专利技术涉及化学镀铜技术领域，尤其是涉及一种水平沉铜设备，包括依次连通的膨松

【技术实现步骤摘要】
一种水平沉铜设备


[0001]本技术涉及化学镀铜
，具体涉及C23C18/38，尤其是涉及一种水平沉铜设备。

技术介绍

[0002]CN201720939088提供了一种PCB板沉铜设备，通过设置有超声波发射器去除通孔内的气泡，并通过设置液位传感器，监测液位的高低，然而存在活化段的设备中，过板时活化液因为滚轮的牵引力和惯性而带出一部分的活化液，造成贵金属钯的浪费，同时需要根据监测的液位的高低需要频发的人工操作活化液，操作繁琐。CN201822246467提供了一种挡水滚轮及水平沉铜设备，通过涂覆或者包覆防腐蚀层，提高了使用寿命，同样其并没有解决贵金属钯浪费的问题。

技术实现思路

[0003]针对现有技术中存在的一些问题，本技术提供了一种水平沉铜设备，包括依次连通的膨松
‑
除胶区、中和
‑
微蚀区、预浸
‑
活化区、沉铜区，所述膨松
‑
除胶区包括依次连通的膨松槽1、第一水洗槽2、除胶槽3，所述微蚀区包括依次连通的第二水洗槽4、中和槽5、第三水洗槽6、调整槽7、第四水洗槽8、微蚀槽9；所述预浸
‑
活化区包括依次连通的第五水洗槽10、预浸槽11、活化槽12、第六水洗槽13、还原槽14、第七水洗槽15；所述沉铜区包括沉铜槽16、第八水洗槽17、组合槽18。
[0004]作为一种优选的技术方案，所述沉铜槽16的个数为n，n≥1。
[0005]作为一种优选的技术方案，所述活化槽12包括位于活化槽12底部的机架 1201和槽体1202，所述槽体1202位于机架1201的顶部。
[0006]作为一种优选的技术方案，所述槽体1202包括外槽体1202
‑
1和内槽体 1202
‑
2，所述内槽体1202
‑
2位于外槽体1202
‑
1内部。
[0007]作为一种优选的技术方案，所述活化槽12还包括传输机构1203，所述传输机构1203固定连接在内槽体1202
‑
2的右上方。
[0008]作为一种优选的技术方案，所述传输机构1203包括主动传动机构1203
‑
1和被动传动机构1203
‑
2，所述被动传动机构1203
‑
2位于主动传动机构1203
‑
1上方，其之间通过接触滚动连接。
[0009]作为一种优选的技术方案，所述主动传动机构1203
‑
1和被动传动机构1203
‑
2 为滚轮。
[0010]作为一种优选的技术方案，距离活化槽12出口处的25
‑
35个滚轮设置有弹性部件。
[0011]作为一种优选的技术方案，距离活化槽12出口处的25
‑
35个滚轮的直径随着接近活化槽12出口的位置逐渐增大。
[0012]作为一种优选的技术方案，距离活化槽12出口处的25
‑
35个滚轮中，相邻滚轮的直径差小于2mm。
[0013]本技术的有益效果是：
[0014]本技术采用依次连通的膨松
‑
除胶区、中和
‑
微蚀区、预浸
‑
活化区、沉铜区实现了连续化的沉铜工艺，方便简洁；滚轮的特殊设计和循环装置的设置使得活化液得到充分的利用，避免了活化液的浪费，降低了贵金属钯的浪费，解决了目前在活化段的设备中，过板时活化液因为滚轮的牵引力和惯性而带出一部分的活化液的技术问题。
附图说明
[0015]图1为本技术膨松
‑
除胶区的结构示意图；
[0016]图2为本技术中和
‑
微蚀区的结构示意图；
[0017]图3为本技术预浸
‑
活化区的结构示意图；
[0018]图4为本技术沉铜区的结构示意图；
[0019]图5为传输机构的结构示意图；
[0020]其中，1
‑
膨松槽；2
‑
第一水洗槽；3
‑
除胶槽；4
‑
第二水洗槽；5
‑
中和槽；6
‑ꢀ
第三水洗槽；7
‑
调整槽；8
‑
第四水洗槽；9
‑
微蚀槽；10
‑
第五水洗槽；11
‑
预浸槽； 12
‑
活化槽；13
‑
第六水洗槽；14
‑
还原槽；15
‑
第七水洗槽；16
‑
沉铜槽；17
‑
第八水洗槽；18
‑
组合槽；1201
‑
机架；1202
‑
槽体；1202
‑1‑
外槽体；1202
‑2‑
内槽体；1203
‑ꢀ
传输机构；1204
‑
喷淋机构；1203
‑1‑
主动传动机构；1203
‑2‑
被动传动机构；1601
‑ꢀ
第一沉铜槽；1602
‑
第二沉铜槽；1603
‑
第三沉铜槽。
具体实施方式
[0021]本技术公开一种水平沉铜设备。
[0022]如图1
‑
5，所述水平沉铜设备包括依次连通的膨松
‑
除胶区、中和
‑
微蚀区、预浸
‑
活化区、沉铜区，所述膨松
‑
除胶区包括依次连通的膨松槽1、第一水洗槽2、除胶槽3，所述微蚀区包括依次连通的第二水洗槽4、中和槽5、第三水洗槽 6、调整槽7、第四水洗槽8、微蚀槽9；所述预浸
‑
活化区包括依次连通的第五水洗槽10、预浸槽11、活化槽12、第六水洗槽13、还原槽14、第七水洗槽15；所述沉铜区包括沉铜槽16、第八水洗槽17、组合槽18。
[0023]在一种实施方式中，所述沉铜槽16的个数为n，n≥1。
[0024]优选的，所述沉铜槽16包括串联的第一沉铜槽1601、第二沉铜槽1602、第三沉铜槽1603。
[0025]在一种实施方式中，所述活化槽12包括位于活化槽12底部的机架1201和槽体1202，所述槽体1202位于机架1201的顶部。
[0026]本申请所述机架1201用于供部件安装设置。
[0027]优选的，所述机架1201上设置有输送口，供沉铜对象进入。
[0028]所述槽体1202用于药液盛放。
[0029]优选的，所述槽体1202包括外槽体1202
‑
1和内槽体1202
‑
2，所述内槽体 1202
‑
2位于外槽体1202
‑...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种水平沉铜设备，其特征在于，包括依次连通的膨松
‑
除胶区、中和
‑
微蚀区、预浸
‑
活化区、沉铜区，所述膨松
‑
除胶区包括依次连通的膨松槽(1)、第一水洗槽(2)、除胶槽(3)，所述微蚀区包括依次连通的第二水洗槽(4)、中和槽(5)、第三水洗槽(6)、调整槽(7)、第四水洗槽(8)、微蚀槽(9)；所述预浸
‑
活化区包括依次连通的第五水洗槽(10)、预浸槽(11)、活化槽(12)、第六水洗槽(13)、还原槽(14)、第七水洗槽(15)；所述沉铜区包括沉铜槽(16)、第八水洗槽(17)、组合槽(18)。2.根据权利要求1所述水平沉铜设备，其特征在于，所述沉铜槽(16)的个数为n，n≥1。3.根据权利要求1所述水平沉铜设备，其特征在于，所述活化槽(12)包括位于活化槽(12)底部的机架(1201)和槽体(1202)，所述槽体(1202)位于机架(1201)的顶部。4.根据权利要求3所述水平沉铜设备，其特征在于，所述槽体(1202)包括外槽体(1202
‑
1)和内槽体(1202
‑
2)，所述内槽体(1202
‑
2)位于外槽体(1202
‑
...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙宇曦，曾庆明，
申请(专利权)人：广东硕成科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：