一种应用于真空溅射设备的基板承载装置制造方法及图纸

本发明专利技术的实施例公开了一种应用于真空溅射设备的基板承载装置，包括：支撑框架；若干支撑支架，间隔地固定安装于所述支撑框架上；压力传感器，设于所述支撑支架上；支撑顶针，设于所述压力传感器上；托盘，设于所述支撑顶针上，用于承载基板。根据本发明专利技术，将压力传感器设置于支撑顶针下方，逻辑控制器与压力传感器相接，通过逻辑控制器监控每个支撑顶针的承重量并进行模拟画图，可以快速监控每个支撑顶针承重的实时、精确数据，避免由于基板水平度问题导致的翻转破片，进而实现托盘的水平度高精度的测量及调整，从而提前识别异常并快速调整，极大降低了异常调节时间，提高了产线运营效率。率。率。

【技术实现步骤摘要】
一种应用于真空溅射设备的基板承载装置


[0001]本专利技术涉及显示面板领域，特别涉及一种应用于真空溅射设备的基板承载装置。

技术介绍

[0002]液晶显示器具有低辐射、低功耗以及体积小等特点，逐渐成为显示器件的主流，广泛应用在手机、笔记本电脑、平板电视等产品上。随着面板尺寸逐渐增加，像素分辨率要求提高，越来越多的生产线应用更大型的真空溅射设备，以应对更大尺寸的成膜需求。同时，由于基板不断薄化的趋势，其在大型真空溅射设备的大气翻转单元的承载平台针阵上的弯曲量越大；另一方面，由于成本考量，设备的节拍时间越来越短，各机构单元的动作越来越快，从而导致基板破损的机率急剧升高。
[0003]由于目前使用的承载平台针阵均为固定式，其水平度的调整多依赖自制的金属杆和红外线，无法实现快速高精度的测量及调整；另外，由于Pin Array的Pin数量较多，逐个进行调整测量效率较为低下；同时由于人员操作手法的差异，各个机台存在差异，在进行实际调整时，无法统一标准。
[0004]有鉴于此，实有必要开发一种新型的应用于真空溅射设备的基板承载装置，用以解决本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种应用于真空溅射设备的基板承载装置，其特征在于，包括：支撑框架；若干支撑支架，间隔地固定安装于所述支撑框架上；压力传感器，设于所述支撑支架上；支撑顶针，设于所述压力传感器上；托盘，设于所述支撑顶针上，用于承载基板。2.如权利要求1所述的基板承载装置，其特征在于，还包括固定螺栓，所述支撑支架通过所述固定螺栓旋紧固定于所述支撑框架上。3.如权利要求1所述的基板承载装置，其特征在于，所述支撑支架为高度可调节的支撑支架。4.如权利要求3所述的基板承载装，其特征在于，还包括调节螺栓，所述支撑支架上设置上下垂直分布的与所述调节螺栓相匹配的若干螺纹固定孔，通过所述调节螺栓旋于不同的所述螺纹固定孔内，实现所述支撑支架高度的调整。5.如权利要求1所述的基板承载装，其特征在于，所述支撑框架包括多根交...

【专利技术属性】
技术研发人员：王统，
申请(专利权)人：广州华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：