【技术实现步骤摘要】
一种模具式电子芯片生产晶圆涂膜设备
[0001]本技术涉及电子芯片
,具体地说,涉及一种模具式电子芯片生产晶圆涂膜设备。
技术介绍
[0002]对于电子芯片来说,它的原材料就是晶圆。其中,当晶圆需要成型为芯片来说,需要经过多道工艺的流程,例如:晶圆清洗、晶圆涂膜、晶圆光刻显影和搀加杂质等步骤,对于晶圆进行涂膜使,目前多通用人力对晶圆的表面填涂一种光刻胶膜层,此过程的光刻胶填涂较为耗费人力,进而少部分的技术人员会采用机械转动填涂,通过光刻胶位于转动器具上,对下方的晶圆进行转动填涂,此过程随具有节约人力的效果,但是需要较长时间的机械转动填涂,达不到一次性的均填涂效果,无法对于后续的曝光与烘烤节约时间;同时在转动填涂时,晶圆表面填涂的光刻胶的量度可能较多,做不到整体均匀的效果,综上所述,目前晶圆的涂膜的效率得不到提高,也达不到优异的填涂效果,即电子芯片的制造生产效率缓慢。
技术实现思路
[0003]本技术的目的在于提供一种模具式电子芯片生产晶圆涂膜设备,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0004]为实现 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种模具式电子芯片生产晶圆涂膜设备,包括涂膜体(100),其特征在于:所述涂膜体(100)包括对称设置的支撑柱(110),所述支撑柱(110)之间连通有固定杆(111),所述固定杆(111)一端安装有涂膜盘(112),所述涂膜盘(112)呈开口向上的圆形结构,所述固定杆(111)的表面套接有连接板(113),所述连接板(113)的一端内安装有固定轴(114),所述固定轴(114)的顶部安装有转盘,所述固定轴(114)的底部设有涂料板(115),所述涂料板(115)的一端与所述涂膜盘(112)的中心轴处于同一水平线,所述涂料板(115)得到尺寸与所述涂膜盘(112)的半径相同。2.根据权利要求1所述的模具式电子芯片生产晶圆涂膜设备,其特征在于:所述涂膜盘(112)的表面侧端安装有贯穿内部的堵塞。3.根据权利要求1所述的模具式电子芯片生产晶圆涂膜设备,其特征在于:所述涂膜盘(112)的内部螺纹连接有底螺杆(116),所述底螺杆(116)的底部安装有转动把手(1160)。4.根据权利要求1所述的模具式电子芯片生...
【专利技术属性】
技术研发人员:冯达,
申请(专利权)人:上海艾深斯科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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