一种水稻栽培方法技术

本发明专利技术提供了一种水稻栽培方法，属于水稻栽培技术领域。本发明专利技术提供的水稻栽培方法，包括如下步骤：(1)插秧前施入底肥，打浆整地，插秧；(2)插秧后第6～8天追施第一次氮肥；插秧后第12～15天追施第二次氮肥和第一次磷肥；插秧后第25～30天追施第三次氮肥；插秧后第33～36天追施第四次氮肥和第一次钾肥；插秧后第42～48天追施第五次氮肥；(3)水稻成熟后收获。本发明专利技术提供的水稻栽培方法通过优化氮肥、磷肥和钾肥的施用时间和施用量，尤其将氮肥精细分配施用，提高了氮肥的利用率，提高了水稻产量，降低了氧化亚氮的排放量，缓解了温室效应。缓解了温室效应。

【技术实现步骤摘要】
一种水稻栽培方法


[0001]本专利技术涉及水稻栽培
，尤其涉及一种水稻栽培方法。

技术介绍

[0002]水稻是我国最主要的粮食作物之一。氮肥在水稻生产中起着重要作用，但现有的水稻栽培方法，在水稻生产过程中过量使用氮肥的现象比较凸出。过量氮肥施入会降低土壤中有机质的积累、影响土壤肥力，通过表面径流造成水体富营养化严重影响生态环境，大量铵态氨挥发污染空气，并且过量的氮肥经过微生物的硝化和反硝化作用生成N2O，加剧温室效应等，使稻田系统成为了重要的温室气体排放源。
[0003]专利技术CN109302963A，公开日2019年2月5日，公开了一种水稻栽培方法。该技术采用“增密减氮”措施，通过减少氮肥的施用量，增加作物密度，提高氮肥利用率，降低了温室气体N2O的排放量。但是，在“增密减氮”组的定植密度高于常规对照组的情况下，其水稻增产量仅提高了3.0％。可见该技术的在减少氮肥用量的同时导致了水稻减产。因此，通过减少氮肥的施用量来降低温室气体的排放虽然是可行的，但同时也产生了水稻减产的问题。因此，迫切需要一种既能够降低稻田温室气体排放量，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种水稻栽培方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)插秧前施入底肥，打浆整地，插秧；(2)插秧后第6～8天追施第一次氮肥；插秧后第12～15天追施第二次氮肥和第一次磷肥；插秧后第25～30天追施第三次氮肥；插秧后第33～36天追施第四次氮肥和第一次钾肥；插秧后第42～48天追施第五次氮肥；(3)水稻成熟后收获。2.如权利要求1所述的栽培方法，其特征在于，所述底肥在插秧前5～7天施入。3.如权利要求2所述的栽培方法，其特征在于，所述底肥按照氮肥55～65kg/hm2、磷肥45～55kg/hm2、钾肥35～4...

【专利技术属性】
技术研发人员：王昕，殷延勃，沙月霞，张益民，杨国虎，贺奇，亢玲，李虹，
申请(专利权)人：宁夏农林科学院农作物研究所宁夏回族自治区农作物育种中心，
类型：发明
国别省市：