一种刻蚀环检测用便于清理的检测台制造技术

本实用新型专利技术涉及一种刻蚀环检测用便于清理的检测台，包括检测台本体、清理装置和回收装置；所述检测台本体包括检测台和固定箱，所述固定箱的左侧固定连接有清理装置，所述固定箱的右侧固定连接有回收装置，所述固定箱用于固定清理装置和回收装置；所述清理装置包括水箱、水泵、输水管、高压喷头和电动推杆，所述清理装置用于检测台清理。该刻蚀环检测用便于清理的检测台，通过设置启动水泵增压，便于输水管将水箱内部的水输送至高压喷头内部，再通过设置高压喷头对检测台的顶面进行清洗，然后通过设置启动电动推杆，电动推杆启动带动检测台的左侧向上升起，便于清洗后的废料流向回收管,达到了清理效果好的优点。管,达到了清理效果好的优点。管,达到了清理效果好的优点。

【技术实现步骤摘要】
一种刻蚀环检测用便于清理的检测台


[0001]本技术涉及检测台清理


技术介绍

[0002]刻蚀是半导体制造工艺，微电子IC制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的步骤，是与光刻相联系的图形化处理的一种主要工艺，所谓刻蚀，实际上狭义理解就是光刻腐蚀，先通过光刻将光刻胶进行光刻曝光处理，然后通过其它方式实现腐蚀处理掉所需除去的部分，刻蚀是用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要的材料的过程，其基本目标是在涂胶的硅片上正确地复制掩模图形。
[0003]随着微制造工艺的发展，刻蚀成了通过溶液、反应离子或其它机械方式来剥离、去除材料的一种统称，成为微加工制造的一种普适叫法，而刻蚀环检测需要在检测台上进行，因此会造成大量的刻蚀液，现有的清理装置清理效果较差，如不经妥善处理与利用，会造成严重的环境污染与极大的经济浪费，故而提出一种刻蚀环检测用便于清理的检测台来解决上述中所提出的问题。

技术实现思路

[0004]本技术针对现有技术中存在的技术问题，提供一种刻蚀环检测用便于清理的检测台，解决了检测台清理效果较差会造成严重的环境本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种刻蚀环检测用便于清理的检测台，其特征在于，包括检测台本体(1)、清理装置(2)和回收装置(3)；所述检测台本体(1)包括检测台(101)和固定箱(103)，所述固定箱(103)的左侧固定连接有清理装置(2)，所述固定箱(103)的右侧固定连接有回收装置(3)，所述固定箱(103)用于固定清理装置(2)和回收装置(3)；所述清理装置(2)包括水箱(201)、水泵(202)、输水管(204)、高压喷头(205)和电动推杆(206)，所述清理装置(2)用于检测台(101)清理；所述回收装置(3)包括回收箱(301)、回收管(302)和过滤板(303)，所述回收装置(3)用于回收清理废料。2.根据权利要求1所述的一种刻蚀环检测用便于清理的检测台，其特征在于，所述检测台(101)顶部的四周均固定连接有防护板(102)，所述检测台(101)的底部活动连接有固定箱(103)，所述固定箱(103)为空心的长方体。3.根据权利要求2所述的一种刻蚀环检测用便于清理的检测台，其特征在于，所述固定箱(103)的底部固定连接有万向轮(104)，所述万向轮(104)的数量为四个，所述固定箱(103)的正面铰接有箱门(105)。4.根据权利要求1所述的一种刻蚀环检测用便于清理的检测台，其特征在于，所述固定箱(103)的左侧固定连接有水箱(201)、水泵(202)和固定板(203)，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：范冬冬，范贤力，张顺红，
申请(专利权)人：江苏团祥光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：