金属表面结构、金属壳体及电子设备制造技术

本实用新型专利技术公开一种金属表面结构，包括金属面层及覆盖在所述金属面层上的保护层，所述金属面层包括通过镭雕形成的镭雕区域以及包围所述镭雕区域的抗氧化区域。本实用新型专利技术还公开一种包括上述金属表面结构的金属壳体及包括该金属壳体的电子设备。与现有技术相比，有益效果在于：通过在镭雕区域的周围设置抗氧化区域，使得金属面层可以通过抗氧化区域与保护层的结合将镭雕区域与外界完全隔绝，从而达到避免镭雕区域经过镭雕处理后因接触到空气中的氧气而产生氧化的现象，进而可以有效提高金属表面的外观品质。属表面的外观品质。属表面的外观品质。

【技术实现步骤摘要】
金属表面结构、金属壳体及电子设备


[0001]本技术涉及电子设备
，具体的涉及一种金属表面结构、金属壳体及电子设备。

技术介绍

[0002]随着电子技术的快速发展，人们对电子产品外壳的美观度要求越来越高。金属材质的外壳具有较高的硬度以及耐磨度，且外观时尚，赢得了众多用户的喜爱；尤其是铝合金材质的外壳，重量较轻，方便携带，所以许多电子产品都采用铝合金材质的外壳。
[0003]目前的金属外壳表面通常经过阳极氧化或电镀工艺进行表面处理，以达到抗氧化的目的，然而在现有技术中，外壳的某些部位需要进行导电连接或者增加美感，比如天线部位与摄像头的装饰件，这样为了导电或者增加外观美感，通常会在机壳上增加镭雕，但镭雕会破坏外壳的氧化层，外壳经过镭雕的部位容易产生氧化的现象。
[0004]鉴于此，实有必要提供一种金属表面结构、金属壳体及电子设备以克服现有技术的不足。

技术实现思路

[0005]本技术的目的是提供一种金属表面结构，旨在保护金属表面过镭雕的部位，避免镭雕部位被氧化。
[0006]为了实现上述目的，本技术提供一种金属表面结构，包括金属面层，所述金属面层包括通过镭雕形成的镭雕区域以及包围所述镭雕区域的抗氧化区域。
[0007]作为本技术金属表面结构的一种改进，所述抗氧化区域包括沿所述金属面层的边缘包围所述镭雕区域的外环区域。
[0008]作为本技术金属表面结构的一种改进，所述镭雕区域中设有若干通孔，所述抗氧化区域还包括与所述通孔的数量一致并一一环绕所述通孔的内环区域。
[0009]作为本技术金属表面结构的一种改进，所述外环区域与所述内环区域的宽度均为0.5mm
‑
2mm。
[0010]作为本技术金属表面结构的一种改进，还包括覆盖在所述金属面层上的保护层。
[0011]作为本技术金属表面结构的一种改进，所述保护层包括透明的并将所述金属面层完全覆盖的背胶层以及贴附在所述背胶层上并可分离的保护膜。
[0012]作为本技术金属表面结构的一种改进，所述保护膜为透明的PET膜。
[0013]作为本技术金属表面结构的一种改进，所述金属面层经过抗氧化处理后再通过镭雕形成所述镭雕区域与所述抗氧化区域。
[0014]本技术还提供一种包括上述金属表面结构的金属外壳。
[0015]本技术还提供一种包括上述金属外壳的电子设备。
[0016]与现有技术相比，本技术金属表面结构及电子设备的有益效果在于：通过在
镭雕区域的周围设置抗氧化区域，使得金属面层可以通过抗氧化区域与保护层的结合将镭雕区域与外界完全隔绝，从而达到避免镭雕区域经过镭雕处理后因接触到空气中的氧气而产生氧化的现象，进而可以有效提高金属表面的外观品质。
[0017]为使技术的上述目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举本技术较佳实施例，并配合所附附图，作详细说明如下。
【附图说明】
[0018]为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本技术的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
[0019]图1为本技术提供的金属表面结构的主视图。
[0020]图2为图1所示金属表面结构的剖视图。
[0021]图3为图1所示金属表面结构在另一个实施例中的主视图。
【具体实施方式】
[0022]为了使本技术的目的、技术方案和有益技术效果更加清晰明白，以下结合附图和具体实施方式，对本技术进行进一步详细说明。应当理解的是，本说明书中描述的具体实施方式仅仅是为了解释本技术，并不是为了限定本技术。
[0023]请参考图1至图3，本技术提供一种金属表面结构100，用在需要镭雕处理的金属表面，主要解决金属表面经过镭雕后容易产生氧化的现象。
[0024]在本技术的实施例中，金属表面结构100包括金属面层10及覆盖在金属面层10上的保护层20，金属面层10包括通过镭雕形成的镭雕区域101以及包围镭雕区域101的抗氧化区域102。
[0025]在这里，金属面层10可以经过抗氧化处理后再通过镭雕形成镭雕区域101与抗氧化区域102，亦即，金属面层10先经过抗氧化处理形成一个将金属面层10完全覆盖的抗氧化层后，再经过镭雕除去部分抗氧化层后形成需要的镭雕区域101与抗氧化区域102，然后再向金属面层10上贴附保护层20，使得镭雕区域101被封闭在保护层20下，即镭雕区域101无法与外界的空气接触，使得镭雕区域101不会产生氧化的现象，进而可以提高镭雕区域101的外观品质。
[0026]需说明的是，通过镭雕形成的镭雕区域101其表面会呈现凸凹不平的状态，这样就需要抗氧化区域10来起到封边的作用，即通过保护层20与抗氧化区域102的紧密贴合来防止空气从镭雕区域101的边缘进入到镭雕区域101中。
[0027]在本实施例中，金属面层10可以通过阳极氧化、电镀、发黑、电泳等表面处理工艺中的任意一种来完成抗氧化处理，比如，当金属面层10为铝合金表面时，可以采用阳极氧化进行抗氧化处理，当金属面层10为铁质合金表面时，可以采用电镀或者发黑进行抗氧化处理。当然，金属面层10也可以不经过抗氧化处理，比如，当金属面层10为不锈钢表面时，金属面层10因本身具有抗氧化的特性无需进行抗氧化处理。也就是说，金属面层10是否需要进行抗氧化处理取决于金属材质。
[0028]进一步的，在一个实施例中，抗氧化区域102可以包括沿金属面层10的边缘包围镭雕区域101的外环区域1021，如图2所示，此时镭雕区域101的面积最大，同时为了保证金属面层10的最大化利用，外环区域1021的宽度越小越好，优选的，外环区域1021的宽度为0.5
‑
2mm，这样既能最大化的利用金属面层10，又能保证抗氧化区域102与保护层20结合后产生较好的封闭作用。
[0029]抗氧化区域102还可以包括若干内环区域1022，内环区域1022用在金属面层10具有通孔103的情况下，如图3所示，亦即镭雕区域101中设有若干通孔103的情况，此时内环区域1022的数量与通孔103的数量一致并一一环绕在通孔103的周围，且内环区域1022的宽度和外环区域1021的宽度保持一致。
[0030]也就是说，通过内环区域1022与外环区域1021的结合使得抗氧化区域102可以适应各种不同造型的金属表面，比如，当金属面层10为矩形平面、圆形平面或者弧形曲面时，抗氧化区域102仅包括外环区域1021，当金属面层10为环状时，抗氧化区域102同时包括外环区域1021与内环区域1022。
[0031]进一步的，在一个实施例中，保护层20可以包括透明的背胶层201，使得金属面层10本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种金属表面结构，其特征在于，包括金属面层，所述金属面层包括通过镭雕形成的镭雕区域以及包围所述镭雕区域的抗氧化区域；所述抗氧化区域包括沿所述金属面层的边缘包围所述镭雕区域的外环区域。2.根据权利要求1所述的金属表面结构，其特征在于，所述镭雕区域中设有若干通孔，所述抗氧化区域还包括与所述通孔的数量一致并一一环绕所述通孔的内环区域。3.根据权利要求2所述的金属表面结构，其特征在于，所述外环区域与所述内环区域的宽度均为0.5mm
‑
2mm。4.根据权利要求1所述的金属表面结构，其特征在于，还包括覆盖在所述金...

【专利技术属性】
技术研发人员：王亚文，
申请(专利权)人：闻泰通讯股份有限公司，
类型：新型
国别省市：