显示面板、移动终端制造技术

本发明专利技术提供了显示面板、移动终端，显示面板包括阵列基板、位于阵列基板上且位于非显示区内的挡墙结构、位于阵列基板上且位于显示区内的有机层组、位于有机层组远离阵列基板的一侧且位于显示区内的发光层，挡墙结构中的多个挡墙层包括位于阵列基板上的第一挡墙层和位于第一挡墙层上的第二挡墙层；其中，在显示面板的横截面中，本发明专利技术将第二挡墙层的宽度小于或者等于第一挡墙层的宽度，且有机层组的厚度与挡墙结构的厚度的差值的绝对值小于或等于第一预设阈值，降低了在制作过程中用于形成第二挡墙层的薄膜向用于形成第一挡墙层的薄膜流溢的风险，从而降低了第二挡墙层的厚度较低的风险，提高了挡墙结构工作的可靠性。提高了挡墙结构工作的可靠性。提高了挡墙结构工作的可靠性。

【技术实现步骤摘要】
显示面板、移动终端


[0001]本专利技术涉及显示
，尤其涉及显示器件的制造，具体涉及显示面板及其制作方法、移动终端。

技术介绍

[0002]随着对高屏占比产品需求的提升，CUP(Camera under Panel，屏下摄像头)技术应运而生。
[0003]其中，CUP产品中屏下摄像头区域中需要采用不同于其它区域中的金属材料的透明导电材料以保障摄像头的拍摄效果与摄像头区域正常的显示效果，与此同时，需要增设用于分隔有机膜层和其它膜层的有机膜层。随着有机膜层的数目的增加，由于有机膜层材料的流动性较强，加之多层有机膜层形成挡墙结构的宽度较小，有机膜层材料会向四周流溢，导致最终实际形成的挡墙结构的厚度远低于设计值，降低了挡墙结构工作的可靠性。
[0004]因此，现有的CUP产品中存在挡墙结构厚度过低的问题，急需改进。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于提供显示面板、移动终端，以解决现有的因挡墙结构中的上层的有机膜层向下层的有机膜层流溢而造成的厚度损失，从而导致的挡墙结构工作的可靠性较低的技术问题。
[0006]本专利技术实施例提供显示面板，所述显示面板包括显示区和围绕所述显示区的非显示区，所述显示面板包括：
[0007]阵列基板；
[0008]挡墙结构，所述挡墙结构位于所述阵列基板上且位于所述非显示区内，所述挡墙结构包括叠层设置的多个挡墙层，多个所述挡墙层包括位于所述阵列基板上的第一挡墙层和位于所述第一挡墙层上的第二挡墙层，在所述显示面板的横截面中，所述第二挡墙层的宽度小于或者等于所述第一挡墙层的宽度；
[0009]有机层组，位于所述阵列基板上且位于所述显示区内，所述有机层组的厚度与所述挡墙结构的厚度的差值的绝对值小于或等于第一预设阈值；
[0010]发光层，位于所述有机层组远离所述阵列基板的一侧且位于所述显示区内。
[0011]在一实施例中，所述预设第一阈值小于或者等于2微米。
[0012]在一实施例中，在所述显示面板的俯视视角中，所述第二挡墙层的边缘重叠于所述第一挡墙层的边缘，或者所述第二挡墙层的边缘位于所述第一挡墙层内。
[0013]在一实施例中，在所述显示面板的横截面中，所述第二挡墙层的侧边与所述第一挡墙层的侧边的间距小于或等于第二预设阈值。
[0014]在一实施例中，在每相邻两所述挡墙层中，较远离所述阵列基板的所述挡墙层的宽度小于较靠近所述阵列基板的所述挡墙层的宽度。
[0015]在一实施例中，所述阵列基板包括无机层组和位于所述无机层组内的薄膜晶体管
层，所述有机层组包括：
[0016]平坦层，位于所述无机层组靠近所述发光层的一侧；
[0017]像素定义层，位于所述平坦层靠近所述发光层的一侧；
[0018]支撑层，位于所述像素定义层靠近所述发光层的一侧；
[0019]其中，所述阵列基板远离所述支撑层的一侧至所述支撑层远离所述阵列基板的一侧的间距、所述阵列基板远离所述挡墙结构的一侧至所述挡墙结构远离所述阵列基板的一侧的间距，两者的差值小于或等于所述第一预设阈值。
[0020]在一实施例中，所述平坦层、所述像素定义层、所述支撑层三者中的至少一者所在层中设有至少一所述挡墙层，且每一所述挡墙层的组成材料和同层设置的所述平坦层、所述像素定义层或者所述支撑层的组成材料相同。
[0021]在一实施例中，所述平坦层包括：
[0022]第一平坦层，位于所述无机层组靠近所述发光层的一侧，所述第一平坦层上设有导电层；
[0023]第二平坦层，位于所述第一平坦层和所述导电层靠近所述发光层的一侧。
[0024]在一实施例中，在所述显示面板的横截面中，所述挡墙结构远离所述阵列基板的一侧的宽度大于或等于6微米。
[0025]在一实施例中，所述第一挡墙层内设有凹槽，所述第二挡墙层位于所述凹槽内。
[0026]在一实施例中，位于所述第二挡墙层上的多个所述挡墙层也位于所述凹槽内。
[0027]在一实施例中，位于所述第一挡墙层上的多个所述挡墙层中，至少一所述挡墙层内设有凹槽，且所述凹槽中设有至少一所述挡墙层。
[0028]在一实施例中，所述挡墙结构还包括：
[0029]至少一流溢层，至少一组相邻设置的两所述挡墙层中，所述流溢层自远离所述阵列基板的所述挡墙层的侧部至少延伸至靠近所述阵列基板的所述挡墙层的侧部。
[0030]本专利技术实施例提供移动终端，所述移动终端包括终端主体部和如上文任一所述的显示面板，所述终端主体部和所述显示面板组合为一体。
[0031]本专利技术提供了显示面板、移动终端，所述显示面板包括显示区和围绕所述显示区的非显示区，所述显示面板包括：阵列基板；挡墙结构，所述挡墙结构位于所述阵列基板上且位于所述非显示区内，所述挡墙结构包括叠层设置的多个挡墙层，多个所述挡墙层包括位于所述阵列基板上的第一挡墙层和位于所述第一挡墙层上的第二挡墙层，在所述显示面板的横截面中，所述第二挡墙层的宽度小于或者等于所述第一挡墙层的宽度；有机层组，位于所述阵列基板上且位于所述显示区内，所述有机层组的厚度与所述挡墙结构的厚度的差值的绝对值小于或等于第一预设阈值；发光层，位于所述有机层组远离所述阵列基板的一侧且位于所述显示区内。本专利技术通过将所述第二挡墙层的宽度设置为小于或者等于所述第一挡墙层的宽度，加之以所述有机层组的厚度与所述挡墙结构的厚度的差值的绝对值小于或等于第一预设阈值作为限定，即可以降低在制作过程中用于形成所述第二挡墙层的薄膜向用于形成所述第一挡墙层的薄膜流溢的风险，从而降低了所述第二挡墙层的厚度较低的风险，提高了所述挡墙结构工作的可靠性。
附图说明
[0032]下面通过附图来对本专利技术进行进一步说明。需要说明的是，下面描述中的附图仅仅是用于解释说明本专利技术的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0033]图1为本专利技术实施例提供的第一种显示面板的截面示意图。
[0034]图2为本专利技术实施例提供的第二种显示面板的截面示意图。
[0035]图3为本专利技术实施例提供的第三种显示面板的截面示意图。
[0036]图4为本专利技术实施例提供的第四种显示面板的截面示意图。
[0037]图5为本专利技术实施例提供的第五种显示面板的截面示意图。
[0038]图6为本专利技术实施例提供的第六种显示面板的截面示意图。
[0039]图7为本专利技术实施例提供的显示面板的制作方法的流程图。
具体实施方式
[0040]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述。显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0041]在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“远离本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括显示区和围绕所述显示区的非显示区，所述显示面板包括：阵列基板；挡墙结构，所述挡墙结构位于所述阵列基板上且位于所述非显示区内，所述挡墙结构包括叠层设置的多个挡墙层，多个所述挡墙层包括位于所述阵列基板上的第一挡墙层和位于所述第一挡墙层上的第二挡墙层，在所述显示面板的横截面中，所述第二挡墙层的宽度小于或者等于所述第一挡墙层的宽度；有机层组，位于所述阵列基板上且位于所述显示区内，所述有机层组的厚度与所述挡墙结构的厚度的差值的绝对值小于或等于第一预设阈值；发光层，位于所述有机层组远离所述阵列基板的一侧且位于所述显示区内。2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述预设第一阈值小于或者等于2微米。3.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，在所述显示面板的俯视视角中，所述第二挡墙层的边缘重叠于所述第一挡墙层的边缘，或者所述第二挡墙层的边缘位于所述第一挡墙层内。4.如权利要求1或3所述的显示面板，其特征在于，在所述显示面板的横截面中，所述第二挡墙层的侧边与所述第一挡墙层的侧边的间距小于或等于第二预设阈值。5.如权利要求1或3所述的显示面板，其特征在于，在每相邻两所述挡墙层中，较远离所述阵列基板的所述挡墙层的宽度小于较靠近所述阵列基板的所述挡墙层的宽度。6.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板包括无机层组和至少位于所述无机层组内的薄膜晶体管层，所述有机层组包括：平坦层，位于所述无机层组靠近所述发光层的一侧；像素定义层，位于所述平坦层靠近所述发光层的一侧；支撑层，位于所述像素定义层靠近所述发光层的一侧；其中，所述阵列基板远离所述支撑层的一侧至所述支撑层...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈辰，
申请(专利权)人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：