本实用新型专利技术公开了一种石英晶片研磨装置，涉及石英晶片处理技术领域，包括安装板、滑台、第一丝杆滑台、连接板、底座、转轴、转盘、研磨吸尘组件和两个滑轨，两个所述滑轨对称设置在安装板的顶部，所述滑台滑动安装在两个滑轨上，所述第一丝杆滑台水平设置在安装板的顶部，所述连接板的两端分别与第一丝杆滑台的移动端和滑台连接，所述底座设置在滑台的顶部，所述转轴转动安装在底座的顶部，所述转盘与转轴的顶部连接，所述研磨吸尘组件设置在安装板的顶部。部。部。
【技术实现步骤摘要】
一种石英晶片研磨装置
[0001]本技术涉及石英晶片处理
，尤其是涉及一种石英晶片研磨装置。
技术介绍
[0002]石英晶体片具有压电效应，受到外加交变电场的作用时会产生机械振动，当交变电场的频率与石英晶体的固有频率相同时，振动便变得很强烈，是石英晶体振荡器的核心部件；石英晶体在使用时，需进行研磨处理，以得到品质较高的石英晶片。
[0003]现有的研磨装置单次调节后只能对相同直径的石英晶片进行研磨，当需要对不同直径的石英晶片研磨时，需要再次调节匹配，使用繁琐，并且研磨时产生的粉尘直接混入空气中，影响空气质量。
技术实现思路
[0004]本技术的目的在于提供一种石英晶片研磨装置，以解决现有技术中研磨装置单次调节后只能对相同直径的石英晶片进行研磨，当需要对不同直径的石英晶片研磨时，需要再次调节匹配，使用繁琐，并且研磨时产生的粉尘直接混入空气中，影响空气质量的技术问题。
[0005]本技术提供一种石英晶片研磨装置，包括安装板、滑台、第一丝杆滑台、连接板、底座、转轴、转盘、研磨吸尘组件和两个滑轨，两个所述滑轨对称设置在安装板的顶部，所述滑台滑动安装在两个滑轨上，所述第一丝杆滑台水平设置在安装板的顶部，所述连接板的两端分别与第一丝杆滑台的移动端和滑台连接，所述底座设置在滑台的顶部，所述转轴转动安装在底座的顶部，所述转盘与转轴的顶部连接，所述研磨吸尘组件设置在安装板的顶部。
[0006]进一步的，所述研磨吸尘组件包括支撑架、固定架、限位轨、升降块、第一液压推杆、L型板、第二液压推杆、移动块、转动座、研磨砂轮、压紧部件、收集箱和吸尘部件，所述支撑架和固定架间隔设置在安装板的顶部，所述支撑架的侧壁上设有通槽，所述限位轨竖直设置在固定架的侧壁上，所述升降块滑动安装在限位轨上，所述第一液压推杆竖直设置在固定架的底端，并且第一液压推杆的输出端与升降块的底部连接，所述L型板安装在升降块的外壁上，所述第二液压推杆水平设置在L型板的顶部，所述移动块安装在第二液压推杆的输出端上，并且移动块的一端位于通槽内，所述转动座安装在移动块的外壁上，所述研磨砂轮转动安装在转动座内，所述压紧部件设置在支撑架的顶端，所述收集箱安装在支撑架的顶部，所述吸尘部件设置在转动座的顶部，并且吸尘部件的顶端延伸至与收集箱相连通。
[0007]进一步的，所述压紧部件包括滑动环、旋转盘、压紧气缸和压紧板，所述滑动环滑动安装在支撑架的顶端，所述旋转盘与滑动环的底部连接，所述压紧气缸竖直设置在旋转盘的底部，所述压紧板与压紧气缸的输出端连接。
[0008]进一步的，所述吸尘部件包括承载架、调节轴、吸斗、抽风机、软管、连接管、扇形齿轮和驱动件，所述承载架设置在转动座的顶部，所述承载架的顶端设有调节槽，所述调节轴
转动安装在调节槽内，并且调节轴的一端延伸至承载架的外部，所述扇形齿轮与调节轴延伸至承载架外部的一端连接，所述吸斗的顶端安装在调节轴上，所述抽风机水平设置在支撑架的顶部，所述软管的两端分别与抽风机的输入端和吸斗相连通，所述连接管的两端分别与抽风机的输出端和收集箱相连通，所述驱动件安装在承载架的顶部。
[0009]进一步的，所述驱动件包括连接架、导轨、调节块、齿条、推块和电动推杆，所述连接架设置在承载架的顶部，所述导轨水平设置在连接架的顶端，所述调节块滑动安装在导轨上，所述齿条安装在调节块的底部，并且齿条与扇形齿轮啮合，所述推块设置在调节块的外壁上，所述电动推杆水平设置在连接架的顶端，并且电动推杆的输出端与调节块连接。
[0010]进一步的，所述安装板的底部设有四个支撑柱。
[0011]与现有技术相比较，本技术的有益效果在于：
[0012](1)本技术当滑台带动转盘移动至靠近支撑架处时，此时压紧部件与转盘上的石英晶片对应，然后压紧部件工作对石英晶片进行压紧限位，同时第二液压推杆带动移动块移动，移动块带动研磨砂轮移动至与石英晶片的外侧壁抵触，适用于对不同直径的石英晶片进行研磨，无需手动调节匹配，使用便捷；
[0013](2)本技术研磨砂轮对转动的石英晶片的外侧壁进行均匀研磨，当石英晶片的厚度大于研磨砂轮厚度时，第一液压推杆工作带动升降块在限位轨上移动，升降块带动研磨砂轮移动，方便研磨砂轮对石英晶片的外侧壁所有处进行均匀研磨；
[0014](3)本技术通过抽风机工作吸取研磨产生的粉尘经过吸斗、软管和连接管进入至收集箱内回收，驱动件能够带动扇形齿轮在一定范围内往复转动，扇形齿轮带动调节轴和吸斗在一定范围内往复转动，增大吸斗的吸尘范围，提高吸斗的吸尘效率。
附图说明
[0015]为了更清楚地说明本技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0016]图1为本技术的立体结构示意图一；
[0017]图2为本技术的立体结构示意图二；
[0018]图3为本技术的研磨吸尘组件的立体结构示意图；
[0019]图4为本技术的研磨吸尘组件的主视图；
[0020]图5为本技术的研磨吸尘组件的局部立体结构示意图一；
[0021]图6为本技术的研磨吸尘组件的局部立体结构示意图二。
[0022]附图标记：
[0023]安装板1，支撑柱11，滑台2，第一丝杆滑台3，连接板4，底座5，转轴6，转盘7，研磨吸尘组件8，支撑架81，通槽811，固定架82，限位轨83，升降块84，第一液压推杆85，L型板86，第二液压推杆861，移动块862，转动座863，研磨砂轮864，压紧部件87，滑动环871，旋转盘872，压紧气缸873，压紧板874，收集箱88，吸尘部件89，承载架891，调节槽8911，调节轴892，吸斗893，抽风机894，软管895，连接管896，扇形齿轮897，驱动件898，连接架8981，导轨8982，调节块8983，齿条8984，推块8985，电动推杆8986，滑轨9。
具体实施方式
[0024]下面将结合附图对本技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。
[0025]通常在此处附图中描述和显示出的本技术实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本技术的范围，而是仅仅表示本技术的选定实施例。
[0026]基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0027]在本技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种石英晶片研磨装置，其特征在于：包括安装板(1)、滑台(2)、第一丝杆滑台(3)、连接板(4)、底座(5)、转轴(6)、转盘(7)、研磨吸尘组件(8)和两个滑轨(9)，两个所述滑轨(9)对称设置在安装板(1)的顶部，所述滑台(2)滑动安装在两个滑轨(9)上，所述第一丝杆滑台(3)水平设置在安装板(1)的顶部，所述连接板(4)的两端分别与第一丝杆滑台(3)的移动端和滑台(2)连接，所述底座(5)设置在滑台(2)的顶部，所述转轴(6)转动安装在底座(5)的顶部，所述转盘(7)与转轴(6)的顶部连接，所述研磨吸尘组件(8)设置在安装板(1)的顶部。2.根据权利要求1所述的一种石英晶片研磨装置，其特征在于：所述研磨吸尘组件(8)包括支撑架(81)、固定架(82)、限位轨(83)、升降块(84)、第一液压推杆(85)、L型板(86)、第二液压推杆(861)、移动块(862)、转动座(863)、研磨砂轮(864)、压紧部件(87)、收集箱(88)和吸尘部件(89)，所述支撑架(81)和固定架(82)间隔设置在安装板(1)的顶部，所述支撑架(81)的侧壁上设有通槽(811)，所述限位轨(83)竖直设置在固定架(82)的侧壁上，所述升降块(84)滑动安装在限位轨(83)上，所述第一液压推杆(85)竖直设置在固定架(82)的底端，并且第一液压推杆(85)的输出端与升降块(84)的底部连接，所述L型板(86)安装在升降块(84)的外壁上，所述第二液压推杆(861)水平设置在L型板(86)的顶部，所述移动块(862)安装在第二液压推杆(861)的输出端上，并且移动块(862)的一端位于通槽(811)内，所述转动座(863)安装在移动块(862)的外壁上，所述研磨砂轮(864)转动安装在转动座(863)内，所述压紧部件(87)设置在支撑架(81)的顶端，所述收集箱(88)安装在支撑架(81)的顶部，所述吸尘部件(89)设置在转动座(863)的顶部，并且吸尘部件(89)的顶端延伸至与收集箱(88)相连通。3.根据权利要求2所述的一种石英晶片研磨装置，其特征在于：所述压紧部件(87)包括滑动环(871)、旋转盘(872)...
【专利技术属性】
技术研发人员：杨华，
申请(专利权)人：瑞金市晨柏电子有限公司，
类型：新型
国别省市：
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