本发明专利技术提供了一种用于书法练习的标靶格和临摹字贴，以及基于该标靶格借助计算机图像处理技术的书法临摹字比对评价系统以及比对评价步骤。所述标靶格包括有正方形外框和靶心，设置于正方形外框中的外环线和内环线、中宫核心区、十字线、以及标注于内环线上的方位点。本发明专利技术还提供了一种书法临摹字比对评价系统，其包括有：临摹字采集模块、标靶格参数化模块、书法范本字字模数据库、临摹字与范本字比对评价模块。所述标靶格给书法学习者提供了更为方便的临帖参照系；书法临摹字比对评价系统使得书法学习者能够精确的知道自己的临摹作品与原贴范本字的具体差距。品与原贴范本字的具体差距。品与原贴范本字的具体差距。
【技术实现步骤摘要】
用于书法练习的标靶格和临摹字帖、基于标靶格的书法临摹字比对评价系统及比对评价步骤
[0001]本专利技术涉及一种用于书法练习的标靶格和临摹字贴，以及基于该标靶格借助计算机图像处理技术的书法临摹字比对评价系统以及比对评价步骤。
技术介绍
[0002]传统的中国书法学习采用临帖，主要是以临摹前人好的书法作品和字帖，学习书法家的精华，古人与今人都把临帖看作是中国书法入门的钥匙，是学习书法打好基础的不二方法。
[0003]目前在书法学习中，常采用田字格、米字格或九宫格等临摹格，但是这种传统的临摹格由于其对字体定位的局限性，缺少了更加精确的临摹参照系。同时，由于临摹参照系的不精确，导致无法形成明确的评价指标体系，从而使得学习者的临摹学习，只能停留在“像与不像”的“感觉”层面。对学习者的临摹作品与原贴范字的差距，也没有有效的手段，来作比对和评价。
[0004]本领域的技术人员一直在致力于改进书法学习的方式和书法练习的评价方式，以克服传统书法练习的不规范和低效率。
[0005]随着科学技术的进步，本领域的技术人员基于改进的临摹格的基础上，基于现代计算机图像处理技术开发出了一套智能书法临帖习字评价反馈系统。由于临摹格采用了改进的标靶格，增加了临摹过程中多元的参考，使得学习者能够更精确的判断字体的结构方式和笔画特点；同时在基于现代计算机图像处理技术而开发的智能书法临帖习字评价反馈系统的帮助下，使得书法学习者知道自己的临摹作品与原贴范字的具体差距，进而使得书法艺术教育从“感觉”迈入“科学”，有助于书法学习者理解经典字体的结构和笔法，指导其学习实践，提高学习的效率。
技术实现思路
[0006]本专利技术的目的之一在于增加书法学习者的临帖参照系。
[0007]为了实现上述目的，本专利技术提供了一种用于书法临帖的标靶格和临摹字帖。
[0008]所述用于书法临帖的标靶格包括有：正方形外框和靶心，所述靶心为正方形外框对角线的交叉点；正方形外框的内部设置有外环线和内环线，所述外环线和内环线的圆心与所述靶心重合，所述外环线为正方形外框的内切圆，所述内环线的半径为外环线半径的2/3；所述标靶格还包括有：中宫核心区：为一个小方格，中宫小方格是标靶格正方形外框边线到靶心的2/3处的点的连线形成的区域；十字线：通过靶心的两条垂直相交的线段，每段短线长度为中宫方格边长的1/2，靶心位于线段的中点，所述十字线用于在书法练习时引导学习者正确判断笔画的位置，也应用于随后计算机图像处理中将标靶格利用坐标参数化；四角禁地：正方形外框形成的区域被外环圆内切后，剩余的四角空间区域；内环线等分标识线：内环线上标注了内环线等分标识线，实现了对二维空间方向的多方位多角度精确定位，
使处于二维空间的点、线以及图形被更加直观和精确的描述和定位其处于正方形外框内的位置；所述内环线等分标识线优选为将内环等分为12段，且优选为在十二时辰方位点处标识，简称为十二时辰方位点。进一步地，所述正方形外框为实线，所述外环线和内环线的线型均为等长度等间隔的间隔线。
[0009]所述用于书法临帖的临摹字贴，其包括有多个成行和/或成列排列的如上所述的标靶格。所述成行和/或成列排列的标靶格的行与行之间设置有行间距和/或列与列之间设置有列间距。
[0010]本专利技术的目的之二在于使得书法学习者能够精确的知道自己的临摹作品与原贴范本字的具体差距。
[0011]为了实现上述目的，本专利技术提供了一种基于前述标靶格并借助计算机图像处理技术的书法临摹字比对评价系统和对比评价步骤。所述比对评价系统包括有如下模块：1：采集模块：用于采集临摹作品，所述临摹作品为一个单独的临摹字和/或一个具有一页或多页且每页包含有复数行复数列临摹字的作品；采集模块采集临摹作品，并给采集到的文件和为临摹作品中的每一个临摹字及构成临摹字的偏旁、笔画进行要素定位、标识；2：标靶格参数化模块：标靶格参数化模块：标靶格参数化模块通过以所述标靶格的靶心为坐标原点，所述标靶格的十字线的横线延长线和纵线延长线为坐标轴对随后嵌入标靶格中的临摹字进行坐标参数化和/或在建立字模库范本字字模时对范本字进行参数化；所述标靶格参数化模块提取嵌入其中的临摹字的要素；在嵌入的过程中，如果临摹字太大或太小，要对临摹字进行等比例缩放以符合标准标靶格；3：书法范本字字模数据库：所述书法范本字字模数据库是将传统书法临帖中的各种字帖中的每一个范本字经过所述标靶格参数化模块参数化后并编号存储最终形成的字模数据库；4：临摹字与范本字比对评价模块：通过所述标靶格参数化模块提取的临摹字的要素在书法范本字字模数据库中检索出最接近的范本字字模，然后将经过标靶格参数化的临摹字代入到所述检索到的范本字字模中，并将参数化临摹字与范本字基于多个相同的参数重合，随后比对临摹字和范本字的其它要素，并将比对结果转化为综合评价报告输出。
[0012]进一步地，所述采集模块通过扫描或拍照等方式将临摹作品输入到采集模块。
[0013]进一步地，为了定位采集到的临摹作品中的每一个临摹字，所述采集模块将采集到的临摹作品的具体页通过P1
‑
Pn定义，并且所述采集模块将采集到的临摹作品的具体某一页的某一个字通过R(rows)和C(columns)定位。
[0014]进一步地，所述坐标将标靶格分为四象限，进而实现了对处于标靶格中的任意一像素点的具体位置用坐标参数进行定义，其中靶心坐标为(X0,Y0)。
[0015]进一步地，所述标靶格参数化模块的参数化坐标轴单位根据程序的临摹分析精度来设定，要求分析的精度越精确，坐标轴单位就可以设置的越小。
[0016]进一步地，所述书法范本字字模数据库对每一本字帖的不同汉字进行不同编号，不同笔法的同一汉字也进行不同编号，经过参数化的每一个范本字均具有一个独有的编号，构成每一个范本字的偏旁、笔画要素也由参数化标靶格进行定义和标识。
[0017]进一步地，字模中范本字和临摹字的线型不同，字的轮廓颜色也不同，未重叠的部分为差异部分，评价系统基于未重叠的部分做出多个方面的综合评价。
[0018]进一步地，所述多个方面的综合评价包括有对布局大小、紧守中宫、重心点重合
度、结构平衡度、字的偏旁部首构成、字的笔画构成要素等方面的综合评价。
[0019]所述比对评价步骤具体如下：
[0020]SP1：通过扫描或者照相将临摹字输入到临摹字采集模块，临摹字分为临摹于标准标靶格中的临摹字或无表格临摹字；
[0021]SP2：将采集的临摹字等比例缩放后嵌入到标靶格中，利用标靶格参数化模块将采集的临摹字参数化，并提取临摹字的要素；
[0022]SP3：通过所述标靶格参数化模块提取的临摹字的要素，在书法范本字字模数据库中检索出最接近的范本字字模；
[0023]SP4：把临摹字与范本字字模进行重合匹配并展示比对效果；
[0024]SP5：把临摹字与范本字字模进行比对后给出综合反馈，且比对不一致的地方，显示为不同颜色，以方便书法学习者辨别。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于书法练习的标靶格,其特征在于，其包括有：正方形外框(1)和靶心(2)，所述靶心(2)为正方形外框(1)对角线的交叉点；正方形外框的内部设置有外环线(3)和内环线(4)，所述外环线(3)和内环线(4)的圆心与所述靶心重合，所述外环线(3)为正方形外框的内切圆，所述内环线(4)的半径为外环线半径的2/3；所述标靶格还包括有：中宫核心区(5)：为一个小方格，中宫小方格是标靶格正方形外框边线到靶心的2/3处的点的连线形成的区域；十字线(6)：通过靶心的两条垂直相交的线段，每段短线长度为中宫方格边长的1/2，靶心位于线段的中点，所述十字线用于在书法练习时引导学习者正确判断笔画的位置，也应用于随后计算机图像处理中将标靶格利用坐标参数化；四角禁地(7)：正方形外框形成的区域被外环圆内切后，剩余的四角空间区域；内环线等分标识线(8)：内环线上标注了内环线等分标识线，实现了对二维空间方向的多方位多角度精确定位，使处于二维空间的点、线以及图形被更加直观和精确的描述和定位其处于正方形外框内的位置。2.一种如权利要求1所述的用于书法练习的标靶格，其特征在于，所述正方形外框为实线，所述外环线和内环线的线型均为等长度等间隔的间隔线。3.一种用于书法练习的临摹字帖，其特征在于，其包括有多个成行和/或成列排列的标靶格，所述标靶格为如权利要求1所述的标靶格。4.一种如权利要求3所述的临摹字帖，其特征在于，所述成行和/或成列排列的标靶格的行与行之间设置有行间距(9)和/或列与列之间设置有列间距。5.一种基于权利要求1所述标靶格的书法临摹字比对评价系统，通过计算机图像处理技术实现图形比对，其特征在于，其包括有如下模块：采集模块：用于采集临摹作品，所述临摹作品为一个单独的临摹字和/或一个具有一页或多页且每页包含有复数行复数列临摹字的作品；采集模块采集临摹作品，并给采集到的文件和为临摹作品中的每一个临摹字及构成临摹字的偏旁、笔画进行要素定位、标识；标靶格参数化模块：标靶格参数化模块通过以所述标靶格的靶心为坐标原点，所述标靶格的十字线的横线延长线和纵线延长线为坐标轴对随后嵌入标靶格中的临摹字进行坐标参数化和/或在建立字模库范本字字模时对范本字进行参数化；所述标靶格参数化模块提取嵌入其中的临摹字的要素；在嵌入的过程中，如果临摹字太大或太小，要对临摹字进行等比例缩放以符合标准标靶格；书法范本字字模数据库：所述书法范本字字模数据库是将传统书法临帖中的各种字帖中的每一个范本字经过所述标靶格参数化模块参数化后并编号存储最终形成的字模数据库；临摹字与范本字比对评价模块：通过所述标靶格参数化模块提取的临摹字的要素在书法范本字字模数据库中检索出最接近的范本字...
【专利技术属性】
技术研发人员：蒋德雷，蒋志骐，
申请(专利权)人：上海指通信息科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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