【技术实现步骤摘要】
一种半导体废气处理用进气系统及控制方法
[0001]本专利技术涉及半导体废气处理
,尤其涉及一种半导体废气处理用进气系统及控制方法。
技术介绍
[0002]在半导体制造、液晶面板制造中废气处理装置是很重要的一个附属设备,它的正常运行可以确保将制造设备排出的有毒有害气体完全处理。因此设备的稳定性也关联了生产的连续性,目前设备进气管路通过相同管径的管路相连接,当气量突然变大时,由于没有缓冲装置,导致废气处理装置进气口压力升高,造成设备停机,影响制造设备的运行,因此解决进气口压力突变的问题至关重要。
技术实现思路
[0003]本专利技术旨在解决现有技术中存在的技术问题。为此,本专利技术提供一种半导体废气处理用进气系统及控制方法,目的是对废气流量进行控制,防止短暂的气量增加影响设备的正常运行。
[0004]基于上述目的,本专利技术提供了一种半导体废气处理用进气系统,包括废气进气管路,废气进气管路的出口端与废气处理装置连接,所述废气进气管路的出口端设有第一压力传感器,所述进气系统还包括气体缓存罐和用于将废 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种半导体废气处理用进气系统,包括废气进气管路,废气进气管路的出口端与废气处理装置连接,其特征在于,所述废气进气管路的出口端设有第一压力传感器,所述进气系统还包括气体缓存罐和用于将废气进气管路中的废气导向气体缓存罐且对气体缓存罐的出气调压后回流向废气进气管路出口端的气体缓存进气管路。2.根据权利要求1所述半导体废气处理用进气系统,其特征在于,所述废气进气管路包括第一废气进气管、第二废气进气管和连接第一废气进气管与第二废气进气管的第一开关阀,所述第二废气进气管的出口端与废气处理装置连接,所述第一压力传感器设于第二废气进气管的出口端。3.根据权利要求2所述半导体废气处理用进气系统,其特征在于,所述气体缓存进气管路包括缓存输送管和第一回流管,所述缓存输送管上设有第二开关阀,所述第一回流管上设有调节阀,所述缓存输送管的进口端与第一废气进气管连接,缓存输送管的出口端与气体缓存罐的进气口连接,所述气体缓存罐的第一出气口通过第一回流管与第二废气进气管的出口端连接。4.根据权利要求3所述半导体废气处理用进气系统,其特征在于,所述进气系统还包括用于检测气体缓存罐内部压力的第二压力传感器。5.根据权利要求4所述半导体废气处理用进气系统,其特征在于,所述废气进气管路还包括设于第一废气进气管上的三通阀,三通阀的排气口与排气管路连接,所述缓存输送管的进口端与三通阀的出气口连通,所述进气系统还包括第二回流管和设于第二回流管上的第三开关阀,所述第二回流管的一端与气体缓存罐的第二出气口连接,第二回流管的另一端与第一废气进气管的进口端连接。6.根据权利要求5所述半导体废气处理用进气系统,其特征在于,所述第一废气进气管的进气端设有第三压力传感器。7.根据权利要求6所述半导体废气处理用进气系统,其特征在于,所述进气系统还包括控制器,所述第一开关阀、第二开...
【专利技术属性】
技术研发人员:杨春水,张坤,杨春涛,
申请(专利权)人:安徽京仪自动化装备技术有限公司,
类型:发明
国别省市:
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