掩模组件以及用于制造掩模组件的方法技术

本发明专利技术提供了掩模组件以及用于制造掩模组件的方法。该掩模组件包括：其中限定有第一开口的掩模框架，掩模框架包括第一开口延伸通过的前表面；以及沉积掩模，附接到掩模框架的前表面，并且多个第二开口被限定为通过沉积掩模。掩模框架包括其中前表面沿着重力方向延伸的附接定向，沉积掩模包括附接到在附接定向中的掩模框架的前表面并且多个第二开口被限定为通过的初始掩模，并且具有沿着重力方向延伸的前表面的掩模框架的附接定向沿着重力方向将掩模框架的第一开口设置为对应于初始掩模的多个第二开口中的全部。的多个第二开口中的全部。的多个第二开口中的全部。

【技术实现步骤摘要】
掩模组件以及用于制造掩模组件的方法
[0001]本申请要求于2020年8月31日提交的第10
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2020
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0110613号韩国专利申请的优先权以及由此产生的所有权益，其全部内容通过引用并入本文。


[0002]本公开在本文中涉及沉积掩模、提供(或制造)沉积掩模的方法以及使用沉积掩模提供(或制造)显示面板的方法。更具体地，本公开在本文中涉及金属沉积掩模、提供金属沉积掩模的方法以及通过使用金属沉积掩模提供显示面板的方法。

技术介绍

[0003]显示面板包括多个像素。像素中的每一个包括诸如晶体管的驱动元件以及诸如有机发光二极管的显示元件。可以通过在基板上堆叠电极和发光图案来设置显示元件。
[0004]通过使用其中限定有穿透孔(例如，沉积孔)的沉积掩模来图案化发光图案，以将发光图案设置在沉积掩模的区域中。发光图案可以在沉积掩模的通过其穿透孔暴露于沉积掩模外部的区域中提供给目标。

技术实现思路

[0005]本公开提供了可提高可靠性并且降低成本的用于制造大面积显示面板的掩模以及制造掩模的方本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩模组件，包括：掩模框架，第一开口被限定在所述掩模框架中；以及沉积掩模，多个第二开口被限定在所述沉积掩模中，其中，所述第一开口与所述多个第二开口中的全部重叠。2.根据权利要求1所述的掩模组件，其中，所述沉积掩模被提供为多个沉积掩模，并且所述多个沉积掩模与所述第一开口重叠。3.根据权利要求1所述的掩模组件，其中：所述第一开口被提供为多个第一开口；所述沉积掩模被提供为多个沉积掩模；并且所述多个沉积掩模设置为分别与所述多个第一开口相对应。4.根据权利要求1所述的掩模组件，进一步包括设置在所述掩模框架和所述沉积掩模之间的中间框架，其中，多个第三开口被限定在所述中间框架中，并且所述第一开口与所述多个第三开口中的全部重叠。5.根据权利要求4所述的掩模组件，其中，所述多个第二开口与所述多个第三开口中的一个重叠。6.根据权利要求1至5中任一项所述的掩模组件，其中，所述沉积掩模和所述掩模框架包含金属。7.一种用于制造掩模组件的方法，所述方法包括：提供掩模框架，第一开口被限定在所述掩模框架中以延伸通过所述掩模框架的前表面，所述掩模框架包括其中所述前表面沿着重力方向延伸的附接定向；提供初始沉积掩模，多个第二开口被限定在所述初始沉积掩模中；提供初始掩模组件，所述初始掩模组件包括处于所述附接定向的所述掩模框架，并且具有附接到所述掩模框架的沿着所述重力方向延伸的所述前表面的所述初始沉积掩模；以及提供所述初始掩模组件的所述初始沉积掩模的从所述初始沉积掩模的剩余部分分离的一部分，以提供所述掩模组件的作为所述初始沉积掩模的所述剩余部分的沉积掩模，其中，包括处于所述附接定向的所述掩模框架的所述初始掩模组件包括所述掩模框架的沿着所述重力方向与所述初始沉积掩模的所述多个第二开口中的每一个相对应的所述第一开口。8.根据权利要求7所述的方法，其中，所述初始掩模组件的所述提供包括提供附接到保持工具的所述初始沉积掩模，所述保持工具维持所述初始沉积掩模与所述掩模框架的沿着所述重力方向延伸的所述前表面平行...

【专利技术属性】
技术研发人员：文英慜，文敏浩，宋昇勇，任星淳，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：