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本发明提供了掩模组件以及用于制造掩模组件的方法。该掩模组件包括：其中限定有第一开口的掩模框架，掩模框架包括第一开口延伸通过的前表面；以及沉积掩模，附接到掩模框架的前表面，并且多个第二开口被限定为通过沉积掩模。掩模框架包括其中前表面沿着重力方...
该专利属于三星显示有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过三星显示有限公司授权不得商用。

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