一种蒸发源组件和蒸发镀膜设备制造技术

技术编号:32476446 阅读:20 留言:0更新日期:2022-03-02 09:38
本实用新型专利技术公开了一种蒸发源组件和蒸发镀膜设备。该蒸发源组件包括分配管,分配管上设有多个蒸发孔;多个沿分配管的长度方向依次排列的蒸发源,并且每个蒸发源均与分配管连通。由于每个蒸发源均与分配管连通,亦即每个蒸发源均通过分配管实现连通,各个蒸发源之间的蒸气能够流通,使得正对蒸发源的位置处与相邻蒸发源之间位置处的蒸气更加均匀,提高了同一基板上不同位置处的膜层均匀性;同时,由于各个蒸发源之间的蒸气能够流通,使得其中一个蒸发源中的原料蒸发完毕后,其他蒸发源中的蒸气能够通过分配管进入该蒸发源,减少蒸发源干耗现象的发生,减少蒸发镀膜设备宕机次数,延长蒸发镀膜设备的镀膜周期。长蒸发镀膜设备的镀膜周期。长蒸发镀膜设备的镀膜周期。

【技术实现步骤摘要】
一种蒸发源组件和蒸发镀膜设备


[0001]本技术涉及镀膜设备
,尤其涉及一种蒸发源组件和蒸发镀膜设备。

技术介绍

[0002]目前,蒸发镀膜设备通常在玻璃基板的下方设置多组线性排列的蒸发源,蒸发镀膜时经常出现正对蒸发源的膜层厚度与相邻蒸发源之间的膜层厚度相差较大,导致同一基板上不同位置处的膜层均匀性较低;并且,当其中一个蒸发源中的原料蒸发完毕后,该蒸发源经常发生干耗现象,迫使蒸发镀膜设备宕机,使蒸发镀膜设备的镀膜周期变短。
[0003]因此,如何提升膜层的均匀性,并延长蒸发镀膜设备的镀膜周期,是本领域技术人员目前需要解决的技术问题。

技术实现思路

[0004]有鉴于此,本技术的目的在于提供一种蒸发源组件,以便于提升膜层的均匀性。
[0005]为了实现上述目的,本技术提供了如下技术方案:
[0006]一种蒸发源组件,包括:
[0007]分配管,所述分配管上设有多个蒸发孔;
[0008]多个沿所述分配管的长度方向依次排列的蒸发源,并且每个所述蒸发源均与所述分配管连通。r/>[0009]优本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蒸发源组件,其特征在于,包括:分配管,所述分配管上设有多个蒸发孔;多个沿所述分配管的长度方向依次排列的蒸发源,并且每个所述蒸发源均与所述分配管连通。2.根据权利要求1所述的蒸发源组件,其特征在于,所述分配管为石英管。3.根据权利要求1所述的蒸发源组件,其特征在于,所述蒸发源的出口直接嵌入所述分配管的外壁。4.根据权利要求1所述的蒸发源组件,其特征在于,所述蒸发源为蒸发舟或者坩埚。5.根据权利要求4所述的蒸发源组件,其特征在于,所述蒸发舟为钼舟、钨舟或者石墨舟...

【专利技术属性】
技术研发人员:李梦洁熊继光赵志国赵东明秦校军冯笑丹刘家梁李新连张赟
申请(专利权)人:华能新能源股份有限公司
类型:新型
国别省市:

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