基板处理装置及基板搬运方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种处理基板的装置。处理基板的装置可以包括：壳体，具有处理空间；传送机器人，将基板搬入所述处理空间，或者从所述处理空间搬出基板；支撑单元，具有在所述处理空间中支撑基板的卡盘以及在上下方向上移动基板的升降销；电介质板，配置为其底面与所述卡盘的顶面相对；以及间隔测量单元，测量所述电介质板和由所述升降销支撑的基板之间或者所述电介质板和所述卡盘之间的间隔。电介质板和所述卡盘之间的间隔。电介质板和所述卡盘之间的间隔。

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置及基板搬运方法


[0001]本专利技术涉及基板处理装置及基板搬运方法。

技术介绍

[0002]等离子体是指由离子、自由基和电子等组成的离子化气态，由非常高的温度、强磁场或高频电磁场(RF Electromagnetic Fields)产生。半导体元件制造工序包括使用等离子体来去除基板上的膜状物的灰化或蚀刻工序。灰化或蚀刻工序是通过等离子体中包含的离子和自由基粒子与基板上的膜状物碰撞或反应来执行的。
[0003]使用等离子体来处理基板的基板处理装置，具有：工序室；卡盘，在工序室内支撑基板；升降销，在上下方向上移动基板；以及搬运机器人，将基板搬运到工序室。当搬运机器人将基板搬入工序室时，升降销升高，并且从搬运机器人接收基板。之后，升降销降低，并且将基板安置在卡盘上。另外，当搬运机器人从工序室搬出基板时，升降销升高，并且将基板与卡盘分离。之后，搬运机器人从升降销接收基板，并且从工序室搬出基板。
[0004]然而，当搬运机器人将基板传递到升降销上时，如果基板已经放置在升降销上，则搬运机器人的手可能会与放置在升降销上的基板碰撞本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基板处理装置，其中，包括：壳体，具有处理空间；传送机器人，将基板搬入所述处理空间，或者从所述处理空间搬出基板；支撑单元，具有在所述处理空间中支撑基板的卡盘以及将基板在上下方向上移动的升降销；电介质板，配置为其底面与所述卡盘的顶面相对；以及间隔测量单元，测量所述电介质板和由所述升降销支撑的基板之间的间隔或者所述电介质板和所述卡盘之间的间隔。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述间隔测量单元包括：照射部，用于照射光；以及光接收部，配置在所述光的行进路径上，并且接收所述光。3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，所述壳体包括设置成彼此相对的一对观察口，所述照射部安装在所述一对观察口中的任意一个上，所述光接收部安装在所述一对观察口中的另一个上。4.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，设置有多个所述间隔测量单元，当从顶部观察时，由多个所述间隔测量单元中的任意一个间隔测量单元的照射部照射的光的行进路径和由多个所述间隔测量单元中的另一个间隔测量单元的照射部照射的光的行进路径垂直。5.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，当基板放置在所述升降销时，所述间隔测量单元测量基板的顶面与所述电介质板的底面之间的间隔，当基板未放置在所述升降销时，所述间隔测量单元测量所述卡盘的顶面与所述电介质板的底面之间的间隔。6.根据权利要求1至5中任一项所述的基板处理装置，其中，所述基板处理装置还包括控制器，所述控制器控制所述支撑单元和所述间隔测量单元，以使所述升降销升高，并且在使所述升降销升高的状态下测量所述间隔。7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其中，所述控制器存储距离所述电介质板的底面的间隔为第一间隔的上限设定值和/或距离所述电介质板的底面的间隔为小于所述第一间隔的第二间隔的下限设定值，所述控制器将测量的所述间隔与所述上限设定值和/或所述下限设定值进行比较，以确定是否将基板搬入所述处理空间或者从所述处理空间搬出基板。8.根据权利要求7所述的基板处理装置，其中，所述控制器在将基板搬入所述处理空间时将所述间隔与所述上限设定值进行比较，当所述间隔大于所述上限设定值时，所述控制器控制所述传送机器人将基板搬入所述处理空间。
9.根据权利要求7所述的基板处理装置，其中，所述控制器在将...

【专利技术属性】
技术研发人员：李锺澯，崔緍湖，崔釉珍，金爹忎，
申请(专利权)人：PSK有限公司，
类型：发明
国别省市：